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多晶管式PECVD镀膜均匀性的研究

企业技术开发 2013年第Z2期 51-52+54页

作者：白翔郭卫贾彦科王森涛王森栋张欣山西潞安太阳能科技有限责任公司

文章针对管式PECVD镀氮化硅薄膜均匀性问题,从硅片厚度检测、制绒成品检测、PECVD工艺调整及石墨舟的使用四个方面对问题进行了分析。结果表明,硅片膜厚偏差在20 um范围内,制绒成品的折射率在17.5%-18.5%之内,使用合理的PECVD工艺配方,... 详细信息

文章针对管式PECVD镀氮化硅薄膜均匀性问题,从硅片厚度检测、制绒成品检测、PECVD工艺调整及石墨舟的使用四个方面对问题进行了分析。结果表明,硅片膜厚偏差在20 um范围内,制绒成品的折射率在17.5%-18.5%之内,使用合理的PECVD工艺配方,及对石墨舟进行监控维护,可以解决镀膜不均匀性问题。

关键词：管式PECVD 镀膜均匀性石墨舟

高靶材利用率高镀膜均匀性条形溅射靶的设计与实现

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中国集成电路 2021年第7期30卷 70-73页

作者：陈长平佘鹏程陈峰武程文进陈庆广中国电子科技集团公司第四十八研究所

针对传统条形磁控溅射靶磁场分布不理想、靶材利用率低、镀膜不均匀等不足,通过优化磁场分布,缩小条形靶端部与中部的磁场差距,增大靶材的刻蚀均匀性,增大有效镀膜区,从而提高靶材利用率和改善镀膜均匀性。本文结合模拟仿真、结构设计... 详细信息

针对传统条形磁控溅射靶磁场分布不理想、靶材利用率低、镀膜不均匀等不足,通过优化磁场分布,缩小条形靶端部与中部的磁场差距,增大靶材的刻蚀均匀性,增大有效镀膜区,从而提高靶材利用率和改善镀膜均匀性。本文结合模拟仿真、结构设计与工艺验证的方式,开发出一种镀膜均匀性优于3%、靶材利用率超过30%的条形磁控溅射靶。

关键词：磁控溅射镀膜均匀性靶材利用率薄膜混合集成电路

管式PECVD设备的温控系统调节对镀膜均匀性的影响分析

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太阳能 2021年第9期 57-61页

作者：张永王贵梅孟小玮邵海娇张建军晶澳太阳能有限公司邢台055550

以管式PECVD设备的温控系统调节对镀膜均匀性的影响为研究对象,通过实验研究的方法,分别研究了温控系统调节中温区的温度设置、加热时间设置、整体温度设置,以及舟片间距设置对管式PECVD设备镀膜均匀性的影响。研究结果表明:将炉口到炉... 详细信息

以管式PECVD设备的温控系统调节对镀膜均匀性的影响为研究对象,通过实验研究的方法,分别研究了温控系统调节中温区的温度设置、加热时间设置、整体温度设置,以及舟片间距设置对管式PECVD设备镀膜均匀性的影响。研究结果表明:将炉口到炉尾的温度设置为依次降低的趋势,或增加加热时间,或整体温度降低都可以缩小内、外舟片的温度差异,进而均可以明显改善管式PECVD设备的镀膜均匀性;另外,利用舟片间距不等的石墨舟可以解决由固定舟片位置产生的色差问题,外舟片间距由11 mm调整到12 mm可以明显改善由于外舟片受热程度高而带来的膜厚及折射率偏高的情况。

关键词：温控系统加热时间管式PECVD设备镀膜均匀性

管式PECVD设备多晶硅镀膜均匀性的改善研究

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太阳能 2019年第10期 43-47页

作者：姚玉李良李化阳王霞王俊赵勇镇江大全太阳能有限公司

为改善多晶硅片在管式PECVD设备中的镀膜均匀性,主要从镀膜工艺参数的设定、硅片制绒面反射率及石墨舟状态这3个方面进行了镀膜均匀性研究。结果表明:在保证良率的前提下,当外层压力为1700 mTorr、内层氮硅比为4.487、射频功率为7600 W... 详细信息

