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新型碱性清洗剂对BTA去除的研究

微纳电子技术 2014年第7期51卷 470-474页

作者：洪姣刘玉岭王辰伟苗英新段波河北工业大学微电子研究所天津300130

为了有效去除化学机械抛光(CMP)后清洗中的苯并三氮唑(BTA)沾污,分析了碱性清洗剂中FA/OⅡ型螯合剂和FA/OⅠ型表面活性剂对BTA去除的影响规律。铜光片上的单因素实验中,通过测试铜光片清洗前后铜表面与去离子水的接触角得出:FA/OⅡ型螯... 详细信息

为了有效去除化学机械抛光(CMP)后清洗中的苯并三氮唑(BTA)沾污,分析了碱性清洗剂中FA/OⅡ型螯合剂和FA/OⅠ型表面活性剂对BTA去除的影响规律。铜光片上的单因素实验中,通过测试铜光片清洗前后铜表面与去离子水的接触角得出:FA/OⅡ型螯合剂是影响铜光片上BTA去除的主要因素,FA/OⅠ型表面活性剂对铜光片上BTA的去除有一定的作用。利用扫描电镜测试采用不同体积分数和不同配比的清洗液清洗后的图形片上的BTA沾污,通过对比清洗后铜光片上残留的BTA沾污数量可知,清洗剂中FA/OⅡ型螯合剂体积分数为0.01%和FA/O I型表面活性剂体积分数为0.25%时,清洗剂清洗BTA沾污效果最好,基本上无BTA沾污残留,并且清洗后未发现氧化铜颗粒和硅溶胶颗粒沾污。

关键词：碱性清洗剂螯合剂表面活性剂苯并三氮唑(BTA) 接触角

抛光液组分对3D微同轴中铜和光刻胶化学机械抛光速率选择性的影响

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电镀与涂饰 2022年第7期41卷 486-490页

作者：李森王胜利李红亮王辰伟雷双双刘启旭河北工业大学电子信息工程学院天津300130 天津市电子材料与器件重点实验室天津300130 天津市计量监督检测科学研究院天津300192

研究了碱性抛光液的pH、SiO_(2)磨料质量分数、H;O_(2)体积分数和甘氨酸质量分数对3D微同轴加工中铜和光刻胶化学机械抛光(CMP)去除速率的影响,得到较佳的抛光液组成为:SiO_(2)5%,H;O_(2)20 mL/L,甘氨酸2.5%,pH=10。采用该抛光液时,铜... 详细信息

研究了碱性抛光液的pH、SiO_(2)磨料质量分数、H;O_(2)体积分数和甘氨酸质量分数对3D微同轴加工中铜和光刻胶化学机械抛光(CMP)去除速率的影响,得到较佳的抛光液组成为:SiO_(2)5%,H;O_(2)20 mL/L,甘氨酸2.5%,pH=10。采用该抛光液时,铜和光刻胶的去除速率非常接近,满足3D微同轴加工对铜和光刻胶CMP去除速率选择性的要求。

关键词：三维微同轴铜光刻胶化学机械抛光碱性抛光液去除速率

孝文化的尊崇与颂扬——《沈清传》与中国文学

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北京联合大学学报（人文社会科学版） 2024年第5期22卷 116-124页

作者：李官福张晨桅延边大学外国语学院吉林延吉133002

《沈清传》是韩国三大古典名著之一,是“孝”文化的经典之作,在韩国文学史上具有重要地位。“孝”在韩国深入人心,孝女沈清为救盲父牺牲生命的感人故事在韩国家喻户晓。本文以儒、佛、道思想解读《沈清传》之“孝”文化,并比较中韩孝女... 详细信息

《沈清传》是韩国三大古典名著之一,是“孝”文化的经典之作,在韩国文学史上具有重要地位。“孝”在韩国深入人心,孝女沈清为救盲父牺牲生命的感人故事在韩国家喻户晓。本文以儒、佛、道思想解读《沈清传》之“孝”文化,并比较中韩孝女形象的嬗变,考察《沈清传》与中国文学的关联。通过分析认为,《沈清传》的“孝”文化,虽然具有本土特色,但更多的是受来自中国“孝”文化的影响。中韩同属汉字文化圈,“孝”体现了两国人民共同的道德文化观念,“孝”文化有助于弘扬人类精神文明,这对中韩文学与文化的交流,以及当代社会优秀“孝”文化的传承与发展,具有重要的现实意义。

关键词：《沈清传》 “孝”文化孝女形象颂扬

磷酸和酒石酸在GSI阻挡层CMP抛光液中的应用

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半导体技术 2012年第3期37卷 188-191页

作者：张晓强刘玉岭王辰伟杨立兵河北工业大学微电子研究所天津300130

在阻挡层的化学机械平坦化(CMP)过程中,Cu与阻挡层去除速率的一致性是保证平坦化的关键问题之一。低k介质材料的引入要求阻挡层在低压力下用弱碱性抛光液进行CMP,这给抛光液对不同材料的选择性提出了新的挑战。研究了低压2 psi,(1 psi=6... 详细信息

