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Ti-Al-Si-O_x脱硝催化剂载体的组分优化及性能研究

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无机材料学报 2015年第5期30卷 542-548页

作者：沈岳松纵宇浩眭国荣韩冰祝社民南京工业大学材料科学与工程学院南京210009

采用挤出成型法制备系列Ti-Al-Si-Ox脱硝催化剂载体,评价其NH3选择性催化还原NO的活性。通过正交实验优化Ti-Al-Si-Ox配方,采用液N2-BET、ESEM及XRD分别表征载体的比表面积、孔容孔径分布、微观形貌和固相结构;采用阿基米德法测试载体... 详细信息

采用挤出成型法制备系列Ti-Al-Si-Ox脱硝催化剂载体,评价其NH3选择性催化还原NO的活性。通过正交实验优化Ti-Al-Si-Ox配方,采用液N2-BET、ESEM及XRD分别表征载体的比表面积、孔容孔径分布、微观形貌和固相结构;采用阿基米德法测试载体的吸水率、开气孔率和体积密度。结果表明,当Ti/Al/Si摩尔比为1：0.2：0.1时,Ti Al0.2Si0.1Ox载体NH3-SCR脱除NO活性及轴向抗压碎强度匹配最好。当空速为7200 h-1,载体在450~550℃内NH3-SCR脱除NO效率均〉80%,494℃脱除NO效率达到最大值85.8%;载体抗压碎强度为6.17 MPa,比表面积为89.1 m2/g,开气孔率达63.0%,吸水率达48.3%,介孔最可几分布为8.1 nm,次可几分布为3.7 nm。Ti Al0.2Si0.1Ox脱硝催化剂载体具备优异的性能。

关键词： Ti-Al-Si-Ox脱硝催化剂载体组分优化正交实验性能研究

含萘噁二唑铍配合物的合成及光致发光和电致发光性能研究

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高等学校化学学报 2003年第7期24卷 1158-1160页

作者：王广王利祥景遐滨王佛松东北师范大学化学学院长春130024 中国科学院长春应用化学研究所长春130022

合成了含有萘环的二唑铍配合物并对其进行了表征 .在紫外光的激发下配合物能够发出很强的蓝色荧光 .采用 NPB为空穴传输层、配合物为发光层制备了双层器件 ,得到了蓝色的电致发光 ,证明该配合物是一种良好的电致发光材料 .

关键词：萘噁二唑铍配合物合成光致发光性能研究表征电致发光材料

密封容器中后处理制备Tl_2Ba_2CaCu_2O_y高温超导薄膜及其性能研究

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物理学报 2004年第10期53卷 3525-3529页

作者：伊长虹胡芳仁张庆刚陈莺飞徐小平郑东宁中国科学院物理研究所超导国家重点实验室北京100080 山东师范大学物理与电子学院济南250014

以铝酸镧 (0 0 1)单晶为基片 ,采用两步法制备Tl2 Ba2 CaCu2 Oy(Tl 2 2 12 )高温超导薄膜 .首先 ,利用脉冲激光沉积(PLD)工艺沉积Ba2 CaCu2 Ox 非晶前驱体薄膜 ;然后 ,前驱体薄膜在高温 (72 0— 85 0℃ )下密封钢容器里铊化结晶形成Tl 2... 详细信息

以铝酸镧 (0 0 1)单晶为基片 ,采用两步法制备Tl2 Ba2 CaCu2 Oy(Tl 2 2 12 )高温超导薄膜 .首先 ,利用脉冲激光沉积(PLD)工艺沉积Ba2 CaCu2 Ox 非晶前驱体薄膜 ;然后 ,前驱体薄膜在高温 (72 0— 85 0℃ )下密封钢容器里铊化结晶形成Tl 2 2 12薄膜 .XRD结果表明Tl 2 2 12薄膜是沿c轴方向生长的 ,其相组成为Tl 2 2 12 ,摇摆曲线 (0 0 12 )的半高宽为0 72° ,SEM图像显示其表面光滑平整 ,其零电阻温度为 10 6

关键词： Cu2O 前驱体制备性能研究晶形结晶工艺高温超导薄膜零电阻摇摆曲线

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自支撑GaN厚膜制备及其光学性能研究

稀有金属材料与工程 2010年第12期39卷 2169-2172页

作者：胡强魏同波段瑞飞羊建坤霍自强卢铁城曾一平四川大学辐射物理及技术教育部重点实验室四川成都610064 中国科学院半导体研究所北京100083

采用镀Ti插入层在氢化物外延设备中制备了高质量自支撑GaN厚膜。X射线衍射测试发现(0002)峰摇摆曲线的半高宽为260arcsec;5K下样品带边发光峰的半高宽为3meV,室温下样品的带边发光峰也只有20meV,并且在室温的PL谱中观察不到黄光带;扫描... 详细信息

