离子束刻蚀改善膜厚均匀性的研究(特邀)

作     者：付秀华 王一博 潘永刚 何云鹏 任海峰 FU Xiuhua;WANG Yibo;PAN Yonggang;HE Yunpeng;REN Haifeng

作者机构：长春理工大学光电工程学院长春130022 长春理工大学中山研究院广东中山528436 光驰科技(上海)有限公司上海200444 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2022年第51卷第9期

页      面：51-62页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金(No.11973040) 国家重点研发计划(No.2017YFE0102900) 吉林省重大科技攻关专项(No.20190302095GX)。 

主　　题：光学薄膜 膜厚均匀性 离子束刻蚀 三级公自转行星系统 光学透镜 

摘      要：为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti_(3)O_(5)膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行星盘真空镀膜机进行实验,对测试结果用Optilayer进行膜厚拟合,并用Zygo干涉仪测量粗糙度,分析离子束刻蚀对透镜表面形貌的影响。结果表明通过离子束的刻蚀,可见光波段Ti_(3)O_(5)单层膜的均匀性为0.36%,粗糙度由0.036 nm变为0.037 nm。