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文献类型

  • 3 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 3 篇 电子文献
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日期分布

学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 2 篇 电子科学与技术（可...
    • 1 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 3 篇 高分辨率光刻
  • 1 篇 电子束光刻(ebl)
  • 1 篇 多层膜
  • 1 篇 高分辨率
  • 1 篇 零宽度线曝光
  • 1 篇 磁控溅射法
  • 1 篇 光学光刻
  • 1 篇 电子回旋共振等离...
  • 1 篇 真空蒸发
  • 1 篇 高分辨力
  • 1 篇 掩模
  • 1 篇 专用设备
  • 1 篇 密集线图形
  • 1 篇 电子工业
  • 1 篇 金属化工艺
  • 1 篇 邻近效应

机构

  • 1 篇 湛江师范学院
  • 1 篇 中国科学院微电子...

作者

  • 1 篇 赵珉
  • 1 篇 刘桂英
  • 1 篇 牛洁斌
  • 1 篇 孺子牛
  • 1 篇 陈宝钦

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"主题词=高分辨率光刻"
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新的高分辨率透明非银光刻版
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引用
微纳电子技术 1971年 第12期 21-24页
作者： 孺子牛
已研制成一种新的高分辨率光刻版,它使微电子工业能够容易而又简单地生产完整性极高的掩模。GAF微线高分辨率透明版HR-320是涂敷了一薄层正性无粒透明光敏材料的极平滑的玻璃片。用普通的设备曝光,但是用一种简单的气相技术-底版不触及... 详细信息
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电子束零宽度线曝光及其应用
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引用
微纳电子技术 2013年 第2期50卷 106-111页
作者： 赵珉 刘桂英 陈宝钦 牛洁斌 湛江师范学院信息科技与技术学院 广东湛江524048 中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室 北京100029
为了提高电子束光刻的图形质量及光刻分辨率,从入射束能和束流密度等方面探讨了克服邻近效应影响的途径,在制备亚30 nm结构图形时采用零宽度线曝光的方法。该方法把版图上线条的宽度设为零,因此该线条的光刻尺寸取决于电子束束斑大小、... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 博看期刊 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺
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引用
电子科技文摘 1999年 第8期 36-37页
介绍了产生等离子体的几种放电方式(如直流二极放电、射频放电、真空辉光放电、真空弧光放电等)、与等离子体相关的溅射沉积、离子镀沉积等常用的真空沉积技术及其在薄膜制备中的应用。
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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