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光学薄膜反应离子镀技术研究

A Study on Optical Coatings by Reactive Ion Plating

作     者：王建成 韩丽瑛 高健存 

作者机构：河南师范大学物理系北京清华大学现代应用物理系 

出 版 物：《激光与红外》 (Laser & Infrared)

年 卷 期：1994年第24卷第1期

页      面：54-57页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

主　　题：光学薄膜 反应离子镀 

摘      要：光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制，在此设备上成功地制备了ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３光学薄膜，测出其折射率接近或达到同种块状材料的折射率；并对ＴｉＯ２、ＳｉＯ２，单层膜的成份及价态作了Ｘ光电子能谱分析。

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