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文献类型

  • 2 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 2 篇 电子文献
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日期分布

学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 2 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 2 篇 旋转舟架
  • 2 篇 工艺腔
  • 2 篇 立式lpcvd
  • 1 篇 低应力氮化硅
  • 1 篇 排气管道

机构

  • 2 篇 中国电子科技集团...

作者

  • 2 篇 彭浩
  • 2 篇 姬常晓
  • 2 篇 赵瓛
  • 1 篇 易文杰
  • 1 篇 王成宇
  • 1 篇 袁野

语言

  • 2 篇 中文
检索条件"主题词=立式LPCVD"
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基于TEOS源lpcvd设备的设计开发
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电子工艺技术 2024年 第1期45卷 56-60页
作者： 彭浩 姬常晓 赵瓛 中国电子科技集团公司第四十八研究所 长沙410111
在以TEOS源为SiO_(2)薄膜淀积源的低压化学气相沉积(lpcvd)工艺过程中,频繁出现薄膜厚度均匀性差、表面颗粒度高、设备维护周期短的问题。针对这个问题,设计并开发出一种适用于半导体工艺中的立式lpcvd设备。在设备结构上,工艺腔采用双... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
适用于低应力氮化硅薄膜的lpcvd设备
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电子工艺技术 2023年 第6期44卷 52-55页
作者： 姬常晓 王成宇 赵瓛 彭浩 袁野 易文杰 中国电子科技集团公司第四十八研究所 长沙410111
针对适用于低应力氮化硅薄膜淀积的低压化学气相沉积(lpcvd)工艺中出现的薄膜应力大、应力均匀性差、工艺颗粒超标的问题,设计开发出一种适用于半导体器件的低应力立式lpcvd设备。在结构上,工艺腔采用双管式结构,内管为直筒式结构,以提... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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