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Investigation of nanometer-scale films using low angle Xray reflectivity analysis in IPOE

Optoelectronics Letters 2007年第2期3卷 88-90页

作者： WANG Zhan-shan XU Yao WANG Hong-chang ZHU Jing-tao ZHANG Zhong WANG Feng-li CHEN Ling-yan Institute of Precision Optical Engineering Tongji University Shanghai 200092 China

The X-ray low angle reflectivity measurement is used to investigate single and bilayer films to determine the parameters of nanometer-scale structures,three effectual methods are presented by using X-ray reflectivity analysis to provide an accurate estimation of the nanometer film structures. The parameters of tungsten (W) single layer, such as the material density, interface roughness and deposition rate, were obtained easily and speedily. The base metal layer was introduced to measure the profiles of single low Z material film. A 0.3 nm chromium (Cr) film was also studied by low angle reflectivity analysis.

关键词： IPOE 纳米级薄膜 X线反射率分析多层结构参数

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