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Influence of oxygen gas content on the structural and optical properties of ZnO thin films deposited by RF magnetron sputtering at room temperature

2000 2nd International Conference on Microwave and Millimeter Wave Technology

作者： Zhang Kaixi zhao qingxun Department of Physics Hebei University

＜正＞Using Onsager potential transfer differential equation of irreversible process thermodynamics, the nonlinear microwave heating of polymer materials by microwave beam has calculated *** results corresponding to t...

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Rare Metals 2011年第2期30卷 170-174页

作者： LIU Baoting ZHOU Yang ZHENG Hongfang LI Mana GUO Zhe HAO qingxun PENG Yingcai College of Physics Science and Technology Hebei University Baoding 071002 China Baoding University Baoding 071000 China College of Electronic and Information Engineering Hebei University Baoding 071002 China

Zinc oxide （ZnO） thin films were deposited on sapphire （0001） substrates at room temperature by radiofrequency （RF） magnetron sputtering at oxygen gas contents of 0%, 25%, 50% and 75%, respectively. The influence of oxygen gas content on the structural and optical properties of ZnO thin films was studied by a surface profile measuring system, X-ray diffraction analysis, atomic force microscopy, and UV spectro- photometry. It is found that the size of ZnO crystalline grains increases first and then decreases with the increase of oxygen gas content, and the maximum grain size locates at the 25% oxygen gas content. The crystalline quality and average optical transmittance （〉90%） in the visi- ble-light region of the ZnO film prepared at an oxygen gas content of 25% are better than those of ZnO films at the other contents. The obtained results can be attributed to the resputtefing by energetic oxygen anions in the growing process.

关键词： thin films zinc oxide magnetron sputtering oxygen structural properties optical properties

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光学发射谱在硫掺杂金刚石薄膜制备中的应用

实验技术与管理 2011年第11期28卷 41-43,46页

作者：葛大勇赵庆勋杨保柱何雷河北大学物理科学与技术学院河北保定071002

利用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,制备硫掺杂n型金刚石薄膜,利用光学发射谱技术对其生长环境进行原位诊断,分析合成机理及生长的最佳条件。结果表明,合成金刚石薄膜的合成反应区中主要粒子为CH、CH+、活性H原子,提高工作气压和... 详细信息

利用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,制备硫掺杂n型金刚石薄膜,利用光学发射谱技术对其生长环境进行原位诊断,分析合成机理及生长的最佳条件。结果表明,合成金刚石薄膜的合成反应区中主要粒子为CH、CH+、活性H原子,提高工作气压和硫碳配比浓度有利于提高硫掺杂浓度,在低温条件下合成了高品质的硫掺杂n型金刚石薄膜。

关键词：金刚石薄膜光学发射谱 n型掺杂硫掺杂

Solution-Processed Hybrid Europium (Ⅱ) lodide Scintillator for Sensitive X-Ray Detection

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Research 2024年第1期2024卷 49-57页

作者： Xue zhao Pengfei Fu Pan Li Hainan Du Jinsong Zhu Ciyu Ge Longbo Yang Boxiang Song Haodi Wu Tong Jin qingxun Guo Liang Wang Jinghui Li Zewen Xiao Jingjing Chang Guangda Niu Jiajun Luo Jiang Tang School of Microelectronics Xidian UniversityXi'an 710071China Wuhan National Laboratory for Optoelectronics Huazhong University of Science and TechnologyWuhan 430074China China Optics Valley Laboratory Wuhan 430074China School of Optical and Electronic Information Huazhong University of Science and TechnologyWuhan 430074China

Lead halide perovskite nanocrystals have recently demonstrated great potential as x-ray scintillators,yet they stll suffer toxicity issues,inferior light yield(LY)caused by severe *** bivalent europium ions(Eu^(2+))with intrinsically efficient and self-absorption-free d-f transition are a prospective replacement for the toxic Pb^(2+).Here,we demonstrated solution-processed organic-inorganic hybrid halide BA_(10)Eul_(12)(BA denotes C_(4)H_(9)NH_(4)^(+))single crystals for the first time.

关键词： absorption halide perovskite

非晶Ni-Al-N薄膜用作Cu互连阻挡层的研究

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真空科学与技术学报 2011年第1期31卷 23-26页

作者：陈剑辉刘保亭李晓红王宽冒李曼赵冬月杨林赵庆勋河北大学物理科学与技术学院保定071002

以一种新的三元非晶化合物薄膜作为Cu互连的阻挡层,采用射频磁控溅射法构架了Cu(120 nm)/Ni-Al-N(10nm)/Si的异质结。利用四探针测试仪、X射线衍射仪和原子力显微镜研究了不同温度下高真空退火样品的输运性质、微观结构与表面形貌。实... 详细信息

