检索结果-南通市图书馆

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Resists Based on Hyperbranched Polyesters for Microlens Array Fabrication

Resists Based on Hyperbranched Polyesters for Microlens Arra...

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The 8th International Conference on Radiation Curing

作者： zongcai fong Department of Polymer Science and Engineering State Key Lab for Polymeric Materials Engineering Sichuan University Cheng Du 610065 China

＜正＞Three-component photoresists were prepared from hyperbranched polyester, multifunctional acrylate monomers and photoinitiator. The hyperbranched resin had -COOH, -OH and methacryloxy groups on their chain ends. The dried resist on glass substrate showed H- HB pencil hardness. Sensitivity and contrast upon UV exposure were tunable by development solution and the amount of photoinitiator. In a case, high sensitivity with E0 -5.5 mJ/cm2 and high contrast with μ-8were obtained for resist exposed with a mixed UV light and developed with TMAH aqueous. The resist exhibited a unique linear relationship on exposure time with etching depth. This property provided a controlling of surface profile of micro optical elements fabricated with photoresists. Microlens arrays （200×200 μm） were prepared with a moving-mask using this photoresist.

关键词： Hyperbranched polyester. Photoresist. Microlens array UV curing MEMS

来源： cnki会议评论

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