在阻挡层的化学机械平坦化(CMP)过程中,Cu与阻挡层去除速率的一致性是保证平坦化的关键问题之一。低k介质材料的引入要求阻挡层在低压力下用弱碱性抛光液进行CMP,这给抛光液对不同材料的选择性提出了新的挑战。研究了低压2 psi,(1 psi=6.89 kPa)CMP条件下,磷酸和酒石酸作为阻挡层抛光液pH调节剂对Cu和Ta的络合作用。实验结果表明,酒石酸对Cu和Ta有一定的络合作用,能够提高它们的去除速率;磷酸能提高Ta的去除速率,而对Cu的去除有抑制作用。最终在加入磷酸浓度为2×10-2mol/L,酒石酸浓度为1×10-2mol/L,H2O2体积分数为0.3%,pH=8.5时,Cu/Ta/SiO2介质的去除速率选择比达到了1∶1∶1,去除速率约为58 nm/min;同时,磷酸和酒石酸的加入能够有效改善Cu的表面状态。

关键词：化学机械平坦化(CMP) 磷酸酒石酸阻挡层去除速率选择比

超滤和活性剂协同作用对铜阻挡层CMP后缺陷的控制机理研究

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电子元件与材料 2022年第4期41卷 392-397页

作者：崔志慧王辰伟刘玉岭赵红东续晨河北工业大学电子信息工程学院天津300130 天津市电子材料与器件重点实验室天津300130 光电信息控制和安全技术重点实验室天津300308

在铜互连阻挡层化学机械抛光(CMP)过程中,由于工艺和材料等因素会产生划伤和沾污等缺陷问题,造成器件失效、良率降低及潜在可靠性等问题。研究了抛光液中活性剂及超滤工艺对CMP后缺陷的影响,提出了活性剂和超滤协同控制CMP后缺陷的作用... 详细信息

在铜互连阻挡层化学机械抛光(CMP)过程中,由于工艺和材料等因素会产生划伤和沾污等缺陷问题,造成器件失效、良率降低及潜在可靠性等问题。研究了抛光液中活性剂及超滤工艺对CMP后缺陷的影响,提出了活性剂和超滤协同控制CMP后缺陷的作用机理。通过粒径和大颗粒测试仪表征抛光液粒径和大颗粒数的变化,通过扫描电子显微镜(SEM)和接触角测试仪表征抛光液的变化。通过缺陷检测仪测试验证CMP后缺陷情况。实验结果表明,加入活性剂在未超滤的情况下,抛光液平均粒径从66.1 nm降为65.3 nm,粒径分布更加集中,缺陷总数从4251降低至1480。在此基础上通过研究不同超滤工艺对缺陷的影响,结果显示,在5μm+1μm二级超滤系统下,抛光液大颗粒数量从34.25万颗/mL减少到26.12万颗/mL,经图形片验证,缺陷总数和各缺陷占比显著降低,对于提高电路性能和产品良率有着重要意义。

关键词：化学机械抛光缺陷活性剂超滤工艺协同作用

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沥青路面交叉口高温稳定性关键指标分析

施工技术 2021年第7期50卷 132-136页

作者：汪义王海涛梅鸽福王晨炜中国核工业中原建设有限公司北京100142

为更准确评价道路交叉口沥青路面材料的高温稳定性,对标准动态蠕变试验的加载模式进行改进。在考虑交叉口特殊交通荷载环境的基础上,提出常速行驶、减速行驶、低速行驶和停止4种驾驶行为的加载方式。通过改进型动态蠕变试验,对4种不同... 详细信息

为更准确评价道路交叉口沥青路面材料的高温稳定性,对标准动态蠕变试验的加载模式进行改进。在考虑交叉口特殊交通荷载环境的基础上,提出常速行驶、减速行驶、低速行驶和停止4种驾驶行为的加载方式。通过改进型动态蠕变试验,对4种不同沥青混合料的高温蠕变指标(流变次数Fn和流变速率Cr)进行分析。结果表明:从常速加载模式到停止模式,4种沥青混合料的Fn均下降且Cr均上升,说明在低速行驶或停止加载模式下,沥青混合料更容易发生蠕变损伤;在不同加载模式下,高强改性沥青混合料均表现出最高的Fn和最低的Cr,说明高强改性沥青在复杂交通荷载环境下的高温稳定性最好;添加纤维对提升沥青混合料的高温稳定性具有积极作用;不同加载模式对沥青混合料高温稳定性的区分度存在差别。考虑道路交叉口的特殊性,可采用条件更为苛刻的低速行驶或者停止加载模式进行材料室内设计。

