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The Formation of Excited Molecules Chloride Argon, Chlorine and Hydroxyl Radicals in the Nanosecond Barrier Discharge

引用

Journal of Electrical Engineering 2014年第2期2卷 96-100页

作者： alexandr shuaibov alexandr minya zoltan gomoki roksolana gritzak geza laslov igor shevera Faculty of Physics Uzhgorod National University Uzhgorod 88000 Ukraine

The results of an experimental study of radiation characteristics of a barrier discharge in a mixture ArCCl 4 were presented in this paper. Formation of molecules ArCl(B) and Cl 2 (D") in the barrier discharge plasma depends strongly on the partial pressure of freon vapor is shown. The intensity of the radiation band Cl 2 (D"-A") on the value of the pulse repetition rate current at a charging voltage U d = 13 kV was close to the line that indicates the possibility of increasing the average power of the VUV-UV discharge at frequencies f > 1 kHz.

关键词：电气控制控制理论电气测量集中参数

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