咨询与建议
  • 全部检索
  • 电子图书
  • 电子期刊
  • 纸本馆藏
  • 南通市公共图书馆
高级检索

限定检索结果

文献类型

  • 1 篇 期刊文献
  • 1 篇 会议

馆藏范围

  • 2 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电气工程
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 2 篇 bulk microstruct...
  • 2 篇 electrical isola...
  • 1 篇 deep reactive io...
  • 1 篇 monolithic inte...
  • 1 篇 monolithic integ...
  • 1 篇 deep reactive io...

机构

  • 1 篇 北京大学

作者

  • 1 篇 wang cheng-wei
  • 1 篇 wang yang-yuan i...
  • 1 篇 朱泳
  • 1 篇 yan gui-zhen
  • 1 篇 zhu yong
  • 1 篇 china
  • 1 篇 王阳元
  • 1 篇 zhou jian
  • 1 篇 fan jie
  • 1 篇 闫桂珍
  • 1 篇 yang zhen-chuan
  • 1 篇 peking universit...
  • 1 篇 周健
  • 1 篇 杨振川
  • 1 篇 beijing
  • 1 篇 王成伟
  • 1 篇 范杰

语言

  • 1 篇 英文
  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=Electrical isolation trenches"
共 2 条 记 录，以下是1-10 订阅
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到"检索档案"
详细 简洁
排序：
Fabrication of Ultra Deep electrical isolation trenches with High Aspect Ratio Using DRIE and Dielectric Refill
收藏
分享
引用
Journal of Semiconductors 2005年 第1期26卷 16-21页
作者： 朱泳 闫桂珍 王成伟 杨振川 范杰 周健 王阳元 北京大学微电子学研究所微米/纳米加工技术国家重点实验室 北京100871
A novel technique to fabricate ultra deep high aspect ratio electrical isolation trenches with DRIE and dielectric refill is *** relationship between trench profile and DRIE parameters is *** optimizing DRIE parameter... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
Fabrication of Ultra Deep High Aspect Ratio electrical isolation trenches Using DRIE and Dielectric Refill
Fabrication of Ultra Deep High Aspect Ratio Electrical Isola...
收藏
分享
引用
第三届国际仪器科学技术学术研讨会
作者： ZHU Yong YAN Gui-zhen WANG Cheng-wei YANG Zhen-chuan FAN Jie ZHOU Jian WANG Yang-yuan Institute of Microelectronics Peking University Beijing 100871 China
This paper presents a novel technique to fabricate ultra deep high aspect ratio electrical isolation trenches using DRIE and dielectric refill. The relationship between trench profile and DRIE paramet
来源： cnki会议 评论
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到“检索档案”
共1页 <<  < 1 >  >>
回到顶部
执行限定条件