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文献类型

  • 5 篇 期刊文献
  • 1 篇 学位论文

馆藏范围

  • 6 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

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  • 5 篇 工学
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    • 2 篇 设计学(可授艺术学...
  • 1 篇 理学
    • 1 篇 数学
  • 1 篇 管理学
    • 1 篇 管理科学与工程(可...

主题

  • 6 篇 图形拆分
  • 2 篇 道路矩阵
  • 1 篇 紫外线
  • 1 篇 图形设计
  • 1 篇 图形化
  • 1 篇 拓扑学
  • 1 篇 visualc++
  • 1 篇 路径
  • 1 篇 刻蚀
  • 1 篇 图形提取
  • 1 篇 数控机床
  • 1 篇 光学临近效应修正...
  • 1 篇 技术专家
  • 1 篇 纳米工艺
  • 1 篇 光刻
  • 1 篇 矩阵布尔乘⊙
  • 1 篇 图形数据
  • 1 篇 autocad二次开发
  • 1 篇 双重图形技术(dpt...
  • 1 篇 cad数据库

机构

  • 2 篇 清华大学
  • 2 篇 郑州大学
  • 1 篇 中国科学院微电子...
  • 1 篇 applied material...
  • 1 篇 日照职业技术学院
  • 1 篇 西安工业大学
  • 1 篇 河北工业大学
  • 1 篇 mentor graphics ...

作者

  • 2 篇 李春雨
  • 2 篇 童秉枢
  • 2 篇 谭同德
  • 1 篇 于丽贤
  • 1 篇 thorsten lill
  • 1 篇 陈旭东
  • 1 篇 steffen schulze
  • 1 篇 湛高辉
  • 1 篇 粟雅娟
  • 1 篇 韦亚一
  • 1 篇 刘伯颖

语言

  • 6 篇 中文
检索条件"主题词=图形拆分"
6 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
基于ObjectARX的复杂图形拆分及其实现
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智能制造 2015年 第12期 47-50页
作者: 陈旭东 刘伯颖 日照职业技术学院电子信息工程学院 河北工业大学电气工程学院
在数控机床的操作过程中,编程工作是枯燥而乏味的,指令测试往往伴随着工件的浪费.以VisualC++为开发工具,使用ObjectARX开发接口,可直接读出AutoCAD数据库中的设计图形数据.由设计图形数据出发,实现数控机床指令的自动编码与仿真,将... 详细信息
来源: 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
利用矩阵布尔乘⊙的图形拆分方法
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郑州大学学报(工学版) 2002年 第2期23卷 5-8,30页
作者: 谭同德 童秉枢 李春雨 郑州大学信息工程学院 河南郑州450052 清华大学精密仪器与机械学系 北京100084
为了给基于实例的设计和基于原型的设计等智能CAD设计方法提供图形样本 ,需将已有的图形参数化 .采用图论和拓扑学方法分析图形 ,研究了存储表达图形的邻接矩阵及寻找图形连通路径的道路矩阵后 ,推导并定义了矩阵布尔乘⊙ ,建立了寻找从... 详细信息
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一种新型双重图形技术拆分方法
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微纳电子技术 2016年 第4期53卷 259-264页
作者: 于丽贤 粟雅娟 韦亚一 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 北京100029
基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法。对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于... 详细信息
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基于矩阵的图形识别方法研究
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机械科学与技术 2003年 第5期22卷 735-737,763页
作者: 谭同德 童秉枢 李春雨 郑州大学信息工程学院 郑州450052 清华大学精密仪器与机械学系 北京100084
为了给基于实例的设计和基于原型的设计等智能 CAD设计方法提供图形样本 ,需将已有的图形参数化。本文采用图论和拓扑学方法分析图形 ,研究了存储表达图形的邻接矩阵、寻找图形连通路径的道路矩阵后 ,推导并定义了矩阵布尔乘 ,建立了寻... 详细信息
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复杂焊接结构装配图拆图系统的开发
复杂焊接结构装配图拆图系统的开发
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作者: 湛高辉 西安工业大学
学位级别:硕士
某重机企业在铆焊生产过程中经常要针对复杂焊接结构装配图进行图纸拆分以提取所需图形的有效封闭轮廓用于生产下料,长期以来该图形拆分工作主要依靠人工重绘方式完成,效率低且准确率不高。另外,由于重机行业整体数字化设计程度偏低,目... 详细信息
来源: 同方学位论文库 同方学位论文库 评论
刻蚀在逻辑器件图形化中的角色
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集成电路应用 2008年 第6期25卷 17-17页
作者: Thorsten Lill Steffen Schulze Applied Materials Santa Clara Calif. Mentor Graphics Wilsonville Ore.
由于引进极紫外线(EUV)光刻技术的迟滞,技术专家们开始利用现有光刻工具的替代性方案去完成32及22纳米工艺。例如,一个颇具前景的解决方案是将间距要求严苛的图形拆分到两个掩膜版,这样图形间距可以加倍。
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