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作者

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  • 1 篇 殷生毅
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  • 1 篇 陈光华
  • 1 篇 曹培江
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  • 1 篇 张文理

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  • 4 篇 中文
检索条件"主题词=ECR—CVD"
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催化剂、基底对ecr-cvd法制备碳纳米管的影响
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东北大学学报（自然科学版） 2004年 第10期25卷 980-983页
作者： 王志 巴德纯 蔺增 刘飞 东北大学机械工程与自动化学院 辽宁沈阳110004 中国科学院物理研究所 北京100083
采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术(ecr cvd),CH4和H2为气源,分别以Fe3O4,Co纳米粒子及Fe(NO)3溶胶为催化剂在多孔硅基底上制备了碳纳米管;在Si(111)和石英基底上以Fe3O4纳米粒子为催化剂实现了碳纳米管的生长·使用扫描电... 详细信息
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硼掺杂对碳纳米管形貌和结构的影响
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东北大学学报（自然科学版） 2005年 第6期26卷 582-584页
作者： 王志 巴德纯 曹培江 梁吉 东北大学机械工程与自动化学院 辽宁沈阳110004 深圳大学理学院 广东深圳518060 清华大学机械工程系 北京100084
以Fe3O4纳米粒子为催化剂,CH4,B2H6和H2为气源,采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术(ecr cvd)在多孔硅基底上制备出了掺硼碳纳米管薄膜·使用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、能量色散X射线谱(EDX)和X射线光电子谱... 详细信息
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厚度对DLC薄膜内应力的影响研究
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功能材料 2011年 第B02期42卷 102-105页
作者： 谷坤明 吕乐阳 毛斐 虞烈 汤皎宁 深圳大学材料学院 深圳市特种功能材料重点实验室广东深圳518060 西安交通大学机械学院 陕西西安710049
采用ecr微波等离子体增强化学气相沉积的方法于C2H2/H2/Ar2等离子环境中在单晶Si(111)晶面上制备了不同厚度的DLC膜样品,研究了薄膜的厚度随沉积时间的变化及薄膜的硬度、内应力随厚度的变化关系。结果表明,在沉积时间变化范围内,厚度... 详细信息
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一种新型磁场MWecr-cvd和氢化非晶硅薄膜制备
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Journal of Semiconductors 2004年 第5期25卷 530-534页
作者： 殷生毅 陈光华 吴越颖 王青 刘毅 张文理 宋雪梅 邓金祥 北京工业大学材料科学与工程学院 北京100022
为了简化多电磁线圈 MWecr- cvd装置 ,提出将单个电磁线圈和一个永磁体单元组合 ,以形成所需的新型磁场 .这一磁场可使等离子体集聚于样片台上方 ,显著提高了等离子体的能量密度 .应用这种新型磁场的 MWE-CR- cvd装置沉积氢化非晶硅薄... 详细信息
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