采用镀Ti插入层在氢化物外延设备中制备了高质量自支撑GaN厚膜。X射线衍射测试发现(0002)峰摇摆曲线的半高宽为260arcsec;5K下样品带边发光峰的半高宽为3meV,室温下样品的带边发光峰也只有20meV,并且在室温的PL谱中观察不到黄光带;扫描电子显微镜观察显示,腐蚀后的自支撑GaN厚膜表面有位错延伸形成的六角坑,并估算出样品位错密度约为2.1×l07cm-2。这些结果说明镀Ti插入层有助于提高GaN外延层的晶体质量。通过Raman和低温荧光分析,可以看出自支撑GaN厚膜表面应力已经完全释放。研究了不同温度下样品的荧光特性,证明得到的无应力自支撑GaN厚膜具有很好的晶体质量和光学质量。

关键词：自支撑 GaN 膜制备光学质量性能研究 Thick Films 样品晶体质量厚膜膜表面发光峰插入层半高宽显微镜观察荧光特性荧光分析表面应力摇摆曲线位错密度外延层

纳米晶NiSi2/Ti5Si3复合涂层耐磨耐蚀性能研究

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稀有金属材料与工程 2010年第12期39卷 2199-2204页

作者：徐江孙健 Nanjing Univ Aeronaut & Astronaut Sch Mat Sci & Engn Nanjing 210016 Peoples R China

采用双阴极等离子溅射技术在TC4合金表面制备了纳米晶NiSi2/Ti5Si3复合涂层。利用XRD、SEM和TEM研究了复合涂层的微观组织特征,利用纳米压入和声发射划痕仪考察了复合涂层的硬度、弹性模量以及涂层与基体的结合力。结果表明:纳米晶NiSi2... 详细信息

采用双阴极等离子溅射技术在TC4合金表面制备了纳米晶NiSi2/Ti5Si3复合涂层。利用XRD、SEM和TEM研究了复合涂层的微观组织特征,利用纳米压入和声发射划痕仪考察了复合涂层的硬度、弹性模量以及涂层与基体的结合力。结果表明:纳米晶NiSi2/Ti5Si3复合涂层由外层厚度为7μm的NiSi2沉积层和其下3μm厚的Ti5Si3扩散层组成,沉积层的平均晶粒尺寸约为40nm,而扩散层的平均晶粒尺寸约为70nm,且存在大量的栅栏状孪晶。纳米晶NiSi2/Ti5Si3复合涂层硬度呈梯度分布,与基体具有较高的结合强度,其结合力为49N。纳米晶NiSi2/Ti5Si3复合涂层的比磨损率较TC4合金降低一个数量级以上,且对载荷和温度不具敏感性。与TC4合金相比,纳米晶NiSi2/Ti5Si3复合涂层的腐蚀电流密度降低了两个数量级,且具有更大的容抗弧值。

关键词：纳米晶复合涂层耐磨耐蚀性能研究 Composite Coating Corrosion Resistance 平均晶粒尺寸 TC4合金微观组织特征离子溅射技术扩散层结合力腐蚀电流密度沉积层涂层硬度外层厚度梯度分布纳米压入结合强度基体

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高阻隔碳氢膜的制备及性能研究

物理学报 2005年第2期54卷 818-823页

作者：陈光良葛袁静张越飞张广秋张谷令王久丽刘元福顾伟超冯文然刘赤子杨思泽中国科学院物理研究所北京100080 等离子体物理及材料实验室北京印刷学院北京102600

利用射频等离子体化学气象沉积法 (***) ,在 12 μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯 (PET)上制备了碳氢膜 .用原子力显微镜 (AFM) ,x射线光电子能谱 (XPS) ,激光拉曼光谱 ,傅里叶红外光谱等仪器 ,对碳氢膜的表面形貌和内部结构特性进行了较详... 详细信息

利用射频等离子体化学气象沉积法 (***) ,在 12 μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯 (PET)上制备了碳氢膜 .用原子力显微镜 (AFM) ,x射线光电子能谱 (XPS) ,激光拉曼光谱 ,傅里叶红外光谱等仪器 ,对碳氢膜的表面形貌和内部结构特性进行了较详细研究 .镀碳氢膜PET的阻隔性能在标准透水蒸气测试仪上进行检测 .实验结果证明 :沉积工艺参数对碳氢膜的生长速率及结构性能有重要影响 ;在PET上沉积的是纳米碳氢膜 ,该膜主要由sp2 和sp3杂化的碳氢化合物组成 ;当PET上碳氢膜厚度为 90 0nm时 ,阻水蒸气性能可提高 7倍 .

