检索结果-南通市图书馆

Challenges and strategies in high-accuracy manufacturing of the world’s largest SiC aspheric mirror

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Light(Science & Applications) 2022年第12期11卷 2873-2885页

作者： Xuejun Zhang Haixiang Hu Xiaokun Wang Xiao Luo Ge Zhang Wenxing Zhao Xiaoyi Wang Zhenyu Liu Ling Xiong erhui qi Congcong Cui Yanchao Wang Yingjie Li Xu Wang Longxiang Li Yang Bai qiang Cheng Zhiyu Zhang Ruigang Li Wa Tang Xuefeng Zeng Weijie Deng Feng Zhang Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and PhysicsChinese Academy of Sciences130033 ChangchunJilinChina University of Chinese Academy of Sciences 100049 BeijingChina

In the process of manufacturing the world’s largest silicon carbide(SiC)aspheric mirror,the primary difficulties are mirror blank preparation,asphere fabrication,and testing,as well as cladding and ***,the challenges include the homogeneity of the complicated structure casting,accuracy and efficiency of the fabrication process,print-through effect,fidelity and precision of test procedure,stress and denseness of cladding process,the dynamic range of interferometric measurement,and air turbulence error due to the long optical *** break through such a barrier of difficulties,we proposed the water-soluble room temperature vanishing mold and gel casting technology,homogeneous microstructure reaction-formed joint technology,nano-accuracy efficient compound fabrication,gravity unloading technology,high-denseness low-defect physical vapor deposition(PVD)Si-cladding technology,test data fusion method,and time-domain averaging method,*** on the proposed technologies and methods,we have accomplished the world’s largest SiC aspheric mirror with a size of φ4.03 *** impressive performance of the SiC aspheric mirror is validated by the characteristics of the fabricated SiC aspheric *** aerial density of the SiC blank is less than 120 kg/m^(2),surface shape test accuracy is better than 6 nm RMS,thickness inhomogeneity of the cladding layer is less than 5%,and the final surface figure error and roughness are 15.2 nm RMS and 0.8 nm RMS,respectively.

关键词： cladding casting carbide

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

五棱镜扫描技术检测大口径平面镜的误差分析

红外与激光工程 2015年第2期44卷 639-646页

作者：戚二辉罗霄李明郑立功张学军中国科学院大学北京100049 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室吉林长春130033

五棱镜扫描检测具有结构简单、检测周期短等优点,可以实现大口径平面镜低阶像差的高精度检测,是指导大口径平面镜光学加工过程的一种有效途径。为使大口径平面镜检测系统中的五棱镜扫描技术更加完善,通过理论分析和计算模拟,对五棱镜检... 详细信息

五棱镜扫描检测具有结构简单、检测周期短等优点,可以实现大口径平面镜低阶像差的高精度检测,是指导大口径平面镜光学加工过程的一种有效途径。为使大口径平面镜检测系统中的五棱镜扫描技术更加完善,通过理论分析和计算模拟,对五棱镜检测系统中的主要误差源,包括五棱镜制造误差、温度梯度的影响、元件位置误差、光束定位误差、自准直仪测量误差等进行研究,形成了比较完善的误差分析的数理结果。计算结果表明,在当前实验室技术条件下,五棱镜扫描检测系统在单个测量点处的测量不确定度达到230 nrad,其中影响五棱镜检测系统测量精度的主要因素为自准直仪的测量精度与温度的影响。研究结果给出了工程实际中提高五棱镜扫描系统检测精度与减小测量误差的注意事项,并可用于指导系统设计时的误差分析及精度分配。

关键词：测量光学检测五棱镜扫描系统光线矢量追迹误差分析

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

摆臂式轮廓测量不同母线条数的敏感性分析

红外与激光工程 2018年第2期47卷 239-244页

作者：熊玲罗霄戚二辉张峰薛栋林张学军中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学先进制造技术重点实验室吉林长春130033 中国科学院大学北京100049

为了确定摆臂式轮廓检测大口径离轴非球面采用不同扫描线数时系统检测误差的敏感性,文中提出采用蒙特卡洛方法,建立了仿真分析的模型。对母线条数分别为8~120条的模式进行模拟检测,对系统噪声引入的面形误差进行Zernike多项式项拟合,统... 详细信息

为了确定摆臂式轮廓检测大口径离轴非球面采用不同扫描线数时系统检测误差的敏感性,文中提出采用蒙特卡洛方法,建立了仿真分析的模型。对母线条数分别为8~120条的模式进行模拟检测,对系统噪声引入的面形误差进行Zernike多项式项拟合,统计分析得母线条数为8~39条时,系统噪声引入的低阶项检测误差随母线条数的增加而迅速降低;母线条数为40~70条时,引入低阶项检测误差降低缓慢;71~120条时,引入的低阶项检测误差几乎保持不变。结合实例,对一口径1 500 mm的离轴非球面反射镜进行实验,分别采用36条、72条和96条母线进行面形检测。36条母线检测误差相对较大,检测结果为7.73μm PV和0.68μm RMS;72条母线和96条母线检测结果十分接近,分别为5.755μm PV,0.568μm RMS和5.612μm PV,0.569μm RMS。验证了仿真分析结果的准确性,为摆臂式轮廓检测大口径离轴非球面中母线条数的优化选择提供了理论指导。

