检索结果-南通市图书馆

辉光放电灯中二元合金溅射率与化学组成的关系

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

金属学报 1992年第5期28卷 B225-B229页

作者：任建世张功杼王桢枢刘根刘圣麟中国科学院金属研究所上海工业大学

在恒定气压和电压条件下,用测量溅射减量的方法,系统研究了Cr—Fe,Bi-Sb,Cu—Zn,Ag—Cu,Al-Zn和Cd—Sn六个系统的25个试样在辉光放电灯中溅射率与组分的关系结果表明;阴极溅射在稳态时,二元合金(不形成金属间化合物)的溅射率与组元浓度... 详细信息

在恒定气压和电压条件下,用测量溅射减量的方法,系统研究了Cr—Fe,Bi-Sb,Cu—Zn,Ag—Cu,Al-Zn和Cd—Sn六个系统的25个试样在辉光放电灯中溅射率与组分的关系结果表明;阴极溅射在稳态时,二元合金(不形成金属间化合物)的溅射率与组元浓度的普遍关系是双曲线,只有在某些特殊情况下,两组元的溅射率相差不大时,可以近似看成线性关系。

关键词：二元合金辉光放电溅射率

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

面向等离子体材料的溅射率研究

面向等离子体材料的溅射率研究

作者：李洋华北电力大学(北京)

学位级别：硕士

面向等离子体材料的工作环境十分苛刻,其材料的选择决定着聚变堆装置的成功与否。碳基材料由于其高温承受能力好、不熔化只升华、具有高热导率和抗热冲击等优点是面向等离子体材料的重要候选材料。但是,当等离子体(氘原子、氚原子和氦原... 详细信息

面向等离子体材料的工作环境十分苛刻,其材料的选择决定着聚变堆装置的成功与否。碳基材料由于其高温承受能力好、不熔化只升华、具有高热导率和抗热冲击等优点是面向等离子体材料的重要候选材料。但是,当等离子体(氘原子、氚原子和氦原子)轰击碳基材料时,碳基材料所产生的溅射率高和氚的滞留率高等问题严重影响了其在聚变堆中的进一步使用。因此,研究碳基材料的溅射率有着重要的意义。本文通过分子动力学和蒙特卡罗相结合的方法,分别从粒子入射能量、入射粒子种类和基底温度三个因素对石墨、碳化硅和碳纤维增强碳化硅材料的溅射率进行计算与对比。计算表明:(1)石墨的溅射峰值在入射能量为25eV～50eV,碳化硅的溅射峰值在入射能量为200eV,碳纤维增强碳化硅材料的溅射峰值在入射能量为400 eV～500eV;(2)相同入射能量,石墨的溅射率>碳化硅的溅射率>碳纤维增强碳化硅材料的溅射率;(3)入射粒子种类对石墨的溅射率影响明显,溅射率随入射粒子的原子质量的增加而增大;而入射粒子种类对碳化硅及碳纤维增强碳化硅材料的溅射率影响不大;(4)基底温度对石墨的溅射率影响明显,溅射率随基底温度的升高而增大;但基底温度对碳化硅及碳纤维增强碳化硅的溅射率影响相对较小。此外,本文还研究了碳纤维增强碳化硅材料的溅射率随碳浓度和粒子入射角度的变化。计算可得:(1)当碳纤维增强碳化硅材料中碳的浓度为0.60～0.62左右时,溅射率达到最小值;(2)当入射角度小于30°时,溅射率几乎没有太大的变化,当入射角度大于30°时,溅射率随入射角度的增大而迅速降低。综合上述几种因素考虑,与石墨和碳化硅相比,碳纤维增强碳化硅材料更适合作为面向等离子体材料。

关键词：面向等离子体材料溅射率分子动力学蒙特卡罗

二元化合物总原子溅射率和刻蚀速率的经验公式

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

Journal of Semiconductors 1987年第4期 395-401页

作者：陈国樑中国科学院上海冶金研究所

本文给出低能离子法向轰击二元化合物时,总原子溅射率Y和刻蚀速率R;陆离子能量E变化的经验公式. 计算结果表明:若低能氩离子法向轰击二元化合物,则由经验公式算出的总原子溅射率和刻蚀速率与实验值的最大相对误差小于20％。

