检索结果-南通市图书馆

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

离子束刻蚀改善膜厚均匀性的研究(特邀)

光子学报 2022年第9期51卷 51-62页

作者：付秀华王一博潘永刚何云鹏任海峰长春理工大学光电工程学院长春130022 长春理工大学中山研究院广东中山528436 光驰科技(上海)有限公司上海200444

为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti_(3)O_(5)膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行... 详细信息

为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti_(3)O_(5)膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行星盘真空镀膜机进行实验,对测试结果用Optilayer进行膜厚拟合,并用Zygo干涉仪测量粗糙度,分析离子束刻蚀对透镜表面形貌的影响。结果表明通过离子束的刻蚀,可见光波段Ti_(3)O_(5)单层膜的均匀性为0.36%,粗糙度由0.036 nm变为0.037 nm。

关键词：光学薄膜膜厚均匀性离子束刻蚀三级公自转行星系统光学透镜

基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

光子学报 2019年第1期48卷 199-204页

作者：冯时付秀华王大森李晓静聂凤明张旭长春理工大学光电工程学院长春130022 中国兵器科学研究院宁波分院浙江宁波315103 长春理工大学电子信息工程学院长春130022

针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积面上的中心区域以及各边缘区域的膜厚值,计算离子束在光学元件中心与边缘驻留时间比,并通过MATLAB拟合驻... 详细信息

针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积面上的中心区域以及各边缘区域的膜厚值,计算离子束在光学元件中心与边缘驻留时间比,并通过MATLAB拟合驻留时间分布规律,根据所得的数据进行逐级修正.实验结果表明,当驻留时间比优化为-26.6%时,可以实现在直径300～600mm大口径的光学元件上均匀镀膜,以熔石英表面上镀硅膜为例,溅射沉积6h,表面膜厚为212.4±0.3nm,薄膜均匀性达到0.4%.

关键词：薄膜离子束溅射沉积膜厚均匀性大口径光学元件驻留时间

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

离子束刻蚀改善膜厚均匀性的研究（特邀）

光子学报 2022年第9期51卷 59-70页

作者：付秀华王一博潘永刚何云鹏任海峰长春理工大学光电工程学院长春理工大学中山研究院光驰科技(上海)有限公司

为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性，用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性，用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度，并研究不同离子束密度对Ti3O5膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行星... 详细信息

为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性，用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性，用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度，并研究不同离子束密度对Ti3O5膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行星盘真空镀膜机进行实验，对测试结果用Optilayer进行膜厚拟合，并用Zygo干涉仪测量粗糙度，分析离子束刻蚀对透镜表面形貌的影响。结果表明通过离子束的刻蚀，可见光波段Ti3O5单层膜的均匀性为0.36%，粗糙度由0.036 nm变为0.037 nm。

关键词：光学薄膜膜厚均匀性离子束刻蚀三级公自转行星系统光学透镜

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

大径曲比透镜镀膜及膜层均匀性研究

大径曲比透镜镀膜及膜层均匀性研究

作者：周泽林西安工业大学

学位级别：硕士

大径曲比透镜是一种口径与曲率半径之比大于1.1的光学透镜,应用大径曲比透镜可实现大视场角成像,由于大径曲比透镜表面弯曲度大、存在特别凸面或特别凹面,在大径曲比透镜表面沉积连续均匀的光学薄膜非常困难,制约了大径曲比透镜的应用... 详细信息

