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The properties of Nitrogenated Amorphous Carbon films Grown by Microwave Surface-wave Plasma CVD: Effects of Gas Composition Pressure
The Properties of Nitrogenated Amorphous Carbon Films Grown ...
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第十五届国际光伏科学与工程大会
作者： Sudip Adhikari Hare Ram Aryal Ashraf M.M.Omer Sunil Adhikary Hideo Uchida Masayoshi Umeno Department of Electrical and Electronic Engineering Chubu University1200 Matsumoto-choKasugai 487-8501Japan Department of Electrical and Electronic Engineering Chubu University1200 Matsumoto-choKasugai 487-8501Japan Department of Electrical and Electronic Engineering Chubu University1200 Matsumoto-choKasugai 487-8501Japan Department of Electronics and Information Engineering Chubu University1200 Matsumoto-choKasugai 487-8501Japan Department of Electronics and Information Engineering Chubu University1200 Matsumoto-choKasugai 487-8501Japan Department of Electronics and Information Engineering Chubu University1200 Matsumoto-choKasugai 487-8501Japan
＜正＞ Nitrogenated amorphous carbon （a-C:N） thin films were grown on p-type silicon and quartz substrates by microwave surface wave plasma chemical vapor deposition （CVD） with various gas composition pressures （... 详细信息
来源： cnki会议 评论
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