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基底旋转速度对射频溅射法制备Al掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响（英文）
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引用
Transactions of Nonferrous Metals Society of China 2017年 第9期27卷 2055-2062页
作者： E.A.MARTíN-TOVAR L.G.DAZA A.J.R.LóPEZ-ARREGUíN A.IRIBARREN R.CASTRO-RODRIGUEZ Departamento de Física Aplicada CINVESTAV-IPNUnidad Mérida Institut Supérieur de l’Aéronautique et de l’Espace (ISAE) Instituto de Ciencia y Tecnología de Materiales (IMRE) Universidad de La Habana
采用射频溅射法于室温在玻璃基底上制备了铝掺杂ZnO(AZO)薄膜,研究了基底旋转速度(ωS)对薄膜形态、结构、光学和电学性质的影响。扫描电子显微镜横向图片显示,通过基底旋转能够产生致密的柱状结构。原子力显微镜图像表明,基底旋转状态... 详细信息
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