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四氟化碳等离子体处理制备低介电常数聚酰亚胺薄膜

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四氟化碳等离子体处理制备低介电常数聚酰亚胺薄膜

作者：顾志超苏州大学

学位级别：硕士

随着集成电路的发展，引起了信号传送延迟以及信号衰减的问题，针对这一问题，需要开发低介电常数和低介电损耗的材料。本课题采用等离子体活化的方法，使用四氟化碳（CF4）气体，对印刷线路板常用基材聚酰亚胺薄膜进行了处理，成功将... 详细信息

随着集成电路的发展，引起了信号传送延迟以及信号衰减的问题，针对这一问题，需要开发低介电常数和低介电损耗的材料。本课题采用等离子体活化的方法，使用四氟化碳（CF4）气体，对印刷线路板常用基材聚酰亚胺薄膜进行了处理，成功将含氟基团引入到聚酰亚胺薄膜表面。通过测量材料表面的接触角，X射线光电子能谱分析等方式，验证了通过等离子体处理，含氟基团成功引入了聚酰亚胺薄膜表面。通过改变等离子体的处理功率以及处理时间，研究了不同处理条件对聚酰亚胺薄膜介电常数和介电损耗的影响。结果显示，随着处理功率和处理时间的提升，聚酰亚胺薄膜的介电常数和介电损耗在低频区域有了显著的降低（频率范围1Hz—1e+2Hz）。在最优条件下，聚酰亚胺薄膜的介电常数从平均2.7左右降低至平均1.9左右（频率范围1Hz—1e+2Hz），介电损耗正切值从平均0.145降低至平均0.06左右（频率范围1Hz—1e+2Hz）。同时，介电常数和介电损耗的降低程度与氟元素的含量有一定的正相关性。

关键词：聚酰亚胺四氟化碳等离子体介电常数介电损耗

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表面波等离子体分解四氟化碳的研究

表面波等离子体分解四氟化碳的研究

作者：杨雨桐大连海事大学

学位级别：硕士

随着半导体等现代行业的快速发展,四氟化碳由于其稳定的化学性质而被广泛应用,由于能够强烈的吸收红外辐射和极高的稳定性,使得四氟化碳成为一种全球变暖潜力值和生命周期极高的温室气体。具有低能耗和高效率的等离子体处理法被广泛应... 详细信息

随着半导体等现代行业的快速发展,四氟化碳由于其稳定的化学性质而被广泛应用,由于能够强烈的吸收红外辐射和极高的稳定性,使得四氟化碳成为一种全球变暖潜力值和生命周期极高的温室气体。具有低能耗和高效率的等离子体处理法被广泛应用于四氟化碳分解中,表面波等离子体的大面积、无极放电、放电容器形状多样等优点使其成为处理四氟化碳的良好方法。设计了一套大面积表面波等离子体反应器,在低气压下激发等离子体用于处理四氟化碳,考察了微波功率、气体流量、氧气比例等影响因素对分解率的影响。使用发射光谱对激发的等离子体进行了分析,对反应出气进行了质谱分析,简单描述了四氟化碳分解的反应机理。研究结果表明,单一四氟化碳的分解率随微波功率的升高而升高,适当提高气体流量可使分解率提高。适宜的添加氧气可促进四氟化碳分解,在输入功率700 W、O2/CF4比例1.5时得到99.91%的分解率和93.56%的碳收率,在出气检测中发现了氧气、一氧化碳和二氧化碳。水蒸气的加入可以进一步促进四氟化碳的分解和碳收率的提高。光谱检测发现了 CF、CF2谱带和FI谱线,添加氧气后发现了一些含氧物种的存在,分析了 CF谱带、FI谱线和OI谱线强度受微波功率等因素的影响。整理了相关四氟化碳分解的反应方程式,结合分解率和光谱的变化对分解机理进行了简单的分析。(1)开发了使用大平面表面波等离子体分解四氟化碳的方法,无需氮气、氩气等载气的添加。(2)添加氧气和水蒸气辅助四氟化碳分解,研究了微波功率等因素对分解率和碳收率的影响。(3)使用发射光谱法对激发的等离子体进行了分析。

关键词：四氟化碳表面波等离子体分解

四氟化碳的合成及其在半导体等离子刻蚀中的应用

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有机化学 1980年第1期 18-24页

早在1931年,德国人***等用碳粉在氟气流中燃烧的方法制得了四氟化碳,其后有人改用—氧化碳在氟气流中燃烧的方法得到了同样的产品,但产品不纯,而且分离技术复杂。在氟里昂的生产过程中亦有少量的四氟化碳产生,事实上许多有机化合物的氟... 详细信息