关键词：大口径离轴非球面摆臂式轮廓检测仿真分析

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

超大口径光学制造的静压支撑系统集成与控制

光学学报 2015年第8期35卷 246-254页

作者：胡海飞罗霄戚二辉胡海翔郑立功中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室吉林长春130033 中国科学院大学北京100049

在超大口径光学制造中,镜体背部空间狭小,转台承载能力有限,要求光学制造的支撑结构尽量简单;镜体承受加工载荷且弥漫加工磨料,要求支撑系统对加工载荷和环境不敏感;此外,为便于在线检测,缩短检测周期,还要求支撑系统具有较高的调整精... 详细信息

在超大口径光学制造中,镜体背部空间狭小,转台承载能力有限,要求光学制造的支撑结构尽量简单;镜体承受加工载荷且弥漫加工磨料,要求支撑系统对加工载荷和环境不敏感;此外,为便于在线检测,缩短检测周期,还要求支撑系统具有较高的调整精度和稳定性。设计了一种均力型静压支撑系统,先测试了单个支撑的均力性及刚度,预测了压印效应的大小;随后阐述了支撑系统的控制方法;最后实现了系统集成及其图形用户界面（GUI）界面操作。将该系统用于2m Si C反射镜的光学加工,可将压印效应均方根（RMS）值控制到13.1 nm≈λ/48,满足加工需要;用于立式检测,系统对镜体倾斜和俯仰角可监测到的角度范围为0.34″~0.48°,以及沿Z方向±5 mm的运动;对应曲率中心在XY平面的调节范围d R最大值50 mm,最小值为10μm,与电荷耦合器件（CCD）像元尺寸接近,满足立式检测需要。对目前具有重大需求的2~4 m量级反射镜而言,该系统具有较好的适用性。

关键词：光学制造均力静压支撑调整精度超大口径反射镜在线加工检测

用于大口径平面镜检测的五棱镜扫描检测系统装调技术研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

激光与光电子学进展 2015年第6期52卷 247-254页

作者：戚二辉罗霄刘泉郑立功张学军中国科学院大学北京100049 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室吉林长春130033

五棱镜扫描检测具有结构简单、检测周期短等优点,可实现低阶像差的高精度检测,是指导大口径、超大口径平面镜光学加工的有效途径。基于光线矢量追迹理论,建立五棱镜扫描检测系统数学模型,并采用最小二乘法推导出系统测量精度与系统主要... 详细信息

五棱镜扫描检测具有结构简单、检测周期短等优点,可实现低阶像差的高精度检测,是指导大口径、超大口径平面镜光学加工的有效途径。基于光线矢量追迹理论,建立五棱镜扫描检测系统数学模型,并采用最小二乘法推导出系统测量精度与系统主要光学元件角度变化量之间的解析表达式。在此基础上,分析了系统测量精度对元件装调精度的灵敏度,给出了系统精确装调的实施方案,并进行了系统装调试验,探索出适合大口径平面镜检测的五棱镜扫描检测系统装调流程。实验结果表明,由装调过程引起的系统测量误差可控制在40 nrad以内。通过理论分析和装调试验,验证了使用五棱镜扫描检测技术进行大口径平面检测的可行性。

关键词：光学设计五棱镜系统装调光线矢量追迹

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

超大口径平面反射镜的光学检测(特邀)

红外与激光工程 2022年第1期51卷 388-394页

作者：王孝坤戚二辉胡海翔苏航李凌众王晶罗霄张学军中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室吉林长春130033

在简要总结了各种检测大口径反射镜难点的基础上,为了实现30 m望远镜(TMT)超大口径第三反射镜的高精度检测,提出了一种融合五棱镜扫描技术和子孔径拼接测试技术的新方法。大口径反射镜分阶段依次进行了五棱镜扫描测试和子孔径拼接检测,... 详细信息

在简要总结了各种检测大口径反射镜难点的基础上,为了实现30 m望远镜(TMT)超大口径第三反射镜的高精度检测,提出了一种融合五棱镜扫描技术和子孔径拼接测试技术的新方法。大口径反射镜分阶段依次进行了五棱镜扫描测试和子孔径拼接检测,对该技术的基本原理和基础理论进行了分析和研究,制定了检测30 m望远镜第三反射镜(口径为3.5 m×2.5 m)的方案,对其测试流程、五棱镜设计、五棱镜扫描像差拟合、拼接最优化算法等进行了详细分析,并对30 m望远镜第三反射镜的原理镜进行了实验验证,其最终拼接检测面形的均方根值(RMS)和斜率均方根值(slopeRMS)分别为28.676 nm和0.97μrad。

关键词：光学检测超大口径平面反射镜 30 m望远镜子孔径拼接干涉检测五棱镜扫描

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

影响焦炭粒度稳定性的因素分析

燃料与化工 2022年第3期53卷 11-15页

作者：李朋代鑫齐二辉曹宇安钢首钢京唐钢铁联合有限责任公司唐山063200 首钢集团有限公司技术研究院北京100043 绿色可循环钢铁流程北京市重点实验室北京100043

