多晶管式PECVD镀膜均匀性的研究
作者机构：山西潞安太阳能科技有限责任公司山西长治046000
出 版 物：《企业技术开发（中旬刊）》 (Technological Development of Enterprise)
年 卷 期：2013年第32卷第11期
页 面：51-52,54页
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：文章针对管式PECVD镀氮化硅薄膜均匀性问题,从硅片厚度检测、制绒成品检测、PECVD工艺调整及石墨舟的使用四个方面对问题进行了分析。结果表明,硅片膜厚偏差在20 um范围内,制绒成品的折射率在17.5%-18.5%之内,使用合理的PECVD工艺配方,及对石墨舟进行监控维护,可以解决镀膜不均匀性问题。
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