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光学学报 1985年第2期5卷 176-181页

作者：汪汝清中国科学院大连化学物理研究所

我们将时间引入蒙特卡罗电子输运计算,在与实际激光器相近的条件下,计算了电子束在氩激光介质中的沉积能,得到时间/空间分辨的沉积能分布。

关键词：蒙特卡罗激光介质不均匀度空间分布电子束沉积统计误差时间间隔电子输运激光器光激射器电子器件

沉积温度和速率对电子束沉积ZnSe薄膜应力特性的影响

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浙江大学学报（工学版） 2009年第11期43卷 2059-2061页

作者：饶文萍王颖章岳光刘旭浙江大学现代光学仪器国家重点实验室浙江杭州310027 云南国防工业职业技术学院云南昆明650222

在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,... 详细信息

在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,在200℃应力达到最大值,之后应力随沉积温度升高呈下降趋势.XRD结果表明,沉积速率直接影响ZnSe薄膜的晶向结构,进而改变ZnSe薄膜内应力;当沉积速率为1.5 nm/s时,薄膜应力最小.

关键词：电子束沉积 ZnSe薄膜薄膜应力沉积温度沉积速率

衬底温度对电子束沉积LaF_3薄膜性能的影响

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光电子．激光 2011年第6期22卷 876-879页

作者：郝殿中韩培高苏富芳马丽丽宋连科孔德胜曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室山东曲阜273165

采用电子束沉积的方法分别在K9玻璃、紫外熔凝石英和Si基片上制备了LaF3单层膜,研究了衬底温度对LaF3薄膜结构和光学性能的影响。衬底温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃,用分光光度计测量样品的透射率光谱曲线,并进行光学常数的计算。... 详细信息

采用电子束沉积的方法分别在K9玻璃、紫外熔凝石英和Si基片上制备了LaF3单层膜,研究了衬底温度对LaF3薄膜结构和光学性能的影响。衬底温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃,用分光光度计测量样品的透射率光谱曲线,并进行光学常数的计算。利用原子力显微镜(AFM)进行表面粗糙度的标定,利用ZYGO干涉仪测量基板镀膜前后的面型变化,利用Stoney公式计算出残余应力。结果表明,在本实验条件下,薄膜的折射率和消光系数随衬底温度的升高而增大;随衬底温度的升高,均方根粗糙度先增大后减小,达到一定温度后,粗糙度迅速增大;残余应力为张应力,随衬底温度的升高而增加。

关键词：光学薄膜衬底温度微结构残余应力电子束沉积 LaF3

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电子束沉积ZrO2—SnO2薄膜

等离子体应用技术快报 1996年第3期 3-4页

作者：袁晓源

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电子束沉积叶片保护涂层

热能动力工程 1999年第4期 75-75页

据“ＧａｓＴｕｒｂｉｎｅＷｏｒｌｄ”１９９８年１１—１２月号报道，１９９８年８月西门子公司在伯林展示了一种新的叶片涂层设备，用它来给大型工业燃气轮机动叶和静叶喷涂热障涂层（ＴＢＣ）。该设备使用电子束物理蒸气沉积过程。... 详细信息

据“ＧａｓＴｕｒｂｉｎｅＷｏｒｌｄ”１９９８年１１—１２月号报道，１９９８年８月西门子公司在伯林展示了一种新的叶片涂层设备，用它来给大型工业燃气轮机动叶和静叶喷涂热障涂层（ＴＢＣ）。该设备使用电子束物理蒸气沉积过程。使用电子束过程，陶瓷ＴＢＣ形成与叶...

关键词：电子束沉积叶片涂层工业燃气轮机保护涂层

基板温度对电子束沉积LaF_3薄膜紫外性能的影响

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聊城大学学报（自然科学版） 2011年第1期24卷 61-62,73页

作者：张锋郝殿中曲阜师范大学学报编辑部山东曲阜273165 山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所山东曲阜273165

采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分... 详细信息

采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分析结果表明:在本实验条件下,薄膜的折射率随温度的升高而增大;消光系数随温度的升高有增大的趋势;

关键词：光学薄膜基板温度电子束沉积 LaF3

衬底温度对电子束沉积LaF_3薄膜表面形貌的影响

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曲阜师范大学学报（自然科学版） 2011年第3期37卷 55-56,61页

作者：郝殿中韩培高宋连科曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室山东省曲阜市273165

采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了衬底温度对LaF3薄膜表面形貌的影响;衬底温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃.利用原子力显微镜测量了基板镀膜后的粗糙度变化;分析结果表明:在本实验条件下,随衬底温度... 详细信息

采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了衬底温度对LaF3薄膜表面形貌的影响;衬底温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃.利用原子力显微镜测量了基板镀膜后的粗糙度变化;分析结果表明:在本实验条件下,随衬底温度的升高,均方根粗糙度先增大后减小,达到一定温度后,粗糙度迅速增大.

关键词：光学薄膜衬底温度均方根粗糙度电子束沉积 LaF3

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局部聚焦电子束沉积

等离子体应用技术快报 1996年第4期 5-6页

作者：张正模

基板温度对电子束沉积LaF_3薄膜残余应力的影响

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曲阜师范大学学报（自然科学版） 2011年第1期37卷 48-50页

作者：郝殿中韩培高马丽丽苏富芳宋连科山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所山东省曲阜市273165

采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜残余应力的影响;基板温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃.利用ZYGO干涉仪测量了基板镀膜前后的面型变化,利用Stoney公式计算出残余应力;分析结果表明... 详细信息

采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜残余应力的影响;基板温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃.利用ZYGO干涉仪测量了基板镀膜前后的面型变化,利用Stoney公式计算出残余应力;分析结果表明:在本实验条件下,残余应力为张应力,随基板温度的增加,有增大的趋势.

关键词：光学薄膜基板温度残余应力电子束沉积 LaF3

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电子束法沉积 ITO 透明导电膜的研究

华中理工大学学报 1998年第3期26卷 10-12页

作者：史济群周京英马稚尧马洪磊华中理工大学电子科学与技术工程系山东大学光电材料与器件研究所

论述了ＩＴＯ膜的导电机理及生长机理，讨论了电子束加热真空蒸镀ＩＴＯ膜的方法中，膜的组分、氧分压、衬底温度和蒸发速率等几个参数对ＩＴＯ膜光电性能的影响．在选择合适的工艺条件下制备ＩＴＯ膜，电阻率约４×１０－４Ω·ｃｍ，... 详细信息

论述了ＩＴＯ膜的导电机理及生长机理，讨论了电子束加热真空蒸镀ＩＴＯ膜的方法中，膜的组分、氧分压、衬底温度和蒸发速率等几个参数对ＩＴＯ膜光电性能的影响．在选择合适的工艺条件下制备ＩＴＯ膜，电阻率约４×１０－４Ω·ｃｍ，可见光范围内平均透过率高于９０％．

关键词： ITO 薄膜氧空位蒸汽分压电子束沉积导电膜