早在1931年,德国人***等用碳粉在氟气流中燃烧的方法制得了四氟化碳,其后有人改用—氧化碳在氟气流中燃烧的方法得到了同样的产品,但产品不纯,而且分离技术复杂。在氟里昂的生产过程中亦有少量的四氟化碳产生,事实上许多有机化合物的氟化过程中,(包括元素氟氟化,电解氟化,高价金属氟化物的氟化),由于断链的结果或多或少总会有付产物四氟化碳的生成。但是由于分离技术的困难,在工业生产上并没有得到应用。目前四氟化碳的工业生产方法除了碳粉在氟气中燃烧法之外,主要还有下列几种:

关键词：四氟化碳 FC 甲烷干法刻蚀等离子刻蚀等离子体蚀刻

四氟化碳摩尔气化热的理论推算及其气化形成机理研究

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新疆师范大学学报（自然科学版） 2003年第2期22卷 37-40页

作者：李疆新疆师范大学生命与环境科学学院乌鲁木齐830054

运用表面化学基本原理,通过建立气化相变模型,对四氯化碳的摩尔气化热进行了理论推算,所得结果与文献实验值基本吻合。并就类似结构化合物用同样的模型对其摩尔气化热也进行了推算,结果与文献实验值基本吻合。将表面化学原理运用于分子... 详细信息

运用表面化学基本原理,通过建立气化相变模型,对四氯化碳的摩尔气化热进行了理论推算,所得结果与文献实验值基本吻合。并就类似结构化合物用同样的模型对其摩尔气化热也进行了推算,结果与文献实验值基本吻合。将表面化学原理运用于分子水平。把体系的宏观物理量与微观物理量联系起来了,并且得到了一些有意义的结论。

关键词：四氟化碳摩尔气化热表面化学气化相变模型气化机理表面积表面张力

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四氟化碳生产技术与市场

化工生产与技术 2010年第5期17卷 21-25页

作者：陈鸿昌济南三爱富公司济南250013

介绍了四氟化碳的性能、用途和生产技术路线。评述了其国内外的市场变化、主要生产厂家规模及分布,从四氟化碳发展历程到今后趋势,说明四氟化碳在氟化工中的地位、我国发展四氟化碳的优势与不足。对打算进入此产品项目的企业,从技术开... 详细信息

介绍了四氟化碳的性能、用途和生产技术路线。评述了其国内外的市场变化、主要生产厂家规模及分布,从四氟化碳发展历程到今后趋势,说明四氟化碳在氟化工中的地位、我国发展四氟化碳的优势与不足。对打算进入此产品项目的企业,从技术开发、项目投资、产品生产销售等方面提出了建议。

关键词：四氟化碳全氟烷电子化学品

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四氟化碳喷淋水洗塔的设计计算与应用

低温与特气 2013年第2期31卷 10-13页

作者：王筠崔学文核工业理化工程研究院天津300180

为满足年产100 t四氟化碳的需要,须对水洗塔进行设计,用以除去混合气中的酸性杂质。实际运行证明,喷淋水洗塔可以满足四氟化碳生产的需要,有效地保证了产品的酸度。

关键词：四氟化碳喷淋水洗塔设计应用

四氟化碳等离子体处理对聚酰亚胺介电性能的影响

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化学工业与工程技术 2014年第4期35卷 67-73页

作者：顾志超谢洪德徐斌陈兴旺许月萍徐松孙占明苏州大学材料与化学化工学部江苏苏州215123 威怡化工(苏州)有限公司江苏苏州215008

采用等离子体活化的方法，使用四氟化碳（CF4）气体，对印刷线路板常用基材聚酰亚胺薄膜进行了处理，将含氟基团引入到聚酰亚胺薄膜表面。通过测量材料表面的接触角、x射线光电子能谱分析等，验证了通过等离子体处理，含氟基团成功引入... 详细信息

采用等离子体活化的方法，使用四氟化碳（CF4）气体，对印刷线路板常用基材聚酰亚胺薄膜进行了处理，将含氟基团引入到聚酰亚胺薄膜表面。通过测量材料表面的接触角、x射线光电子能谱分析等，验证了通过等离子体处理，含氟基团成功引入了聚酰亚胺薄膜表面。通过改变等离子体处理的功率及反应时间，研究了不同处理条件对聚酰亚胺薄膜介电常数和介电损耗的影响。结果显示：随着处理功率和处理时间的增加，聚酰亚胺薄膜的介电常数和介电损耗在低频区域有显著的降低（频率范围1～100Hz）。在最优条件下，聚酰亚胺薄膜的介电常数从平均2．7降至平均1．9（频率范围1～100Hz），介电损耗正切值从平均0．145降至平均0．06左右（频率范围1～100Hz）。

关键词：聚酰亚胺四氟化碳等离子体介电常数介电损耗