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主题

  • 12 篇 反应离子镀
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  • 2 篇 ito薄膜
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  • 1 篇 电子工程
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  • 1 篇 物理系
  • 1 篇 冷阴极电弧
  • 1 篇 磁控溅射
  • 1 篇 薄膜技术
  • 1 篇 类金刚石薄膜
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机构

  • 6 篇 河南师范大学
  • 5 篇 清华大学
  • 1 篇 86176部队14分队
  • 1 篇 太原理工大学
  • 1 篇 中国工程物理研究...
  • 1 篇 三和国际触控屏事...

作者

  • 6 篇 王建成
  • 6 篇 韩丽瑛
  • 4 篇 高健存
  • 1 篇 李誉明
  • 1 篇 熊国刚
  • 1 篇 李恩平
  • 1 篇 潘俊德
  • 1 篇 田林海
  • 1 篇 高强
  • 1 篇 莘海维
  • 1 篇 李力
  • 1 篇 方次尹
  • 1 篇 贺琦
  • 1 篇 肖李鹏
  • 1 篇 谢国会
  • 1 篇 三和国际触控屏事...
  • 1 篇 王喜中

语言

  • 12 篇 中文
检索条件"主题词=反应离子镀"
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反应离子镀光学薄膜的牢固度和表面粗糙度分析
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激光与红外 1993年 第6期23卷 40-41,32页
作者： 王建成 韩丽瑛 高健存 河南师范大学物理系 新乡453002 清华大学现代应用物理系 北京100083
本文对反应离子镀和反应蒸发(电子束蒸发)工艺制备的光学薄膜的牢固度和表面粗糙度进行了检测,并将结果进行对比。
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光学薄膜反应离子镀技术研究
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激光与红外 1994年 第1期24卷 54-57页
作者： 王建成 韩丽瑛 高健存 河南师范大学物理系 北京清华大学现代应用物理系
光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制，在此设备上成功地制备了ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３光学薄膜，测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率；并对... 详细信息
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反应离子镀光学薄膜的微观结构分析
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光学学报 1993年 第10期13卷 956-959页
作者： 王建成 韩丽瑛 高健存 河南师范大学物理系 新乡453002 清华大学现代应用物理系 北京100084
用反应离子镀方法制备了TiO_2单层膜及TiO_2/SiO_2多层膜,用透射电子显微镜分别观察了由反应离子镀方法及传统蒸镀法二种不同工艺制得的TiO_2单层膜及TiO_2/SiO_2多层膜的断面结构,并对TiO_2单层膜进行了喇曼分析和卢瑟福背散射分析.
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反应离子镀TiO_2膜的聚集密度的测定
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光电子．激光 1993年 第3期4卷 144-144页
作者： 王建成 谢国会 高健存 韩丽瑛 河南师范大学物理系 新乡453002 清华大学现代应用物理系 北京100084
光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术,正在受到国内外的关注,传统的反应蒸发工艺制备的光学薄膜呈显著的柱状结构,表面粗糙等缺陷;而反应离子镀工艺制备的光学薄膜,牢固度、致密度、表面光洁度等光机性能均有明显... 详细信息
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退火对反应离子镀ITO薄膜光学特性的影响
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山西师大学报（自然科学版） 1999年 第2期13卷 27-31页
作者： 李誉明 高强 86176部队14分队
选用R.I.P.工艺,以Sn、In为蒸发物.以Gs-I型全息干板为基片,在200℃的条件下制备出ITO薄膜.经退火处理表明:退火有助于提高ITO薄膜的可见、近红外光的透射率,但退火温度有一阈值;退火不利于提高ITO薄膜的近红外反射率.
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电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀合成AlN薄膜
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热加工工艺 2000年 第4期29卷 22-24页
作者： 潘俊德 田林海 莘海维 贺琦 李力 太原理工大学表面工程研究所 山西太原030024
利用电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀法 ,在 Si、Mo和不锈钢等基材上合成 Al N薄膜 ;采用 SEM、XRD及 IR对薄膜的表面形貌、晶体结构进行了分析。结果表明 ,用此法可以合成高质量的 Al N薄膜 ,而且具有合成速度快、设备简单等优点 。
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光学薄膜的反应离子镀概述
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河南师范大学学报（自然科学版） 1993年 第2期21卷 112-112页
作者： 王建成 王喜中 韩丽瑛 河南师范大学物理系 清华大学现代应用物理系
光学薄膜反应离子镀技术是近10年来镀膜技术的最新突破,也是当今国际薄膜界研究的热点。本文以简明扼要的方式报道了作者对反应离子镀技术的最新研究成果。1
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反应离子镀制备ITO膜
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光学技术 1993年 第5期19卷 21-22页
作者： 王建成 韩丽瑛 河南师范大学物理系 新乡453002 清华大学现代应用物理系 北京100084
采用反应离子镀新工艺成功地在K9玻璃上制备了ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,所制备的ITO膜在550～600nm波长范围内,典型的峰值透过率为89%,面电阻为34Ω/□。
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Al_2O_3与TiO_2混合离子镀过程中工艺参数对涂层性能的影响
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腐蚀与防护 2003年 第6期24卷 252-253页
作者： 肖李鹏 熊国刚 李恩平 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 四川绵阳621900
讨论了在采用离子镀获得Al2 O3 与TiO2 混合涂层工艺过程中 ,真空度、基片偏压。
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电气和电子工程用材料科学
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中国无线电电子学文摘 2004年 第5期20卷 1-3页
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