大径曲比透镜是一种口径与曲率半径之比大于1.1的光学透镜,应用大径曲比透镜可实现大视场角成像,由于大径曲比透镜表面弯曲度大、存在特别凸面或特别凹面,在大径曲比透镜表面沉积连续均匀的光学薄膜非常困难,制约了大径曲比透镜的应用。使用行星夹具能有效改善膜厚不均匀的现象。本文对平面型三级行星夹具膜厚分布规律、大径曲比透镜表面膜厚分布规律以及大径曲比透镜宽带减反射膜的制备这三个方面进行了系统的理论与实验研究,主要研究工作及成果如下:(1)基于蒸发源余弦分布理论,建立平面型三级行星夹具理论膜厚分布数学模型,对1.8m镀膜机加装平面型三级行星夹具的理论膜厚分布进行仿真分析,并通过单层膜实验对仿真模型进行验证。仿真分析结果表明,在蒸发源特性参数和真空腔室几何配置一定的前提下,平面型三级行星夹具的倾角是影响平面型三级行星夹具膜厚均匀性的主要因素,当夹具倾角为64°时平面型三级行星夹具理论膜厚分布最为均匀。单层膜实验结果表明,平面型三级行星夹具实际膜厚分布与仿真分析结果吻合性较好,验证了仿真模型的正确性。(2)使用平面型三级行星夹具,在两种不同径曲比的大径曲比光学塑料透镜上制备Si O和Ti O单层薄膜,使用共聚焦反射率测量仪对单层膜反射率光谱曲线进行测量,研究环形坩埚转速和行星夹具倾角对大径曲比透镜膜厚均匀性的影响规律。实验发现:环形坩埚转速不会对大径曲比透镜膜厚均匀性造成明显影响,行星夹具倾角是影响大径曲比透镜膜厚均匀性的主要因素;当行星夹具倾角在61°～64°范围内时,两种不同径曲比的大径曲比光学塑料透镜膜厚均匀性均较好。(3)采用电子束热蒸发技术,使用平面型三级行星夹具以不同行星夹具倾角在两种不同径曲比的大径曲比光学塑料透镜上制备宽带减反射膜,使用共聚焦反射率测量仪和接触式光学轮廓仪对样品的光谱曲线及面型变化情况进行检测。检测结果表明:在两种不同径曲比的大径曲比光学塑料透镜上成功制备出在420～880nm波段范围内平均反射率不超过0.8%,不同透镜及同一透镜表面不同位置处光谱曲线偏移量不超过10nm的宽带减反射膜;对于径曲比不同的大径曲比光学塑料透镜,镀膜均会引起面型变化。

关键词：光学薄膜膜厚均匀性行星夹具大径曲比透镜宽带减反射膜

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

大口径超薄基板双面溅射膜厚均匀性研究

光子学报 2023年第6期52卷 109-117页

作者：付秀华刘俊岐李卓霖刘海成任海峰王一博韩克旭长春理工大学光电工程学院长春130022 长春理工大学中山研究院中山528436 吉林省教育学院德育·综合教研培训部长春130022 光驰科技(上海)有限公司上海200444

可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板,在两面同时沉积制备而成,因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材,采用反应溅射镀膜的方法,从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹... 详细信息

可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板,在两面同时沉积制备而成,因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材,采用反应溅射镀膜的方法,从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹具遮挡角度三个方面分析膜厚均匀性的差异,采用对称膜系结构,实现红外截止滤光片上下表面薄膜应力平衡。最终制备的薄膜均匀性在300 mm范围内达到0.13%,基板翘曲度为0.085 mm,满足使用需求。

关键词：光学薄膜磁控溅射膜厚均匀性大口径超薄基板红外截止滤光片

缸体类零件内腔硬质阳极氧化加极装置设计与改进

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

电镀与涂饰 2024年第5期43卷 73-78页

作者：申健徐凯王斌刘焱刘高飞王小松江海涛马帅鹏河南平高电气股份有限公司河南平顶山467001 中国电力科学研究院有限公司北京100001 国网青海省电力公司电力科学研究院青海西宁810001 国家电网有限公司特高压建设分公司北京100032

[目的]某型号压气缸在现场安装时出现过盈配合问题,内腔硬质阳极氧化膜厚度分布不均及顶部膜厚过大是主因。[方法]设计并制作了加极装置,结合阳极氧化试验和有限元分析对其中的辅助电极进行改进。[结果]使用加极装置后,内腔阳极氧化膜... 详细信息

[目的]某型号压气缸在现场安装时出现过盈配合问题,内腔硬质阳极氧化膜厚度分布不均及顶部膜厚过大是主因。[方法]设计并制作了加极装置,结合阳极氧化试验和有限元分析对其中的辅助电极进行改进。[结果]使用加极装置后,内腔阳极氧化膜厚度分布均匀,都在要求的10~20μm范围内。[结论]在硬质阳极氧化过程中使用合适的加极装置有利于控制缸体零件内腔阳极氧化膜的厚度,提高膜厚均匀性。

关键词：缸体类零件内腔硬质阳极氧化辅助电极膜厚均匀性电力线分布有限元分析

同方期刊数据库博看期刊评论

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

复配磷酸盐无氰镀金液中配位导电盐的筛选

电镀与涂饰 2022年第9期41卷 628-633页

作者：叶仁祥浦建堂山东鲁蓝环保科技有限公司山东临沂276034

以磷酸盐、乙二胺四乙酸二钠、碳酸盐、亚硫酸盐、焦亚硫酸盐、海因衍生物等物质复配成配位导电盐,并探索了它在复配磷酸盐体系无氰镀金工艺中的应用。在复配配位导电盐用量200 g/L、pH 8.5、温度30℃和阴极电流密度1.0 A/dm^(2)的最佳... 详细信息

