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膜厚对Nd掺杂钙锶铋钛铁电薄膜结构及性能的影响

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人工晶体学报 2008年第2期37卷 466-470页

作者：范素华张伟王培吉张丰庆冯博楷马建平山东建筑大学材料科学与工程学院济南250101 济南大学理学院济南250022

采用Sol-gel法和层层快速退火工艺在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了厚度不同Nd掺杂的钙锶铋钛(C0.4S0.6NT)铁电薄膜。研究了单层膜厚和总膜厚对于薄膜的(200)择优取向、显微结构及铁电性能的影响。发现:恰当的单层膜厚度,有助于薄膜(200)峰... 详细信息

采用Sol-gel法和层层快速退火工艺在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了厚度不同Nd掺杂的钙锶铋钛(C0.4S0.6NT)铁电薄膜。研究了单层膜厚和总膜厚对于薄膜的(200)择优取向、显微结构及铁电性能的影响。发现:恰当的单层膜厚度,有助于薄膜(200)峰的择优取向和铁电性能;单层膜厚度约为60 nm,总厚度约为420 nm时,C0.4S0.6NT薄膜的I(200)/[I(119)+I(00l)]相对强度较大,a轴取向的晶粒较多,具有较好的铁电性能,剩余极化(Pr)和矫顽场(Ec)分别为13.251μC/cm2,85.248 kV/cm。

关键词：钙锶铋钛薄膜 Nd掺杂铁电性能 Sol-gel法膜厚

膜厚对超薄四面体非晶碳膜应力和结构的影响（英文）

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硅酸盐学报 2019年第1期47卷 71-76页

作者：许世鹏李晓伟陈仁德李玉宏汪爱英甘肃省太阳能发电系统工程重点实验室酒泉新能源研究院甘肃酒泉735000 酒泉职业技术学院甘肃酒泉735000 中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室中国科学院宁波材料技术与工程研究所浙江宁波315201

利用自主研制的45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧技术制备超薄四面体非晶碳膜,研究了膜厚变化对超薄四面体非晶碳膜残余应力和微观结构的影响。结果表明:膜厚从7.6 nm增加到50 nm时,残余应力和sp3含量先减小后增加;当膜厚为29 nm时,可以得... 详细信息

利用自主研制的45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧技术制备超薄四面体非晶碳膜,研究了膜厚变化对超薄四面体非晶碳膜残余应力和微观结构的影响。结果表明:膜厚从7.6 nm增加到50 nm时,残余应力和sp3含量先减小后增加;当膜厚为29 nm时,可以得到最小的残余应力为3.9 GPa。制备的薄膜表面粗糙度都小于纯硅片表面粗糙度(0.412 nm),表明沉积的碳粒子可以减少基体表面的缺陷;基于磁过滤阴极真空电弧技术的优势,制备的超薄四面体非晶碳膜在较大区域内表面无大颗粒等物质。

关键词：四面体非晶碳膜膜厚残余应力薄膜结构

膜厚对射频磁控溅射法制备的SnS薄膜结构和光学性质的影响

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发光学报 2015年第4期36卷 429-436页

作者：余亮梁齐刘磊马明杰史成武合肥工业大学电子科学与应用物理学院安徽合肥230009 合肥工业大学化学与化工学院安徽合肥230009

利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备SnS薄膜,用X射线衍射(XRD)、能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)分别对所制备的薄膜晶体结构、组分、表面形貌、厚度、反射率和透过... 详细信息

利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备SnS薄膜,用X射线衍射(XRD)、能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)分别对所制备的薄膜晶体结构、组分、表面形貌、厚度、反射率和透过率进行表征分析。研究结果表明:薄膜厚度的增加有利于改善薄膜的结晶质量和组分配比,晶粒尺寸和颗粒尺寸随着厚度的增加而变大。样品的折射率在1 500~2 500nm波长范围内随着薄膜厚度的增加而增大。样品在可见光区域吸收强烈,吸收系数达105cm-1量级。禁带宽度在薄膜厚度增加到1 042 nm时为1.57 e V,接近于太阳电池材料的的最佳光学带隙(1.5 e V)。

