检索结果-南通市图书馆

江西地质科技 1997年第4期24卷 183-187页

作者：陈兴汉江西地质矿产勘查开发局地矿调研大队

本文对国内外宝石抛光机理的认识和发展分一个阶段进行了介绍根据江西地质宝石公司多年的宝石加工技术经验,重点的对影响宝石抛光效果和速度的主要因素进行了探讨。

关键词：宝石抛光技术抛光效果抛光速度影响因素

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影响大米抛光机抛光效果的因素分析

现代农机 2017年第5期 56-57页

作者：冬阳

目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析,供大家参考。

关键词：大米抛光机抛光效果表面光亮度完整率增碎米粒

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影响大米抛光机抛光效果的因素分析

农业开发与装备 2008年第6期 29-30页

作者：郑之坤广东粤博粮食机械制造厂广东饶平515700

随着我国经济的快速发展，人民生活水平的不断提高，大米深加工工艺在国内应运而生。因而，从事粮机行业的科研、制造单位纷纷瞄准大米抛光机市场，先后引进国外先进的大米抛光技术，研究设计出各种各样的大米抛光机。目前大米抛光机在... 详细信息

随着我国经济的快速发展，人民生活水平的不断提高，大米深加工工艺在国内应运而生。因而，从事粮机行业的科研、制造单位纷纷瞄准大米抛光机市场，先后引进国外先进的大米抛光技术，研究设计出各种各样的大米抛光机。目前大米抛光机在国内应用已十分广泛，而如何降低增碎。提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题，在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析，供大家参考。

关键词：大米抛光机抛光效果深加工工艺表面光亮度制造单位抛光技术生活水完整率

抛光液化学成分对钨化学机械抛光效果的影响研究

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机械制造 2010年第12期48卷 88-91页

作者：梅广益张克华文东辉浙江师范大学工学院浙江金华321004 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室杭州310032

化学机械抛光工艺(CMP)能够更好地满足光刻对平坦度的要求,因而被广泛应用于半导体制造工艺中。化学机械抛光液的不同成分将会直接影响到钨的抛光效果,从而影响到超大规模集成电路(ULSI)制备的成品率和可靠性。通过调配不同的氧化剂、... 详细信息

化学机械抛光工艺(CMP)能够更好地满足光刻对平坦度的要求,因而被广泛应用于半导体制造工艺中。化学机械抛光液的不同成分将会直接影响到钨的抛光效果,从而影响到超大规模集成电路(ULSI)制备的成品率和可靠性。通过调配不同的氧化剂、蚀刻剂和配位剂组成的抛光液,进行抛光加工实验。当氧化剂和蚀刻剂含量比较低时,随着氧化剂和蚀刻剂的含量增加,抛光效果近似线性的提高,达到一定值以后,随着氧化剂的继续增加,抛光效果反而下降。当氧化剂H2O 2的含量为4%、Fe(N O 3)3浓度为0.05%时抛光效果最佳。使用浓度为20%的2μm的Al2O 3磨粒,抛光最后表面粗糙度Ra能达到0.198 nm。

关键词：钨化学机械抛光抛光效果化学成分

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大米抛光效果的检测方法

粮食与食品工业 2010年第1期17卷 55-57页

作者：鲁邦年布勒(无锡)商业有限公司无锡214142

阐述了大米抛光的过程和作用原理,讨论了如何利用加工精度、白度和光洁度来检查大米的抛光效果及抛光效果的量化检查方法。

关键词：大米抛光效果加工精度光洁度摩擦系数

EVE与3M抛光组合对IPS *** CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响

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罕少疾病杂志 2023年第12期30卷 88-89页

作者：陈卓郭震威刘惠莉姚海亮郑州大学附属郑州中心医院口腔科河南郑州450007

目的探究EVE与3M抛光组合对IPS *** CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响。方法制备45个规格为15.0mm×10.0mm×4.0mm的IPS *** CAD全瓷修复体样本,根据不同的表面处理方法分为3组。G组:上釉处理;3M组:采用Sof-Lex^(TM) Discs瓷抛光... 详细信息

目的探究EVE与3M抛光组合对IPS *** CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响。方法制备45个规格为15.0mm×10.0mm×4.0mm的IPS *** CAD全瓷修复体样本,根据不同的表面处理方法分为3组。G组:上釉处理;3M组:采用Sof-Lex^(TM) Discs瓷抛光系统抛光;EVE组:采用EVE DIAPRO瓷抛光系统抛光。比较各组的表面粗糙度、维氏硬度以及断裂韧性。结果各组Ra值和断裂韧性从低到高依次为3M组0.05),EVE组有显著性差异(P0.05)。结论3M抛光组合对IPS *** CAD全瓷修复体抛光效果明显优于EVE抛光组合,且抛光处理能显著提高IPS *** CAD全瓷修复体的断裂韧性,3M抛光组合效果更佳。而不同的抛光工具对IPS *** CAD全瓷修复体的维氏硬度未产生明显影响。

关键词： EVE 3M IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果维氏硬度