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检索条件"主题词=物质迁移机理"
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Progress in material removal mechanisms of surface polishing with ultra precision
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Chinese Science Bulletin 2004年 第16期49卷 1687-1693页
作者： XU Jin LUO Jianbin LU Xinchun ZHANG Chaohui PAN Guoshun State Key Laboratory of Tribology Tsinghua UniversityBeijing 100084China
Chemical mechanical polishing (CMP) process is commonly regarded as the best method for achieving global planarization in the field of surface finishing with ultra-precision. The development of investigation on materi... 详细信息
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