关键词：溅射率刻蚀速率二元化合物原子数经验公式

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

离子注入和溅射率的蒙特卡罗模拟计算

合肥工业大学学报（自然科学版） 2001年第6期24卷 1105-1110页

作者：陈长琦朱武方应翠干蜀毅陈贤祥合肥工业大学机械与汽车工程学院安徽合肥230009

蒙特卡罗方法是一种模拟随机性问题的好方法 ,文章依据离子注入和溅射原理并运用蒙特卡罗方法在计算机上模拟了氩离子注入铜靶中的注入离子轨迹、碰撞级联和铜靶在氩离子不同能量和氩离子不同入射方向时的溅射率 ,并对所取得的模拟结果... 详细信息

蒙特卡罗方法是一种模拟随机性问题的好方法 ,文章依据离子注入和溅射原理并运用蒙特卡罗方法在计算机上模拟了氩离子注入铜靶中的注入离子轨迹、碰撞级联和铜靶在氩离子不同能量和氩离子不同入射方向时的溅射率 ,并对所取得的模拟结果进行了分析研究 ,为提高溅射镀膜生产效率提供了理论依据。

关键词：蒙特卡罗方法离子注入溅射率氩离子铜靶注入离子轨迹碰撞级联

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Sigmund元素溅射率公式的修正

Journal of Semiconductors 1985年第6期 627-633页

作者：陈国樑中国科学院上海冶金所

本文给出氦、氩离子法向轰击多晶元素靶时,原子溅射率Y;随离子能量E变化的经验公式.采用下面二个步骤,可以导出这个公式.首先,把Sigmund 溅射率公式（1）中的表面升华能U;改为离靶组合的溅射阈能E;. 其次,再把上式乘以Matsunami提出的... 详细信息

本文给出氦、氩离子法向轰击多晶元素靶时,原子溅射率Y;随离子能量E变化的经验公式.采用下面二个步骤,可以导出这个公式.首先,把Sigmund 溅射率公式（1）中的表面升华能U;改为离靶组合的溅射阈能E;. 其次,再把上式乘以Matsunami提出的低能修正因子g（E）.另外,我们还导出了适用于轻、重离子的溅射阈能经验公式E;=U;·exp（r）/r.其中:r=4M/（1+M）;,M=M;/M;是靶原子的相对原子量.计算结果表明:对于低能离子（E≤1keV）而言,由经验公式算出的溅射率Y;与实验值Y之间的相对误差不超过20％.但是,低能下的Sigmund理论溅射率Y;约为实验值的二至二十五倍.由此可知:经验溅射率公式（30）基本上是成功的.

关键词：溅射率原子分子 Sigmund 离子能量

辉光放电发射光谱氩内标—溅射率校正方法——用于表、逐层定量分析和合金试样分析

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

光谱学与光谱分析 1985年第6期 40-41页

作者：郭海筠内蒙金属材料研究所包头市第四号信箱

本文将自制Grimm型辉光放电源配备在-28中型石英棱镜摄谱仪上,用辉光放电源工作气体氩作内标,试样溅射率作校正项的制作工作曲线方法,以解决表逐层定量分析中的定标问题。为验证氩内标方法的可行性,本文工作中选择包括铁基、铜基、铝基... 详细信息

本文将自制Grimm型辉光放电源配备在-28中型石英棱镜摄谱仪上,用辉光放电源工作气体氩作内标,试样溅射率作校正项的制作工作曲线方法,以解决表逐层定量分析中的定标问题。为验证氩内标方法的可行性,本文工作中选择包括铁基、铜基、铝基合金在内的部分不同基体和不同牌号的标样,在不同放电条件下进行了实验。实验结果表明,当以氩作内标, 同时考虑溅射率校正的情况下,可以克服基体和第三元素对分析元素谱线强度的影响,同基体不同牌号和不同基体不同牌号的铁、铜、铝基合金标样的工作曲线均能重合在同一直线上。从而表明:当以氩作内标并加溅射率校正时,使用与分析试样成份差别较大的已知成份合金作标样是可行的。这样便扩大了标样的选择范围,一定程度上解决了表,逐层分析过程中,表层和基材成份变化较大时的定标问题。方法的准确度和精密度可以满足表,逐层分析的要求。从而为镀、涂、渗层材料和复合材料的,表层、逐层分析提供了一种新的方法。

