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不同干燥方式对油菜蜂花粉色泽、酚酸含量和抗氧化活性的影响

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食品科学 2021年第17期42卷 76-83页

作者：周子丹彭文君倪家宝毕延祥方小明刘素纯湖南农业大学食品科学技术学院湖南长沙410128 中国农业科学院蜜蜂研究所北京100093

为了探究不同干燥方式对油菜蜂花粉品质的影响,本实验测定自然晾晒、热风、中短波红外、真空冷冻和真空脉动5种干燥方式处理油菜蜂花粉的干燥特性、色泽、酚酸含量以及抗氧化活性,并分析油菜花粉微观结构和品质变化的内在联系。结果表明... 详细信息

为了探究不同干燥方式对油菜蜂花粉品质的影响,本实验测定自然晾晒、热风、中短波红外、真空冷冻和真空脉动5种干燥方式处理油菜蜂花粉的干燥特性、色泽、酚酸含量以及抗氧化活性,并分析油菜花粉微观结构和品质变化的内在联系。结果表明,中短波红外干燥速率最快;自然晾晒耗时最长,色泽劣变最严重;真空脉动干燥油菜蜂花粉铁离子还原力最强((1961.11±4.42)mmol/g),比新鲜油菜蜂花粉提高了24.78%,色差值最小(0.98±0.04)。此外,5种干燥方式均显著提高了油菜蜂花粉的铁离子还原力及绿原酸、香草酸和芥子酸含量(P<0.05),而各干燥处理对于对香豆酸含量影响不明显。相关性分析显示,对香豆酸含量与总色差显著负相关(P<0.05),与L*值显著正相关(P<0.05)。聚类分析显示,自然晾晒与其他4种干燥方式相似度为0;热风干燥与中短波红外干燥相似度高达84.11%。聚类分析与主成分分析很好地体现了5种干燥方式之间的差异。综合分析不同方式干燥的油菜蜂花粉品质,在低温(45℃)干燥条件下,真空脉动干燥能较好地保护油菜蜂花粉的微观结构和色泽,且能显著提高其绿原酸、香草酸、芥子酸含量及铁离子还原力(P<0.05),是一种具有良好应用前景的蜂花粉干燥方式。

关键词：干燥方式油菜蜂花粉色泽酚酸抗氧化活性微观结构

补中益气汤联合布地奈德喷鼻剂治疗变应性鼻炎临床疗效及对辅助性T细胞1/辅助性T细胞2免疫平衡的影响

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河北中医 2023年第11期45卷 1829-1832,1836页

作者：唐爱华倪家宝陈云江苏省南京市高淳中医院耳鼻咽喉科江苏南京211300

目的观察补中益气汤联合布地奈德喷鼻剂治疗变应性鼻炎(AR)患者的临床疗效及对辅助性T细胞(Th)1/Th2免疫平衡的影响。方法将120例AR患者按照随机数字表法分为2组,对照组60例采用布地奈德喷鼻剂治疗,治疗组60例在对照组治疗基础上采用... 详细信息

目的观察补中益气汤联合布地奈德喷鼻剂治疗变应性鼻炎(AR)患者的临床疗效及对辅助性T细胞(Th)1/Th2免疫平衡的影响。方法将120例AR患者按照随机数字表法分为2组,对照组60例采用布地奈德喷鼻剂治疗,治疗组60例在对照组治疗基础上采用补中益气汤治疗。2组均治疗4周。比较2组治疗前后鼻部症状评分、鼻结膜炎生活质量调查问卷(RQLQ)评分、Th1/Th2免疫平衡[干扰素γ(INF-γ)、白细胞介素2(IL-2)、IL-4、IL-8],并统计2组临床疗效及不良反应发生情况。结果治疗组总有效率93.33%(56/60),对照组总有效率80.00%(48/60),治疗组临床疗效优于对照组(P0.05)。结论补中益气汤联合布地奈德喷鼻剂治疗AR患者疗效确切,可有效缓解患者临床症状,提高生活质量,调节Th1/Th2免疫平衡,安全良好,值得推广。

关键词：鼻炎,变应性补中益气汤布地奈德免疫平衡中西医结合疗法

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对氟苯甲醛的合成研究

染料工业 2001年第3期38卷 32-34页

作者：董成国左识之倪家宝华东理工大学化学与制药学院上海200237

本文介绍了用氯化水解法制取对氟苯甲醛的合成路线。以对氟甲苯为原料,在紫外光的作用下进行侧链氯化转化为a,a-二氯对氟甲苯,经95％乙醇催化水解得到高纯度的对氟苯甲醛,总收率达到86.23％。

