检索结果-南通市图书馆

非晶碳化硅包覆型硅量子点尺寸与光学特性的相关性（英文）

中国材料大会2012

作者： Ting Han gengrong chang Yunjin Sun Fei Ma Kewei Xu State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials School of Materials Science and Engineering Xi'an Jiaotong University Department of Physics and Opt-electronic Engineering Xi'an University of Arts and Science

ISBN: (纸本)9783037856062

Si/C multilayer thin films were prepared by magnetron sputtering and post-annealing in N2 atmosphere at 1100℃ for 1h. X-ray diffraction （XRD）, Raman scattering and high-resolution transmission electron microscopy （HRTEM） were applied to study the microstructures of the thin films. For the case of Si/C modulation ratio smaller than 1,interlayer diffusion is evident, which promotes the formation of α-SiC during thermal annealing. If the modulation ratio is larger than 1, the Si sublayers are partially crystallized, and the thicker the Si sublayers are, the crystallinity increases. To be excited, brick-shaped nc-Si is directly observed by HRTEM. The brick-shaped nc-Si appears to be more regular near the Si （100） substrate but with twin defects. The results are instructive in the application of solar cells.

关键词： Si/C mutilayer Modulation ratio Microstructure Magnetron sputtering Solar cell.

来源： cnki会议评论

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稀有金属材料与工程 2015年第12期44卷 3023-3026页

作者：畅庚榕马飞付福兴徐可为西安文理学院陕西西安710065 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室陕西西安710049

通过磁控溅射技术和1100℃的高温后续退火处理,在富硅碳化硅中形成高密度、小尺寸的硅量子点。其微结构和光学特性由高分辨电镜和光致发光技术进行表征。结合斯托克斯偏移和高分辨电镜分析表明,由非晶碳化硅包覆的硅量子点存在α-Si、c... 详细信息

通过磁控溅射技术和1100℃的高温后续退火处理,在富硅碳化硅中形成高密度、小尺寸的硅量子点。其微结构和光学特性由高分辨电镜和光致发光技术进行表征。结合斯托克斯偏移和高分辨电镜分析表明,由非晶碳化硅包覆的硅量子点存在α-Si、c-Si两种结构,并呈现多带隙特征,子带隙分布范围从2.3到3.5 eV,出现紫外光到绿光的光致发光特征峰;发现此特征的硅量子点尺寸分布在~1.0~4.0nm;通过改变薄膜中的Si和C原子比例,以及改变退火参数可进一步优化和控制硅量子点的微结构。

关键词：硅量子点碳化硅光致发光微结构

脉冲直流PCVD制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜

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稀有金属材料与工程 2006年第5期35卷 824-827页

作者：畅庚榕郭岩马胜利徐可为西安交通大学金属材料强度国家重点实验室陕西西安710049

用工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积(PCVD)设备,在高速钢(W18Cr4V)基材表面沉积新型四元Ti-Si-C-N复合超硬薄膜。结果表明:Ti-Si-C-N薄膜是由面心立方结构的TiN和TiC纳米晶、Ti(C,N)固溶体及存在于晶界的非晶Si3N4和a-C组成,形成TiN/... 详细信息

用工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积(PCVD)设备,在高速钢(W18Cr4V)基材表面沉积新型四元Ti-Si-C-N复合超硬薄膜。结果表明:Ti-Si-C-N薄膜是由面心立方结构的TiN和TiC纳米晶、Ti(C,N)固溶体及存在于晶界的非晶Si3N4和a-C组成,形成TiN/TiC/Ti(C,N)/a-C/a-Si3N4复相结构,这种复相结构存在着[111],[220]和[200]混合择优取向。SiCl4和CH4流量变化是影响薄膜相组成和硬度变化的主要工艺参数。随Si含量的增加,薄膜的显微硬度先升后降,表面形貌由致密的细颗粒状变为粗大的枝条状;C元素的加入能抑制柱状晶的形成,对硬度影响较小。

关键词： PCVD Ti-Si-C-N 纳米复合超硬薄膜微观结构显微硬度

微应变诱导各向异性硅纳米晶形成及其光学特性

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材料导报 2018年第18期32卷 3104-3109页

作者：畅庚榕刘明霞马飞徐可为西安文理学院陕西省再制造与表面工程技术重点实验室西安710065 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安710049

通过磁控溅射技术制备了非晶态富硅的碳化硅锗(Si_(1-x-y)Ge_xC_y)薄膜,经过后续高温热处理,形成各向异性硅纳米晶,其微结构和光学特性由高分辨电镜、光致发光及光吸收实验进行表征,研究了各向异性应变对硅纳米晶形态和光学特性的影响,... 详细信息

