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扫描干涉场曝光中关键技术的现状与发展趋势
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激光与光电子学进展 2015年 第10期52卷 1-12页
作者： 程伟林 朱菁 张运波 曾爱军 黄惠杰 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室 上海201800 中国科学院大学 北京100049
扫描干涉场曝光(SBIL)在制作大尺寸、纳米精度的衍射光栅中有着独特的优势。为了充分了解SBIL系统的技术特点,介绍了国内外SBIL技术的发展现状,并针对SBIL系统中的各个关键技术进行技术性的调研与总结,着重分析了各关键技术已有解决方... 详细信息
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