关键词：对氟甲苯对氟苯甲醛氯化水解法合成

Re含量对TiCN-WC-HfN陶瓷微观组织和力学性能的影响

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粉末冶金技术 2024年第1期42卷 53-58页

作者：高姣姣平萍刘家宝宋金鹏太原理工大学航空航天学院太原030024 太原重型机械集团有限公司太原030024 太原理工大学机械与运载工程学院太原030024

采用真空热压烧结技术制备了TiCN–WC–HfN陶瓷,研究了Re含量(摩尔分数)对其微观组织和力学性能的影响。结果表明:TiCN–WC–HfN–ni–Re陶瓷材料由TiC_(0.41)N_(0.5)、WC、HfN、TiC、ni和Re组成,其中TiC_(0.41)N_(0.5)0是TiC与TiN在烧... 详细信息

采用真空热压烧结技术制备了TiCN–WC–HfN陶瓷,研究了Re含量(摩尔分数)对其微观组织和力学性能的影响。结果表明:TiCN–WC–HfN–ni–Re陶瓷材料由TiC_(0.41)N_(0.5)、WC、HfN、TiC、ni和Re组成,其中TiC_(0.41)N_(0.5)0是TiC与TiN在烧结过程中生成的固溶体。TiCN–WC–HfN–ni–Re陶瓷材料断口上存在凹坑和解理面,当Re摩尔分数为2.5%时,材料断口上的凹坑较多。当Re摩尔分数由0增到3.0%时,材料的维氏硬度、抗弯强度和断裂韧度均先增大后减小。当Re摩尔分数为2.5%时,材料的力学性能最优,其维氏硬度为(19.25±0.21)GPa、抗弯强度为(1304±23)MPa、断裂韧度为(7.73±0.22)MPa∙m^(1/2)。TiCN–WC–HfN–ni–Re陶瓷在断裂过程中发生了穿晶断裂和沿晶断裂,其增韧机制为裂纹偏转和裂纹桥连。

关键词： TiCN–WC–HfN陶瓷铼微观组织力学性能

Deeply‐Recursive Attention Network for video steganography

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CAAI Transactions on Intelligence Technology 2023年第4期8卷 1507-1523页

作者： jiabao Cui Liangli Zheng Yunlong Yu Yining Lin Huajian ni Xin Xu Zhongfei Zhang College of Computer Science and Technology Zhejiang UniversityHangzhouChina School of Software Technology Zhejiang UniversityNingboChina College of Information Science and Electronic Engineering Zhejiang UniversityHangzhouChina Shanghai SUPREMIND Technology Co. Ltd.ShanghaiChina College of Intelligence Science and Technology National University of Defense TechnologyChangshaChina Department of Computer Science Binghamton UniversityBinghamtonNew YorkUSA

Video steganography plays an important role in secret communication that conceals a secret video in a cover video by perturbing the value of pixels in the cover *** is the first and foremost requirement of any steganographic *** by the fact that human eyes perceive pixel perturbation differently in different video areas,a novel effective and efficient Deeply‐Recursive Attention Network(DRANet)for video steganography to find suitable areas for information hiding via modelling spatio‐temporal attention is *** DRANet mainly contains two important components,a Non‐Local Self‐Attention(NLSA)block and a Non‐Local Co‐Attention(NLCA)***,the NLSA block can select the cover frame areas which are suitable for hiding by computing the correlations among inter‐and intra‐cover *** NLCA block aims to effectively produce the enhanced representations of the secret frames to enhance the robustness of the model and alleviate the influence of different areas in the secret ***,the DRANet reduces the model parameters by performing similar operations on the different frames within an input video *** results show the proposed DRANet achieves better performance with fewer parameters than the state‐of‐the‐art competitors.