关键词： SnS薄膜射频磁控溅射膜厚晶体结构光学性质

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膜厚对Sb_2Te_3薄膜光学性质的影响

光学学报 2011年第12期31卷 299-303页

作者：张奎耿永友吴谊群顿爱欢李豪中国科学院上海光学精密机械研究所高密度光存储实验室上海201800

超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态... 详细信息

超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态结构、表面形貌;利用光谱仪和椭偏仪分析了其光学性质随膜厚的变化。结果表明,沉积态Sb2Te3薄膜呈弱晶状态,在一定厚度范围内,其光学性质随膜厚的不同有较大变化。当膜较薄时,其消光系数和折射率随膜厚的增加而减小;当膜厚达到一定值时,其光学常数随膜厚的增加逐渐趋于稳定,即存在膜厚影响临界值。消光系数和折射率的膜厚影响临界值分别在80nm和50nm左右。薄膜的光学性质与膜厚的关系可以用薄膜结构的连续性来解释。

关键词：薄膜超分辨近场结构 Sb2Te3薄膜光学性质膜厚临界值

膜厚对Zr,Al共掺杂ZnO透明导电薄膜结构和光电性能的影响

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人工晶体学报 2010年第1期39卷 169-173页

作者：袁玉珍王辉张化福刘汉法刘云燕山东理工大学理学院淄博255049 山东理工大学材料科学与工程学院淄博255049

采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。用XRD和SEM分析和观察了薄膜样品的组织结构和表面形貌。研究表明:制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。另外还研究了薄膜... 详细信息

采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。用XRD和SEM分析和观察了薄膜样品的组织结构和表面形貌。研究表明:制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。另外还研究了薄膜的结构、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系。当薄膜厚度为843nm时,电阻率具有最小值1.18×10-3Ω.cm,在可见光区(500～800nm)平均透过率超过93%。

关键词：磁控溅射 Zr,Al共掺杂ZnO 膜厚透明导电薄膜

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新型水上油膜厚度测量系统研制

光谱学与光谱分析 2024年第7期44卷 2018-2023页

作者：黄未孙昊刘致元王坤苏明旭杨荟楠上海理工大学能源与动力工程学院上海200093

浮油污染对生态环境造成了严重的影响,各国投入大量资金和人力用于水上浮油的研究。其中,水上油膜厚度的高精度测量对于浮油预防与处理至关重要。以柴油为研究对象,利用傅里叶变换红外光谱仪获取了不同温度下(293/298/303/308/313/318 K... 详细信息

浮油污染对生态环境造成了严重的影响,各国投入大量资金和人力用于水上浮油的研究。其中,水上油膜厚度的高精度测量对于浮油预防与处理至关重要。以柴油为研究对象,利用傅里叶变换红外光谱仪获取了不同温度下(293/298/303/308/313/318 K)柴油和常温下(298 K)水的吸收光谱,发现柴油和水在近红外区域(6000.0~11000.0 cm^(-1))存在明显吸收,且柴油的吸收光谱不随温度发生偏移。选取了柴油吸收系数最大的波数位置ν_(1)(8381.6 cm^(-1))用于建立单波长水上油膜厚度反演模型。选取了ν_(1)和吸收系数趋于零的波数位置ν_(2)(8918.7 cm^(-1))用于建立双波长水上油膜厚度反演模型。此外,水在这两个波数位置的吸收系数极小,对测量结果几乎没有影响。利用已知油膜厚度(0~1000μm)的标准具对两种反演模型的测量精度进行验证,发现两种模型获得的膜厚值与已知值的平均相对偏差分别为36.4%和2.5%,最大相对偏差分别为44.7%和3.7%,最大标准差分别为7.0和5.6μm。可见,双波长水上油膜厚度反演模型明显优于单波长水上油膜厚度反演模型。在此基础上,研制了一套基于双波长吸收光谱法的新型水上油膜厚度测量系统,该系统的时间分辨率为0.03 s。最后,利用该系统研究水面上逐滴滴入一定体积(1 mL)柴油后的水上油膜厚度变化,并结合超声脉冲反射法进行同步测量对比分析。每滴入一次柴油利用两种方法各重复测量10次,总共测量了20组油膜厚度数据(16~35 mL),将两种方法测量结果的平均值进行对比。结果表明,两种方法测得的油膜厚度平均相对偏差为2.5%,最大相对偏差为3.7%。其中,双波长吸收光谱法10次重复测量获得的油膜厚度的最大标准差为6.4μm。综上所述,所研制的系统可以实现高精度测量水上油膜厚度,具有无干扰、响应快、结构紧凑等优势,且可应用于不同类型的浮油测量,有望为溢油的监控、预防和处理提供新思路和科学指导。

