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中国激光 2024年第12期51卷 329-348页

作者：郭嘉龙魏涛魏劲松胡敬程淼刘倩倩王瑞瑞李宛飞刘波苏州科技大学材料科学与工程学院苏州市微纳光电材料与传感器重点实验室江苏苏州215009 中国科学院上海光学精密机械研究所微纳光电材料与器件实验室上海201800

激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助以及能实现大面积的微纳结构制造的优点,在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域中具有广阔的应用前景。然而,受到光学衍射极限的限制,激光直写光刻的分辨率难以达到nm量级。相变薄膜... 详细信息

激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助以及能实现大面积的微纳结构制造的优点,在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域中具有广阔的应用前景。然而,受到光学衍射极限的限制,激光直写光刻的分辨率难以达到nm量级。相变薄膜具有制备工艺简单、热阈值效应明显、相变前后显影选择性好等特点,能为实现高分辨激光直写光刻提供新的解决方案。首先,介绍了基于相变薄膜的高分辨激光直写光刻原理。其次,综述了近年来用于高分辨激光直写光刻的SbTe基、GeSbTe基和其他类型相变薄膜的光刻特性、刻蚀选择性以及相关机理。然后,进一步综述了相变薄膜的高分辨激光直写光刻在相变存储、光学传感、光学器件制造及灰度/彩色打印等领域中的应用潜力。最后,对相变薄膜在高分辨激光直写光刻方面的应用前景进行了总结与展望。

关键词：光刻高分辨激光直写相变薄膜热阈值应用

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基于相变薄膜高分辨激光直写光刻研究进展（特邀）

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中国激光 2024年第12期 337-356页

作者：郭嘉龙魏涛魏劲松胡敬程淼刘倩倩王瑞瑞李宛飞刘波苏州科技大学材料科学与工程学院苏州市微纳光电材料与传感器重点实验室中国科学院上海光学精密机械研究所微纳光电材料与器件实验室

激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助以及能实现大面积的微纳结构制造的优点，在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域中具有广阔的应用前景。然而，受到光学衍射极限的限制，激光直写光刻的分辨率难以达到nm量级。相变薄... 详细信息

激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助以及能实现大面积的微纳结构制造的优点，在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域中具有广阔的应用前景。然而，受到光学衍射极限的限制，激光直写光刻的分辨率难以达到nm量级。相变薄膜具有制备工艺简单、热阈值效应明显、相变前后显影选择性好等特点，能为实现高分辨激光直写光刻提供新的解决方案。首先，介绍了基于相变薄膜的高分辨激光直写光刻原理。其次，综述了近年来用于高分辨激光直写光刻的SbTe基、GeSbTe基和其他类型相变薄膜的光刻特性、刻蚀选择性以及相关机理。然后，进一步综述了相变薄膜的高分辨激光直写光刻在相变存储、光学传感、光学器件制造及灰度/彩色打印等领域中的应用潜力。最后，对相变薄膜在高分辨激光直写光刻方面的应用前景进行了总结与展望。

关键词：光刻高分辨激光直写相变薄膜热阈值应用

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基于相变薄膜高分辨激光直写光刻研究进展

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中国激光 2024年

作者：郭嘉龙魏涛魏劲松胡敬程淼刘倩倩王瑞瑞李宛飞刘波中国科学院上海光学精密机械研究所微纳光电材料与器件实验室苏州科技大学材料科学与工程学院苏州市微纳光电材料与传感器重点实验室

激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助，能实现大面积微纳结构制造，在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域具有广阔应用前景。然而，由于光学衍射极限的制约，激光直写光刻的分辨率难以达到纳米量级。相变薄膜由于制备工... 详细信息

激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助，能实现大面积微纳结构制造，在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域具有广阔应用前景。然而，由于光学衍射极限的制约，激光直写光刻的分辨率难以达到纳米量级。相变薄膜由于制备工艺简单，具有明显的热阈值效应，相变前后的显影选择性好，为实现高分辨激光直写光刻提供新的解决方案。本文首先介绍了基于相变薄膜的高分辨激光直写光刻原理。然后综述了近年来用于高分辨激光直写光刻的SbTe基、GeSbTe基和其它类型相变薄膜的光刻特性、刻蚀选择性以及相关机理。进一步综述了相变薄膜的高分辨激光直写光刻在相变存储、光学传感、光学器件制造及灰度/彩色打印领域的应用潜力。最后对相变薄膜在高分辨激光直写光刻方面的应用前景进行了总结与展望。

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