关键词： data privacy video processing

氧化工艺对GH2132合金抗氧化性能的影响

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金属热处理 2024年第6期49卷 49-54页

作者：徐超凡陈佳俊王守乾赵守忠沈佳宝闵亮江苏科技大学材料科学与工程学院江苏镇江212100

对GH2132合金进行900℃和650℃的氧化试验,利用XRD分析了氧化膜的主要产物,利用扫描电镜观察氧化膜的表面及截面形貌,结合EDS能谱数据,研究了GH2132合金的氧化机理。结果表明,在900℃下,GH2132合金氧化膜主要由Cr_(2)O_(3)+Fe_(2)O_(3)... 详细信息

对GH2132合金进行900℃和650℃的氧化试验,利用XRD分析了氧化膜的主要产物,利用扫描电镜观察氧化膜的表面及截面形貌,结合EDS能谱数据,研究了GH2132合金的氧化机理。结果表明,在900℃下,GH2132合金氧化膜主要由Cr_(2)O_(3)+Fe_(2)O_(3)组成,抗氧化性能在100~200 h由抗氧化性转变为完全抗氧化性,随着氧化保温时间的延长,发生内氧化,生成的氧化膜会产生剥落,到500 h,内氧化深度达到110.34μm;在650℃下,GH2132合金表层氧化膜主要由Fe_(2)O_(3)、少量的Fe+2Cr2O4及Fe0.64ni0.36组成,始终为完全抗氧化性,氧化膜紧实,没有内氧化现象,到1600 h,氧化膜厚度为15.17μm,合金在650℃下可长期使用。

关键词： GH2132合金氧化物抗氧化性氧化质量增量

非天然氨基酸3-(4-噻唑基)-D,L-丙氨酸盐酸盐的合成

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氨基酸和生物资源 2000年第2期22卷 27-29,33页

作者：耿愚倪家宝冼美明华东理工大学化学与制药学院上海20037

合成了非天然氨基酸 3- ( 4 -噻唑基 ) - D,L -丙氨酸盐酸盐以及三个中间体 ,其结构分别通过红外光谱、核磁共振、元素分析。

关键词：非天然氨基酸 3-(4-噻唑基)-D L-丙氨酸盐酸盐

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五育融合视域下中成药学课程教学的实践

中国中医药现代远程教育 2024年第19期22卷 32-35页

作者：董晓旭倪健付京曲昌海窦津晶韩婧马家宝尹兴斌北京中医药大学中药学院北京102488 首都医科大学附属北京中医医院北京市中医药研究所北京100010

中成药学涉及中医学、中药学等多门学科的交叉渗透和综合运用。文章通过分析中成药学实施“五育融合”的现状,探求该课程五育融合的契合点,并结合课程教学目标提出“五育融合”的教学策略,激发学生五育,发展其自身的内驱力,实现德智体... 详细信息

中成药学涉及中医学、中药学等多门学科的交叉渗透和综合运用。文章通过分析中成药学实施“五育融合”的现状,探求该课程五育融合的契合点,并结合课程教学目标提出“五育融合”的教学策略,激发学生五育,发展其自身的内驱力,实现德智体美劳的渗透融合,有利于培养出适应中成药行业发展需求的应用型、复合型人才,也为相关专业课程教学改革与创新提供思路。

关键词：中成药学五育融合创新教学改革

CMP抛光液中SiO_(2)磨料分散稳定性的研究进展

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微纳电子技术 2024年第2期61卷 25-35页

作者：程佳宝石芸慧牛新环刘江皓邹毅达占妮何潮董常鑫李鑫杰河北工业大学电子信息工程学院天津300130 天津市电子材料与器件重点实验室天津300130

对SiO_(2)磨料在化学机械抛光(CMP)抛光液中的应用以及影响抛光液分散稳定性的因素进行了阐述,重点从SiO_(2)磨料分散稳定性的角度介绍了SiO_(2)磨料质量分数和粒径、抛光液pH值、表面活性剂种类和表面改性等对抛光液稳定性的影响,通过... 详细信息

对SiO_(2)磨料在化学机械抛光(CMP)抛光液中的应用以及影响抛光液分散稳定性的因素进行了阐述,重点从SiO_(2)磨料分散稳定性的角度介绍了SiO_(2)磨料质量分数和粒径、抛光液pH值、表面活性剂种类和表面改性等对抛光液稳定性的影响,通过分析Zeta电位绝对值的范围、凝胶时间的长短、粒径随时间的变化和接触角等,总结了小粒径(35 nm左右)SiO_(2)磨料在抛光液中的分散机理,同时探讨了弱碱性环境对磨料Zeta电位的影响,阳离子、阴离子和非离子表面活性剂对磨料表面的作用机理和复配使用的效果,以及表面疏水化或亲水化改性对磨料分散稳定性的影响。最后对该领域未来的发展方向进行了展望。

关键词：化学机械抛光(CMP) SiO_(2)磨料表面活性剂分散稳定性 pH值