H-plasma In-situ Cleaning and Lattice Damage Elimination
H-plasma In-situ Cleaning and Lattice Damage Elimination出 版 物：《Journal of Materials Science & Technology》 (材料科学技术（英文版）)
年 卷 期：1993年第9卷第2期
页 面：133-135页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：H-plasma cleaning lattice damage epitaxial Si film
摘 要：This article discusses the silicon lattice damage induced during H-plasma in-situ cleaning and finds that the substrate temperature, plasma power, processing time, all affect the extent of the distortion of the surface and its curability.
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