关键词：道路交叉口沥青混合料高温稳定性动态蠕变试验加载方式流变次数

不同体积分数螯合剂对Cu-BTA去除的影响

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微纳电子技术 2014年第7期51卷 465-469,474页

作者：苗英新王胜利刘玉岭王辰伟孙铭斌洪姣河北工业大学微电子研究所天津300130

化学机械抛光（CMP）过程中苯并三氮唑（BTA）与金属铜反应生成表面难溶、难以去除的Cu—BTA钝化膜，是抛光后清洗过程中主要去除的对象。采用自主研发的FA／OⅡ型碱性螯合剂作为清洗液的主要成分，并对清洗过程中有效去除Cu—BTA的螯... 详细信息

化学机械抛光（CMP）过程中苯并三氮唑（BTA）与金属铜反应生成表面难溶、难以去除的Cu—BTA钝化膜，是抛光后清洗过程中主要去除的对象。采用自主研发的FA／OⅡ型碱性螯合剂作为清洗液的主要成分，并对清洗过程中有效去除Cu—BTA的螯合剂体积分数进行了研究。通过Cu—BTA膜厚生长实验，确定Cu—BTA的生长方式。根据BTA在不同FA／O型螯合剂中溶解度对比实验，确定FA／OⅡ型螯合剂为清洗液的主要成分。通过大量实验得到，FA／OⅡ型螯合剂体积分数为0．0075％～0．015％时，能有效去除Cu—BTA钝化膜及表面其他残留物，接触角下降到29°，表面粗糙度得到改善约为3．91nm。此外，静态腐蚀速率实验进一步验证接触角的测试结果，确定有效去除Cu—BTA的螯合剂体积分数。

关键词：螯合剂清洗剂 Cu—BTA聚合物接触角静态腐蚀速率粗糙度

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小胶质细胞活化对癫痫发病的影响

中国组织化学与细胞化学杂志 2013年第4期22卷 311-316页

作者：何青唐振刚任玉奇王陈维王郡陈怡李正莉华中科技大学同济医学院解剖学教研室武汉430030 湖北医药学院附属人民医院神经外科湖北442000

目的探讨抑制小胶质细胞活化对癫痫发作的影响及对脑神经元的保护作用。方法将大鼠随机分为4组:生理盐水对照组(NS组),海人酸致痫组(KA组),美满霉素预处理+海人酸组(MC+KA组),单纯美满霉素组(MC组)。采用免疫组化法观察各组大鼠造模后脑... 详细信息

目的探讨抑制小胶质细胞活化对癫痫发作的影响及对脑神经元的保护作用。方法将大鼠随机分为4组:生理盐水对照组(NS组),海人酸致痫组(KA组),美满霉素预处理+海人酸组(MC+KA组),单纯美满霉素组(MC组)。采用免疫组化法观察各组大鼠造模后脑内OX-42、c-fos和caspase-3免疫反应性。RT-PCR或Western blot法检测造模后Apaf-1mRNA含量和caspase-3蛋白表达量。结果在KA致痫后2h大脑皮质及海马部位有明显的小胶质细胞活化、增殖,同时c-fos蛋白的表达在致痫组也较对照组显著增强,MC干预致痫组可明显减弱上述效应。Apaf-1mRNA的含量及caspase-3蛋白含量和免疫反应在造模后24h时间点四组之间无明显差异,在48h和72h时间点,KA组明显高于对照组(P<0.05),MC预处理则明显拮抗其高表达(P<0.05)。结论 KA致痫不仅通过提高神经元的兴奋性而且也通过激活小胶质细胞共同导致癫痫发作,二者相互协同作用,可进一步促进神经元凋亡,而MC能通过抑制小胶质细胞活化在癫痫中发挥神经保护作用。

关键词：癫痫小胶质细胞美满霉素凋亡大鼠

学徒制学生管理模式实践与探索——以轻化工专业为例

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造纸科学与技术 2024年第3期43卷 165-168页

作者：王楠李晨薇陕西工业职业技术学院陕西咸阳712000

当前,高校教育改革已经将现代学徒制视作重要发展方向,可以更好地辅助学生将职业素养与专业能力进行有机结合,进而促使日常教学与学生的创业就业实现密切关联。基于此,将高校轻化工专业学生作为对象,通过对现代学徒制内涵进行深入分析,... 详细信息

当前,高校教育改革已经将现代学徒制视作重要发展方向,可以更好地辅助学生将职业素养与专业能力进行有机结合,进而促使日常教学与学生的创业就业实现密切关联。基于此,将高校轻化工专业学生作为对象,通过对现代学徒制内涵进行深入分析,了解在培养这些学生创新力时所产生的问题,剖析此学徒制在增强他们创新力方面的重要优势,同时还给出了具体培养路径,为培养他们专业技能、自主创新力、岗位适应力等提供重要基础。

关键词：轻化工学徒制学生管理模式创新力