咨询与建议
  • 全部检索
  • 电子图书
  • 电子期刊
  • 纸本馆藏
  • 南通市公共图书馆
高级检索

限定检索结果

文献类型

  • 2 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 2 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 2 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 机械工程

主题

  • 1 篇 铜
  • 1 篇 化学热处理
  • 1 篇 h-plasma cleanin...
  • 1 篇 含硅气氛
  • 1 篇 表面改性
  • 1 篇 lattice damage
  • 1 篇 si film
  • 1 篇 epitaxial

机构

  • 1 篇 浙江大学

作者

  • 1 篇 叶必光
  • 1 篇 jian chen zhenji...
  • 1 篇 晋圣发
  • 1 篇 chenguang gong+
  • 1 篇 甘正浩
  • 1 篇 fuchu shen
  • 1 篇 郦剑
  • 1 篇 biguang ye
  • 1 篇 沈复初
  • 1 篇 毛志远

语言

  • 1 篇 英文
  • 1 篇 中文
检索条件"作者=Biguang YE"
共 2 条 记 录，以下是1-10 订阅
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到"检索档案"
详细 简洁
排序：
H-plasma In-situ Cleaning and Lattice Damage Elimination
收藏
分享
引用
Journal of Materials Science & Technology 1993年 第2期9卷 133-135页
作者： Chenguang GONG+ Fuchu SHEN biguang ye Jian CHEN, Zhenjiang University, Hangzhou, 310027, China
This article discusses the silicon lattice damage induced during H-plasma in-situ cleaning and finds that the substrate temperature, plasma power, processing time, all affect the extent of the distortion of the surfac... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
铜在含硅气氛中表面改性的化学热处理研究
收藏
分享
引用
金属热处理学报 1996年 第4期17卷 42-46页
作者： 沈复初 叶必光 郦剑 毛志远 甘正浩 晋圣发 浙江大学
对铜在含硅气氛中低温沉积、随后进行扩散处理的表面化学热处理进行了研究。使用光学显微镜、Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）仪、电子探针（ＥＰＭＡ）等对渗层进行了显微硬度、成分和结构分析，探讨了工艺参数对渗层的影响。研究结果表明，通过... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到“检索档案”
共1页 <<  < 1 >  >>
回到顶部
执行限定条件