关键词： PET 制备聚对苯二甲酸乙二醇酯性能研究阻隔水蒸气杂化 x射线光电子能谱(XPS) 傅里叶红外光谱射频等离子体

AB3.8型La-Mg-Ni系储氢合金相结构和电化学性能研究

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稀有金属材料与工程 2010年第12期39卷 2142-2146页

作者：樊静波邓安强夏广军钱克农罗永春宁夏大学宁夏银川750021 兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室甘肃兰州730050

系统研究了La0.8-xPrxMg0.2Ni3.8和La0.8-xPrxMg0.2Ni3.2Al0.2Co0.4(x=0,0.15,0.3,0.4)两组储氢合金的相结构与电化学性能。相结构分析表明,合金主要由Pr5Co19、Ce5Co19、CaCu5型物相组成。随着x的增加,合金中A5B19(Pr5Co19+Ce5Co19)型物相逐渐增多,同时各物相的晶胞参数(a,c)和晶胞体积(v)均减小。Al元素的加入有利于CaCu5型物相的形成。电化学测试表明,A5B19型相合金具有较好的电化学循环稳定性,Al、Co元素的加入有利于A5B19型相合金电极的电化学循环稳定性。

关键词：储氢合金合金相结构电化学循环稳定性性能研究 Hydrogen Storage Alloys Electrochemical Properties 物相组成电化学性能电化学测试元素系统研究晶胞体积晶胞参数合金电极分析表金具

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NbN薄膜的制备与性能研究

光谱学与光谱分析 2005年第4期25卷 487-490页

作者：彭松肖斌平郝建奎谢大弢北京大学重离子物理教育部重点实验室北京100871

采用磁控溅射和直流偏压二极溅射两种方法制备了NbN薄膜。用XRD和TEM测量比较了两种不同溅射方法获得的NbN薄膜的特点,并测量了NbN薄膜的超导转变温度Tc。采用两种溅射方法都得到了致密、均匀、单一δ相的多晶NbN薄膜,薄膜生长的择优取... 详细信息

采用磁控溅射和直流偏压二极溅射两种方法制备了NbN薄膜。用XRD和TEM测量比较了两种不同溅射方法获得的NbN薄膜的特点,并测量了NbN薄膜的超导转变温度Tc。采用两种溅射方法都得到了致密、均匀、单一δ相的多晶NbN薄膜,薄膜生长的择优取向受温度和氮气流量的影响很大,薄膜的超导转变温度受溅射室本底真空影响较大。

关键词： NbN薄膜性能研究制备超导转变温度直流偏压磁控溅射择优取向薄膜生长 TEM XRD Tco 气流量

熔体快淬法制备2:17型ReCo(Re=Sm,Ho,Er)合金薄带的磁性能研究

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稀有金属材料与工程 2010年第12期39卷 2177-2180页

作者：龚维幂高润生于荣海 Key Laboratory for Advanced Materials of Ministry of Education Tsinghua University Beijing 100084 China

通过熔体快淬法制备了Re(CobalFe0.10Cu0.08Zr0.03)7.55(Re=Sm,Ho,Er)合金,并对室温、高温磁性能进行了研究。结果表明,Ho元素取代50%Sm元素的(Sm0.5Ho0.5)(CobalFe0.10Cu0.08Zr0.03)7.55合金具有良好的室温磁性能,合金薄带矫顽力超过800kA/m。Sm(CobalFe0.10Cu0.08Zr0.03)7.55合金薄带矫顽力随温度上升先下降后上升,至400℃达到峰值,随即开始快速减小;其饱和磁化强度随温度升高不断降低。(Sm0.5Ho0.5)(CobalFe0.10Cu0.08Zr0.03)7.55试样的矫顽力随温度上升逐渐下降;其饱和磁化强度则随温度上升先逐渐升高至400℃达到峰值,然后开始降低。温度高于250℃时,未进行重稀土元素取代的样品相对矫顽力水平较高;300℃以上,Ho取代50%Sm元素的试样其饱和磁化强度具有明显的优势。对Ho取代比例进行有针对性的优化有望成为获得优良的高温磁性能的有效途径。

关键词：熔体快淬法制备合金薄带性能研究饱和磁化强度温度上升矫顽力室温磁性能元素取代有效途径温度升高试样取代比例高温峰值重稀土针对性温度高优势优化