通过磁控溅射技术制备了非晶态富硅的碳化硅锗(Si_(1-x-y)Ge_xC_y)薄膜,经过后续高温热处理,形成各向异性硅纳米晶,其微结构和光学特性由高分辨电镜、光致发光及光吸收实验进行表征,研究了各向异性应变对硅纳米晶形态和光学特性的影响,阐述了各向异性硅纳米晶的形成机理。研究表明,在各向异性应变能的诱导下硅纳米晶沿着〈002〉、〈113〉和〈220〉取向择优生长,形成具有多形态的硅纳米晶,显著改变了其能级结构,在2.57eV和2.64eV的位置硅纳米晶存在PL发射光谱,光吸收波段明显增加,可以同时吸收从红外到紫外(2.57eV,1.89eV,1.2eV和0.96eV)的光子,且光吸收范围随硅锗(RS/G)比例可调,故有望提高光伏电池的光量子产额。

关键词：硅纳米晶各向异性微观结构光致发光光伏电池

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非晶介质中硅纳米晶的拉曼尺寸效应研究

稀有金属材料与工程 2021年第1期50卷 123-128页

作者：畅庚榕刘明霞马飞孟瑜徐可为西安文理学院陕西省表面工程与再制造技术重点实验室陕西陕西710065 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室陕西陕西710049

区别于传统的尺寸模型,本研究基于唯象声子受限理论,综合考虑声子波矢q,标准偏差σ,介质受限系数β三者的统一,建立相应的函数关系,着重探讨了非晶包覆硅纳米晶因尺寸效应引起的拉曼频移和非对称性宽化。结果表明,随着硅纳米晶尺寸减小... 详细信息

区别于传统的尺寸模型,本研究基于唯象声子受限理论,综合考虑声子波矢q,标准偏差σ,介质受限系数β三者的统一,建立相应的函数关系,着重探讨了非晶包覆硅纳米晶因尺寸效应引起的拉曼频移和非对称性宽化。结果表明,随着硅纳米晶尺寸减小到玻尔半径以下,布里渊区内波矢由准连续转变为离散形式参与散射,此离散波矢能更准确地拟合小尺寸硅纳米晶的拉曼谱线;进一步改变标准偏差σ,精细化调整拉曼谱峰的非对称性。受限系数β则影响了非晶介质的受限势垒高度对峰位频移,尺寸越小,影响越大。最后,本研究建立的理论模型与课题组实验结果、文献数据进行比较,发现综合考虑三者的协同效应有助于更准确地评估非晶包覆型硅纳米晶的尺寸效应、纳米晶的存在形态及其相对比例。

关键词：硅纳米晶拉曼频移尺寸效应声子受限

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激光光斑直径对熔覆层裂纹的影响

激光与光电子学进展 2015年第3期52卷 178-181页

作者：付福兴畅庚榕赵小侠张艳丽西安文理学院物理与机械电子工程学院陕西西安710065

通过理论推导分析了激光熔覆过程中熔覆层裂纹形成的物理机制,研究了激光光斑直径对裂纹缺陷的影响。选择40Cr为基底材料,Ni60为熔覆粉末进行了激光熔覆实验,获取了不同光斑直径下的熔覆效果图,并对裂纹分布特性进行了分析。理论与实验... 详细信息

通过理论推导分析了激光熔覆过程中熔覆层裂纹形成的物理机制,研究了激光光斑直径对裂纹缺陷的影响。选择40Cr为基底材料,Ni60为熔覆粉末进行了激光熔覆实验,获取了不同光斑直径下的熔覆效果图,并对裂纹分布特性进行了分析。理论与实验结果表明,随着激光光斑直径的增大,熔覆层的裂纹率逐渐增加,裂纹的深度逐渐加深,裂纹的宽度也随之加大。

关键词：激光熔覆光斑直径激光比能裂纹率

Si/C多层薄膜中硅纳米晶的微结构演化（英文）

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稀有金属材料与工程 2018年第1期47卷 59-63页

作者：畅庚榕刘明霞马飞付福兴何斌锋徐可为西安文理学院陕西省表面工程与再制造重点实验室陕西西安710065 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室陕西西安710049

通过磁控溅射技术和1100℃的高温后续退火处理,在Si/C多层薄膜中形成硅纳米晶。改变多层薄膜的Si/C调制比可以调控硅纳米晶的尺寸、形状和密度。其微观结构由小角X射线、拉曼频移、高分辨电镜进行表征。结合拉曼频移和高分辨透射电镜分... 详细信息