以稳定焦炭粒度为核心,梳理首钢京唐公司7.63 m焦炉炼焦过程及焦炭粒度数据,分析研究配煤质量、炭化时间、熄焦工艺、焦炭转运及筛分工艺与焦炭粒度的对应关系。通过优化焦炭转运流程,控制焦仓料位不低于3m;并重视配煤水分稳定性,控制... 详细信息

以稳定焦炭粒度为核心,梳理首钢京唐公司7.63 m焦炉炼焦过程及焦炭粒度数据,分析研究配煤质量、炭化时间、熄焦工艺、焦炭转运及筛分工艺与焦炭粒度的对应关系。通过优化焦炭转运流程,控制焦仓料位不低于3m;并重视配煤水分稳定性,控制波动在±0.3%范围内;尤其重视筛分工艺过程的有效性管理,提升焦炭粒度稳定性。

关键词： 7.63 m焦炉焦炭粒度配煤质量炭化时间焦炭转运筛分工艺

Ammonia pyrolysis oxidation excited by nanosecond pulsed discharge:Global/fluid models hybrid solution

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Journal of Energy Chemistry 2025年第1期100卷 385-396页

作者： Mingming Zhang Hanyu Wu qi Chen Jiaxin Yang Bonan Liu School of Mechanical Electronic and Control Engineering Beijing Jiaotong University China University of Petroleum

The kinetic characteristics of plasma-assisted oxidative pyrolysis of ammonia are studied by using the global/fluid models hybrid solution ***,the stable products of plasma-assisted oxidative pyrolysis of ammonia are *** results show that the consumption of NH3/O2and the production of N2/H2change linearly with the increase of voltage,which indicates the decoupling of nonequilibrium molecular excitation and oxidative pyrolysis of ammonia at low ***,the detailed reaction kinetics mechanism of ammonia oxidative pyrolysis stimulated by a nanosecond pulse voltage at low pressure and room temperature is *** on the reaction path analysis,the simplified mechanism is *** detailed and simplified mechanism simulation results are compared with experimental data to verify the accuracy of the simplified ***,based on the simplified mechanism,the fluid model of ammonia oxidative pyrolysis stimulated by the nanosecond pulse plasma is established to study the pre-sheath/sheath behavior and the resultant consumption and formation of key *** results show that the generation,development,and propagation of the pre-sheath have a great influence on the formation and consumption of *** consumption of NH3by the cathode pre-sheath is greater than that by the anode pre-sheath,but the opposite is true for OH and O（1S）.However,within the sheath,almost all reactions do not ***,by changing the parameters of nanosecond pulse power supply voltage,it is found that the electron number density,electron current density,and applied peak voltages are not the direct reasons for the structural changes of the sheath and ***,the discharge interval has little effect on the sheath structure and gas mixture *** research results of this paper not only help to understand the kinetic promotion of non-equilibrium excitation in the process of oxidative pyrolysis but also help to explore th

关键词： Nanosecond pulsed discharge Ammonia Oxidative pyrolysis Fluid model Global model

光学元件亚表面缺陷表征与检测技术研究现状分析(特邀)

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

红外与激光工程 2022年第12期51卷 211-233页

作者：李凌众王孝坤戚二辉彭利荣于鹏亮苏航刘忠凯王晶罗霄张学军蔡铭宣中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 中国科学院大学北京100049 哈尔滨新光光电科技股份有限公司黑龙江哈尔滨150028 长春理工大学光电工程学院吉林长春130022

光学元件常用脆性材料作为原材料,脆性材料加工过程中极易引入亚表面缺陷,亚表面缺陷对脆性材料的制造阶段和应用阶段均存在严重的危害。制造方面,亚表面缺陷影响工序的选择与衔接,易产生过加工、欠加工等问题,导致加工效率低下;应用方... 详细信息

光学元件常用脆性材料作为原材料,脆性材料加工过程中极易引入亚表面缺陷,亚表面缺陷对脆性材料的制造阶段和应用阶段均存在严重的危害。制造方面,亚表面缺陷影响工序的选择与衔接,易产生过加工、欠加工等问题,导致加工效率低下;应用方面,亚表面缺陷影响光学元件的成像质量、稳定性、使用寿命等关键技术参数。为了高效率、高质量地去除亚表面缺陷,全面表征和准确检测光学元件的亚表面缺陷至关重要。文中首先介绍了不同加工方式对应的亚表面缺陷形成机理与亚表面缺陷的表征方法研究现状;其次归纳总结了破坏性与非破坏性的亚表面缺陷检测方法,分别介绍了不同检测方法的原理、适用材料与加工阶段、优点与不足之处;并介绍了基于表面粗糙度、加工参数的亚表面缺陷预测方法;最后,对亚表面缺陷检测技术的发展趋势进行了展望。

关键词：光学元件亚表面缺陷缺陷形成机理亚表面缺陷表征破坏性检测方法非破坏性检测方法