以一种新的三元非晶化合物薄膜作为Cu互连的阻挡层,采用射频磁控溅射法构架了Cu(120 nm)/Ni-Al-N(10nm)/Si的异质结。利用四探针测试仪、X射线衍射仪和原子力显微镜研究了不同温度下高真空退火样品的输运性质、微观结构与表面形貌。实验发现非晶Ni-Al-N薄膜经过650℃的高温处理仍能保持非晶态,各膜层之间没有明显的反应和互扩散存在,表明非晶Ni-Al-N具有良好的阻挡效果,可以用作Cu互连的阻挡层材料。另外,相对于Ni-Al扩散阻挡层材料,N的掺入填充了阻挡层的缺陷,降低了Cu膜粗糙度,使薄膜表面更加平整致密,起到了细化晶粒的作用。对Ni-Al-N阻挡层的失效机制的研究表明Ni-Al-N阻挡层的失效机制有别于传统的Cu-Si互扩散机制,Cu膜内应力导致其颗粒内聚形成大团簇,与阻挡层剥离会导致Cu/Ni-Al-N/Si结构失效。

关键词： Cu互连 Ni-Al-N 扩散阻挡层失效机制

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硅基集成电路中Cu互连阻挡层的研究

材料导报 2010年第11期24卷 58-63,72页

作者：陈剑辉刘保亭赵冬月杨林李曼刘卓佳赵庆勋河北大学物理科学与技术学院保定071002

随着集成电路向超大规模的发展,Cu互连技术已成为硅工艺领域的热点话题,其关键技术之一——扩散阻挡层的研究越来越受到人们的关注。结合课题组阻挡层的研究工作,介绍了当前Cu互连技术中难熔金属及其氮(碳、硅、氧)化物、多层膜、三元... 详细信息

随着集成电路向超大规模的发展,Cu互连技术已成为硅工艺领域的热点话题,其关键技术之一——扩散阻挡层的研究越来越受到人们的关注。结合课题组阻挡层的研究工作,介绍了当前Cu互连技术中难熔金属及其氮(碳、硅、氧)化物、多层膜、三元化合物等各类扩散阻挡层材料的研究发展现状,论述了阻挡层的厚度问题、阻挡层研究过程中的分析表征方法以及当前Cu互连的理论研究现状,归纳并分析了阻挡层的失效机制。

关键词： Cu互连扩散阻挡层失效机制

含Ti-Al阻挡层的硅基Nb掺杂Pb(Zr,Ti)O_3铁电电容器的研究

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真空科学与技术学报 2007年第3期27卷 177-180页

作者：刘保亭马良边芳闫小兵张新赵庆勋闫正河北大学物理科学与技术学院保定071002 河北大学电信学院保定071002

应用非晶的Ti-Al薄膜作为导电阻挡层,通过溶胶-凝胶法和磁控溅射法成功地在Si基片上制备了La0.5Sr0.5CoO3/Pb(Nb0.02Zr0.39Ti0.59)O3/La0.5Sr0.5CoO3(LSCO/PNZT/LSCO)电容器异质结,研究了该异质结的铁电性能。当外加电压为5V时,LSCO/PNZ... 详细信息

关键词：阻挡层铁电存储器异质结 LSCO/PNZT/LSCO Ti-Al

高温超导交流磁体气冷电流引线的优化设计和实验

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低温工程 2005年第4期 49-52页

作者：闫正管萧津赵庆勋王银顺杨景发徐景智李光河北大学物理科学与技术学院保定071002 保定高等师范专科学校物理系保定071051

通过研究交流超导磁体气冷电流引线两段式模型的优化设计,使得其向低温系统的漏热达到最小,并自行设计热测法实验装置进行了实验研究。结果表明在引线顶端温度为300 K、引线下端温度为77 K、引线传输电流为460 A的情况下,得到最佳引线... 详细信息

通过研究交流超导磁体气冷电流引线两段式模型的优化设计,使得其向低温系统的漏热达到最小,并自行设计热测法实验装置进行了实验研究。结果表明在引线顶端温度为300 K、引线下端温度为77 K、引线传输电流为460 A的情况下,得到最佳引线直径为7.9 mm,与实验值8 mm符合。对交流电流引线的趋肤效应进行了分析和讨论。

关键词：气冷电流引线漏热焦耳热传导热趋肤效应

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大气粉尘中Cr(Ⅵ)的测定

吉林大学自然科学学报 1985年第2期 109-113页

作者：郭雅先贲跃之赵明堂魏庆珣吉林大学化学系分析化学教研室

本文提出了一个测定大气粉尘中Cr(Ⅵ)的新方法。本法消除了重金属离子、还原性无机和有机物质对浸取和测定所造成的干扰,从而使分析结果的准确度和精密度大为提高。

关键词：浸取剂大气粉尘滤膜浸取液 NaOH EDTA 络合试剂水浸取 Cr