通过磁控溅射技术和1100℃的高温后续退火处理,在Si/C多层薄膜中形成硅纳米晶。改变多层薄膜的Si/C调制比可以调控硅纳米晶的尺寸、形状和密度。其微观结构由小角X射线、拉曼频移、高分辨电镜进行表征。结合拉曼频移和高分辨透射电镜分析,得到的结果表明,由于受到C层界面约束,非晶硅层在高温下会发生固态重结晶,转变为纳米晶。通过ζ可调控纳米晶的尺寸和形状。当ζ从0.5到2改变时,硅纳米晶的形状逐渐从球形、椭圆形转变为条形或者砖型。夹层受限生长模式有利于适应新一代硅基光电子器件的结构设计。

关键词：硅纳米晶 Si/C多层薄膜微结构拉曼频移

喷丸强化对17-4PH不锈钢室温及高温疲劳性能的影响

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材料导报 2020年第22期34卷 22124-22129页

作者：刘明霞王冬张文康畅庚榕刘道新徐可为西安文理学院陕西省表面工程与再制造重点实验室西安710065 西安陕鼓动力股份有限公司西安710082 西北工业大学航空学院西安710072 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安710049

对17-4PH不锈钢进行不同喷丸强度的表面强化,采用X射线衍射仪(XRD)、光学显微镜(OM)和显微硬度仪研究表面残余应力、表面形貌和表面硬度的变化规律,采用疲劳实验和扫描电镜(SEM)考察室温及150℃、300℃和450℃不同温度场对疲劳性能的影... 详细信息

对17-4PH不锈钢进行不同喷丸强度的表面强化,采用X射线衍射仪(XRD)、光学显微镜(OM)和显微硬度仪研究表面残余应力、表面形貌和表面硬度的变化规律,采用疲劳实验和扫描电镜(SEM)考察室温及150℃、300℃和450℃不同温度场对疲劳性能的影响。结果表明,低强度喷丸通过引入残余应力场和保留表面完整性显著改善17-4PH的室温疲劳寿命;随着喷丸强度的增大,表面粗糙度呈升高趋势,加工硬化层的深度也趋于增加;但当喷丸强度超过中等强度水平,表层硬度不再增大;在疲劳寿命方面,不同温度场对17-4PH喷丸强化效果影响不同,当环境温度低于300℃时,喷丸能显著提高17-4PH的疲劳寿命,超过450℃时,疲劳性能显著降低。进一步分析表明,17-4PH高温疲劳性能的下降源于残余应力的严重松弛和表面完整性的降低。

关键词：喷丸疲劳残余应力表面完整性高温

H13钢表面同质激光熔覆中WC微合金化行为及摩擦学性能研究

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材料导报 2023年第22期37卷 157-162页

作者：畅庚榕刘明霞孟瑜郭岩马大衍李世亮徐可为西安文理学院陕西省表面工程与再制造重点实验室西安710065 华电电力科学研究院有限公司杭州710000 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安710049 陕西天元智能再制造股份有限公司西安710018

采用激光熔覆技术在H13钢基体上制备了不同碳化物含量的同质熔覆层,研究了同质熔覆层的微观结构特征及摩擦学性能。借助X射线衍射仪、扫描电镜分析了同质熔覆层的物相变化规律和微观组织形貌特征,采用显微硬度计、摩擦磨损实验机和激光... 详细信息

采用激光熔覆技术在H13钢基体上制备了不同碳化物含量的同质熔覆层,研究了同质熔覆层的微观结构特征及摩擦学性能。借助X射线衍射仪、扫描电镜分析了同质熔覆层的物相变化规律和微观组织形貌特征,采用显微硬度计、摩擦磨损实验机和激光共聚焦显微镜研究了熔覆层的硬度变化特征及摩擦磨损性能,并阐明了微结构与摩擦学性能之间的相关性。结果表明,同质激光熔覆层与基体实现优良的冶金结合,同质粉末与WC产生微合金化反应,从原铁素体改变为奥氏体相,并生成以网络状弥散分布的新硬质相,细化晶粒的同时进一步强化晶界。网络状分布的硬质相产生“鹅卵石”效应,可使熔覆层硬度高达1104HV,摩擦系数低于0.51,比磨损率低于2.24×10-8 mm^(3)/(N·m),耐磨损性能较基体提升17.62倍。

关键词：同质激光熔覆微合金化反应微观组织摩擦磨损