以磷酸盐、乙二胺四乙酸二钠、碳酸盐、亚硫酸盐、焦亚硫酸盐、海因衍生物等物质复配成配位导电盐,并探索了它在复配磷酸盐体系无氰镀金工艺中的应用。在复配配位导电盐用量200 g/L、pH 8.5、温度30℃和阴极电流密度1.0 A/dm^(2)的最佳工艺条件下得到的金镀层呈24K金色,结合力和耐蚀性良好,且镀液稳定、均镀能力强。

关键词：无氰镀金磷酸盐配位导电盐膜厚均匀性附着力稳定性

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

喷墨打印OLED薄膜封装成膜控制研究

喷墨打印OLED薄膜封装成膜控制研究

作者：李顺博华中科技大学

学位级别：硕士

新型显示是我国七大战略性新兴产业中“新兴信息产业”的聚焦点之一,喷墨打印制备有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diodes,OLED)薄膜封装是一种“短流程/增材制造”工艺,具有兼容柔性基底、低成本等优势。柔性OLED薄膜封装有... 详细信息

新型显示是我国七大战略性新兴产业中“新兴信息产业”的聚焦点之一,喷墨打印制备有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diodes,OLED)薄膜封装是一种“短流程/增材制造”工艺,具有兼容柔性基底、低成本等优势。柔性OLED薄膜封装有机层可以延长水氧渗透路径、释放无机层应力、平坦化薄膜表面等,为了保证封装性能必须对有机层膜厚均匀性、边缘形貌等严格控制。本文通过流体体积法数值仿真和喷墨打印实验对液滴沉积成膜机理进行了深入研究,提出了薄膜厚度和边缘形貌控制方案。具体研究内容如下:(1)建立了基于流体体积法的液滴沉积成膜数值仿真模型。首先分析了液滴沉积成膜涉及的流体控制方程及数值模型的界面追踪方法、离散方法等,建立了液滴沉积成膜的三维数值模型,介绍了数值模型的初始化和求解流程,验证了数值模型的准确性和网格独立性,最后研究了液滴半径、粘度、表面张力、基板接触角等对于液滴沉积形貌的影响以及液滴间距对成线形貌的影响。(2)提出了薄膜封装膜厚和边缘形貌控制方案。分析了喷墨打印液滴沉积成膜机制,基于液滴在平面上的沉积形貌,提出了膜厚控制方案;通过非均匀图案化控制薄膜边缘直线度和抑制边缘凸起形貌;提出了喷墨打印bank调控薄膜边缘形貌方案。(3)通过Open FOAM数值仿真了薄膜膜厚和边缘形貌控制方案。研究了不同条件下液滴临界成膜系数、间距系数对薄膜厚度、非均匀图案化和bank参数对边缘形貌的影响和控制规律。(4)实验验证了薄膜厚度和边缘形貌控制方案。通过喷墨打印平台开展了液滴沉积成线、成膜控制实验,制备了膜厚大于5μm、膜厚均匀性大于95%的薄膜;通过bank制备和减小平行薄膜边缘方向液滴间距可以提升薄膜边缘直线度。综上所述,本文提出了满足OLED薄膜封装的膜厚和边缘形貌控制方案,通过非均匀图案化提升了薄膜边缘直线度,抑制了薄膜边缘凸起,所提方案对优化OLED薄膜封装有机层制备工艺具有参考价值。

关键词：喷墨打印 OLED 薄膜封装膜厚均匀性形貌控制流体体积法

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

离子束辅助沉积大口径光学薄膜

红外与激光工程 2015年第B12期43卷 183-188页

作者：艾万君熊胜明中国科学院光电技术研究所四川成都610209

利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基... 详细信息

利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基底距离较大的镀膜环境下,具有低能、高束流密度离子源有利于薄膜结构的致密化,薄膜性能的改善。根据大口径光学元件尺寸,结合真空室空间几何配置,开展了行星及单轴转动方式下镀膜膜厚均匀性的研究。行星转动方式下,分析了直径140 cm行星盘工件膜厚均匀性,无修正挡板运行时膜厚不均匀性优于0.4%。单轴转动方式下,分析了200 cm光学元件膜厚均匀性,并通过设计修正挡板将膜厚不均匀性控制在0.6%以内。采用双离子束辅助反应蒸发技术有利于实现高性能大口径光学薄膜的制备。

关键词：离子辅助沉积高真空镀膜设备大口径光学薄膜光学特性膜厚均匀性