关键词：辉光放电源标样溅射率标准样品内标逐层分析定量分析

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

离子渗钨-钼锯条溅射率与吸收率的研究

中国表面工程 2007年第1期20卷 49-50页

作者：高原桂林电子科技大学信息材料科学与工程系广西桂林541004

将74μm(200目)的W和Mo粉按重量比2:8均匀混合,经过成型、烧结、轧制,制成尺寸为300mm×60mm×8.5mm的板状源极,利用双层辉光离子渗金属技术,在以20钢为基材的手用锯条齿部表面,渗入W、Mo元素形成合金化层。通过100炉次共计50万支离子渗... 详细信息

将74μm(200目)的W和Mo粉按重量比2:8均匀混合,经过成型、烧结、轧制,制成尺寸为300mm×60mm×8.5mm的板状源极,利用双层辉光离子渗金属技术,在以20钢为基材的手用锯条齿部表面,渗入W、Mo元素形成合金化层。通过100炉次共计50万支离子渗W、Mo手用锯条生产,计算出源极W、Mo原子的平均溅射率为0.095。W、Mo原子被锯条齿部表面的平均吸收率为26%。

关键词：离子渗金属锯条溅射率吸收率

分子动力学模拟C＋离子与聚变材料钨的相互作用

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

真空科学与技术学报 2013年第4期33卷 351-357页

作者：田树平贺平逆张静全潘宇东苟富均四川大学原子核科学技术研究所成都610064 贵州大学理学院贵阳550025 四川大学材料科学与工程学院成都610064 核工业西南物理研究院成都610041

采用分子动力学方法模拟不同能量的C+离子与聚变材料钨的相互作用。模拟结果表明:当C+离子入射剂量为3.11×1016cm-2,入射能量为50 eV时,样品表面形成一层碳膜;而入射离子能量为150和250 eV时,C+离子入射到样品内与钨原子共同形成碳钨... 详细信息

采用分子动力学方法模拟不同能量的C+离子与聚变材料钨的相互作用。模拟结果表明:当C+离子入射剂量为3.11×1016cm-2,入射能量为50 eV时,样品表面形成一层碳膜;而入射离子能量为150和250 eV时,C+离子入射到样品内与钨原子共同形成碳钨混合层,样品表面没有形成碳膜;碳的沉积率随能量的增大先减小后增加,溅射率随能量的增大先增大后减小;轰击后的样品中,碳原子密度、C-W键密度及C-C键密度分布都随能量的增加逐渐向样品内移动,且C-W键分布厚度随能量的增加而逐渐增加,C-C键分布厚度几乎不随能量变化;在作用过程中极少量的钨原子发生溅射,但引起钨晶格损伤严重;碳在轰击后的样品中主要以Csp3杂化形式存在。

关键词：分子动力学聚变材料沉积率溅射率钨的晶格

CH与聚变材料Be相互作用的分子动力学模拟

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

真空科学与技术学报 2014年第7期34卷 687-693页

作者：曹小岗田树平欧巍张静全潘宇东苟富均陈顺礼四川大学原子核科学技术研究所成都610064 四川大学材料科学与工程学院成都610064 核工业西南物理研究院成都610041

采用分子动力学方法模拟了不同能量的CH粒子与聚变材料Be的相互作用。根据托卡马克中的环境,入射粒子CH的模拟入射能量分别设定为低能量(1,5,10,25 eV)和高能量(50,100,150,200 eV),其中碳的沉积率随能量的增大逐渐增加,而氢的沉积率恰... 详细信息

采用分子动力学方法模拟了不同能量的CH粒子与聚变材料Be的相互作用。根据托卡马克中的环境,入射粒子CH的模拟入射能量分别设定为低能量(1,5,10,25 eV)和高能量(50,100,150,200 eV),其中碳的沉积率随能量的增大逐渐增加,而氢的沉积率恰好相反。当CH粒子的入射能量为低能量时,Be样品表面形成一层碳氢膜;且其膜厚度越来越薄,并且形成一个厚度逐渐增加中间层;当入射能量为高能量时,样品中的Be原子溅射越来越大,入射粒子在样品中的入射深度越来越深,对样品的破坏越来越大,且会在样品中形成一个C反应层。

关键词：分子动力学化学键反应层中间层溅射率