NbN薄膜的制备与性能研究
Fabrication and Study of Sputtered NbN Thin Films作者机构：北京大学重离子物理教育部重点实验室北京100871
出 版 物：《光谱学与光谱分析》 (Spectroscopy and Spectral Analysis)
年 卷 期：2005年第25卷第4期
页 面：487-490页
核心收录：
学科分类：0832[工学-食品科学与工程（可授工学、农学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 083201[工学-食品科学]
基 金：国家自然科学基金 (1 0 1 750 0 6)资助课题
主 题：NbN薄膜 性能研究 制备 超导转变温度 直流偏压 磁控溅射 择优取向 薄膜生长 TEM XRD Tco 气流量
摘 要：采用磁控溅射和直流偏压二极溅射两种方法制备了NbN薄膜。用XRD和TEM测量比较了两种不同溅射方法获得的NbN薄膜的特点,并测量了NbN薄膜的超导转变温度Tc。采用两种溅射方法都得到了致密、均匀、单一δ相的多晶NbN薄膜,薄膜生长的择优取向受温度和氮气流量的影响很大,薄膜的超导转变温度受溅射室本底真空影响较大。
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