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检索条件"作者=Marcel Toulemonde"
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4 - 20 Additive Interaction of Hillock Formation on CaF2 Surface Irradiated by Highly Charged Xenon Ions in MeV Energy Regime
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IMP & HIRFL Annual Report 2013年 第1期 196-197页
作者: Wang Yuyu Clara Grygiel Christian Dufour Sun Jianrong Wang Zhiguang Zhao Yongtao Xiao Guoqing ChengRui Zhou Xianming Ren Jieru Amine Cassimi Isabelle Monnet Serge Bouffard Fritz Aumayr marcel toulemonde Cimap-Ganil Cea-Cnrs-Ensicaen-University of CAEN F-14070 Caen Cedex 5 France.
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Investigation of microstructure modification of C-doped a-SiO_2/Si after Pb-ion irradiation
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Science China(Physics,Mechanics & Astronomy) 2012年 第2期55卷 242-246页
作者: LIU ChunBao WEI KongFang YAO CunFeng WANG ZhiGuang JIN YunFan toulemonde M Department of Physics Heze UniversityHeze 274015China Institute of Modern Physics Chinese Academy of SciencesLanzhou 730000China Centre for Interdisciplinary Research with Heavy lons Caen 14070France
Thermally grown amorphous SiO2 (a-SiOz) films were implanted at room temperature (RT) with 100 keV C-ions to 5.0× 10^17 ions/cm2. These samples were irradiated at RT with 853 MeV Pb-ions to 1.0x 1012 and 5.0× 10... 详细信息
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FTIR Investigation of C-implanted Crystalline SiO2 after 950 MeV Pb-ion irradiation
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IMP & HIRFL Annual Report 2005年 59-60页
作者: A. Benyagoub M. toulemonde CIRIL BP513314070 Caen Cedex 05France
Crystalline SiO2(c-SiO2) samples were firstly implanted at room temperature (RT) with 120 keV Cions and then irradiated at RT with 950 MeV Pb ions. The C-ion irradiation experiments were performed on the 200 kV heavy ...
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高能Pb离子辐照注碳SiO_2的红外谱研究
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高能物理与核物理 2005年 第8期29卷 824-829页
作者: 赵志明 王志光 A.Benyagoub M.toulemonde F.Levesque 宋银 金运范 孙友梅 中国科学院近代物理研究所 CIRIL BP513314070 Caen Cedex05France
室温下,先用120keV的C离子注入二氧化硅薄膜样品至剂量2.0×1017,5.0×1017或8.6×1017ions/cm2,再用950MeV的Pb离子分别辐照至剂量5.0×1011,1.0×1012或3.8×1012ions/cm2,然后测量样品的傅里叶变换红外(FTIR)光谱.通过分析测量得到... 详细信息
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纯金属Bi中高能重离子辐照效应
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科学通报 2001年 第12期46卷 992-995页
作者: 王志光 M.toulemonde 金运范 C.Dufour J.Dural E.Paumier 中国科学院近代物理研究所 CIRIL Rue Claude BlochBP513314040 Caen Cedex France LERMAT ISMRaBd.Mal Juin 14050 Caen Cedex France.
利用高能重离子(Kr, Xe, Sn和Pb )辐照处于 16或 100 K的低熔点纯金属 Bi,通过测量分析辐照引起的样品电阻率增量及其变化速率随辐照剂量的变化,研究了入射离子在Bi中引起的辐照损伤效应如辐照损伤效率及复杂缺... 详细信息
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Application of Heavy Ion Physics and Nuclear Technique——FTIR Investigation of C-implanted Crystalline SiO2 after 950 MeV Pb-ion irradiation
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近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版 2005年 第1期 57-57,59,60页
作者: Wang Zhiguang Zhao Zhiming A. Benyagoub M. toulemonde Song Yin Liu Chunbao Zang Hang Wei Kongfang Jin Yunfan 不详 CIRIL BP5133 14070 Caen Cedex 05 France.
Crystalline SiO2(c-SiO2) samples were firstly implanted at room temperature (RT) with 120 keV Cions and then irradiated at RT with 950 MeV Pb ions. The C-ion irradiation experiments were performed on the 200 kV heavy ... 详细信息
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Complex Defects in Bismuth Produced by Swift Heavy Ion Irradiations
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近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版 2000年 第1期 142-142页
作者: WangZhiguang M.toulemonde 不详 CIRIL,RueClaudeBloch BP513314070Caen-Cedex05France
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快重离子辐照引起Ni/SiO_2界面原子混合及相变研究
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原子核物理评论 2009年 第1期26卷 44-47页
作者: 刘纯宝 王志光 魏孔芳 臧航 姚存峰 马艺准 盛彦斌 缑洁 金运范 A.Benyagoub M.toulemonde 中国科学院近代物理研究所 中国科学院研究生院 CIRIL BP513314070 Caen Cedex 05France
在室温下用308 MeV的Xe离子和853 MeV的Pb离子辐照Ni/Si O2样品,用卢瑟福背散射和X射线衍射技术对样品进行了分析。通过分析Ni/SiO2样品中元素成分分布和结构随离子辐照剂量和电子能损的变化,探索了离子辐照在Ni/SiO2样品中引起的界面... 详细信息
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FTIR Study of New Chemical Bond Formation in N-doped Carbon under Swift Pb ion Irradiation
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IMP & HIRFL Annual Report 2003年 73-73页
作者: A.Benyagoub,M.toulemonde CIRIL BP5133 14070 Caen Ccdcx05 France. CIRIL BP5133 14070 Caen Ccdcx05 France.
Since Liu and Cohen predicted that the bulk modulus of carbon nitride films with the structure of β-C3N4 are comparable or even surpass those of diamond, intensive experimental efforts have been done to synthesize th...
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Chemical Bond Formation in C-implanted SiO2 Films Induced by High-energy Pb-ion Irradiation
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IMP & HIRFL Annual Report 2004年 88-88页
作者: A. Benyagoub,M. toulemonde,F. Levesque CIRIL BP5133 14070 Caen Cedex 05 France CIRIL BP5133 14070 Caen Cedex 05 France CIRIL BP5133 14070 Caen Cedex 05 France
SiO2 films were firstly implanted at room temperature (RT) with 120 keV C-ions and then irradiated at RT with 950 MeV Pb ions. The C-ion implantation was performed at the 200 kV heavy ion implanter (IMP, Lanzhou) and ...
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