关键词：测量吸收光谱膜厚水上油膜

体心立方金属W薄膜晶体取向的膜厚尺寸效应及其表面映射

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物理学报 2007年第12期56卷 7248-7254页

作者：汪渊宋忠孝徐可为四川大学原子核科学技术研究所成都610064 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安710049

体心立方W膜(110)织构系数T110的变化存在非单调的厚度尺寸效应,这依赖于薄膜中晶粒形核和长大时表面能和应变能的相互作用,薄膜表面结构演变反映了两者的竞争过程.应用小波变换结合分形几何描述薄膜表面结构各向异性行为,用此法构建了... 详细信息

体心立方W膜(110)织构系数T110的变化存在非单调的厚度尺寸效应,这依赖于薄膜中晶粒形核和长大时表面能和应变能的相互作用,薄膜表面结构演变反映了两者的竞争过程.应用小波变换结合分形几何描述薄膜表面结构各向异性行为,用此法构建了薄膜织构系数T110与表面结构各向异性的关系,表明薄膜晶体取向存在表面映射.

关键词：金属薄膜晶体取向膜厚表面形貌

ZrO_2/SiO_2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响

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物理学报 2005年第7期54卷 3312-3316页

作者：邵淑英范正修邵建达中科院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心中国科学院研究生院北京100864

ZrO2/SiO2多层膜由相同沉积条件下的电子束蒸发方法制备而成,通过改变多层膜中高(ZrO2)、低(SiO2)折射率材料膜厚组合周期数的方法,研究了沉积在熔石英和BK7玻璃基底上多层膜中残余应力的变化.用ZYGO光学干涉仪测量了基底镀膜前后曲率... 详细信息

ZrO2/SiO2多层膜由相同沉积条件下的电子束蒸发方法制备而成,通过改变多层膜中高(ZrO2)、低(SiO2)折射率材料膜厚组合周期数的方法,研究了沉积在熔石英和BK7玻璃基底上多层膜中残余应力的变化.用ZYGO光学干涉仪测量了基底镀膜前后曲率半径的变化,并确定了薄膜中的残余应力.结果发现,该多层膜中的残余应力为压应力,随着薄膜中膜厚组合周期数的增加,压应力值逐渐减小.而且在相同条件下,石英基底上所沉积多层膜中的压应力值要小于BK7玻璃基底上所沉积多层膜中的压应力值.用x射线衍射技术测量分析了膜厚组合周期数不同的ZrO2/SiO2多层膜微结构,发现随着周期数增加,多层膜的结晶程度增强.同时多层膜的微结构应变表现出了与所测应力不一致的变化趋势,这主要是由多层膜中,膜层界面之间复杂的相互作用引起的.

关键词：残余应力 SiO2 ZrO2 多层膜周期数组合膜厚基底材料 X射线衍射技术玻璃基底电子束蒸发光学干涉仪应力值沉积条件曲率半径测量分析石英基底变化趋势结构应变结晶程度相互作用折射率熔石英压应力微结构

毛细管泰勒流中气液相对流速及液膜厚度性质的实验研究

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高校化学工程学报 2008年第1期22卷 11-17页

作者：刘定胜王树东中国科学院大连化学物理研究所

气液相对流速(W)、气泡周围的液膜厚度(δ)是认识毛细管内泰勒流性质的两个重要参数。以氢气、水为工作介质,考察了毛细管数(Ca),流体流动方向和毛细管直径对上述参数的影响。发现在本实验的毛细管数范围内,W与Ca近似地成线性关系,且W随... 详细信息

气液相对流速(W)、气泡周围的液膜厚度(δ)是认识毛细管内泰勒流性质的两个重要参数。以氢气、水为工作介质,考察了毛细管数(Ca),流体流动方向和毛细管直径对上述参数的影响。发现在本实验的毛细管数范围内,W与Ca近似地成线性关系,且W随着Ca的增大而增大。但是这种增大趋势受到流动方向和毛细管直径的显著影响。另一方面,根据气柱在毛细管中的运动模型计算了水平和垂直向上流动时的液膜厚度。发现液膜厚度随着W和Ca的增大而增大,其增大趋势也受到流动方向和毛细管直径的显著影响。

关键词：毛细管泰勒流气液相对流速膜厚流动方向毛细管直径