为改善多晶硅片在管式PECVD设备中的镀膜均匀性,主要从镀膜工艺参数的设定、硅片制绒面反射率及石墨舟状态这3个方面进行了镀膜均匀性研究。结果表明:在保证良率的前提下,当外层压力为1700 mTorr、内层氮硅比为4.487、射频功率为7600 W时,调节直接链接变量(DLV)优化石墨舟各区温度且定期清理腔体内部的碎片可改善镀膜均匀性;在一定范围内,制绒面反射率增加,片内均匀性更优;新石墨舟对镀膜均匀性有明显改善,在使用周期内,运行30次时均匀性达到最优。

关键词：多晶硅管式PECVD 镀膜均匀性改善

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多晶管式PECVD镀膜均匀性的研究

企业技术开发（中旬刊） 2013年第11期32卷 51-52,54页

作者：白翔郭卫贾彦科王森涛王森栋张欣山西潞安太阳能科技有限责任公司山西长治046000

关键词：镀膜均匀性石墨舟

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大型宽幅高真空连续卷绕镀膜设备的研制

真空 2008年第6期45卷 44-46页

作者：罗军文兰州真空设备有限责任公司甘肃兰州730050

本文详细介绍了ZZL-2200/2.5大型高真空连续卷绕镀膜设备的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点及推广应用前景。分析并指出影响镀膜质量、生产效益的主要因素和解决途径。重点论述了双冷却镀膜辊悬空平展镀膜技术的技术原理和... 详细信息

本文详细介绍了ZZL-2200/2.5大型高真空连续卷绕镀膜设备的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点及推广应用前景。分析并指出影响镀膜质量、生产效益的主要因素和解决途径。重点论述了双冷却镀膜辊悬空平展镀膜技术的技术原理和结构特性,及其在解决CPP流延塑料薄膜基材表面镀制铝膜时出现亮暗条纹线难题中的显著效果。并提出独特的蒸发机构冷却和自流式蒸发舟设置的特殊设计对提高大型宽幅高真空连续卷绕镀膜设备生产效率的重要性。

关键词：大宽幅高真空双冷却镀膜辊悬空平镀自流式蒸发舟镀膜均匀性

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纺织钢领真空电弧离子镀设备的研究

纺织钢领真空电弧离子镀设备的研究

作者：张勇陕西科技大学

学位级别：硕士

离子镀膜设备具有成膜速度快、所制膜层与基体结合力强和膜层更致密等优点，因此在真空镀膜设备中应用最为广泛。本文旨在运用电弧离子镀技术来实现钢领的低温镀膜，并使所镀制膜层更加均匀、致密。衡量镀膜工艺优劣的重要标准是膜层... 详细信息

离子镀膜设备具有成膜速度快、所制膜层与基体结合力强和膜层更致密等优点，因此在真空镀膜设备中应用最为广泛。本文旨在运用电弧离子镀技术来实现钢领的低温镀膜，并使所镀制膜层更加均匀、致密。衡量镀膜工艺优劣的重要标准是膜层的均匀性，一是要求膜层致密，二是要求大滴液数量减少。设计出一种带可调磁场、屏蔽罩和特殊水冷机构的蒸发源，能有效提高膜层质量。同时，加装弯管磁过滤器，使离子在电磁场中改变运动轨迹，有效地过滤掉了大滴液。并通过实验研究，确定了设计参数，设计的蒸发源不仅实现了低温镀膜，也使镀膜层质量明显提高。为了确保钢领在镀制过程中，基体的温度不超过GCr15钢淬火后的回火最高温度——200℃，通过对各个发热源产热量及真空室热源分布等的计算分析，采用水直接喷淋蒸发源与水套直冷真空室的结构，实现了正常连续镀膜工艺过程，镀件基体温度均匀控制的新低——170℃，确保了钢领低温电弧离子镀膜工艺的实施。依据真空设备设计准则和镀制钢领工艺要求，借助于Ansys分析软件，采用图算法对关键部件真空室进行了数值计算分析，确定出了真空室主体的所用材料与关键的结构形式及参数，完成了复杂结构的中大型圆形真空室的设计，配置了合理的真空系统，估算了抽气的时间与效率。同时，采用齿轮传动实现了镀件既能自转，又能公转，保证了工件镀膜的均匀性。

关键词：真空电弧离子镀镀膜均匀性低温镀膜 Ansys分析