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电子束直写大深宽比Si_(3)N_(4)薄膜支撑的光栅X射线准直器

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光学精密工程 2022年第10期30卷 1181-1188页

作者：李艺杰肖君陈宜方童徐杰穆成阳复旦大学信息科学与工程学院纳米光刻与应用科研组上海200433

为了开发新的X射线准直器,利用电子束光刻(EBL)技术,结合电镀和湿法化学刻蚀工艺,在悬空的Si_(3)N_(4)隔膜上制作了大面积、高深宽比、微米周期的Au光栅。调整场拼接区域的曝光剂量解决了大面积的EBL光刻问题;用加强筋结构克服了制作高... 详细信息

为了开发新的X射线准直器,利用电子束光刻(EBL)技术,结合电镀和湿法化学刻蚀工艺,在悬空的Si_(3)N_(4)隔膜上制作了大面积、高深宽比、微米周期的Au光栅。调整场拼接区域的曝光剂量解决了大面积的EBL光刻问题;用加强筋结构克服了制作高深宽比、高密度光刻胶模板时线条倒塌问题;通过在Si_(3)N_(4)隔膜下面保留很薄一层Si(25 nm厚)和改善显影工艺,克服了厚光刻胶在300 nm厚的Si_(3)N_(4)隔膜上显影时,光刻胶的断裂问题。实验结果显示,所制备的2μm周期、深宽比为5.5,面积为400μm×1000μm的Au光栅可以对光子能量为8 keV的X射线进行调制。所制备的Au光栅狭缝可以用作线平行X射线断层成像系统的探测器准直器件,或面平行X射线断层成像系统的光源准直器件,提高系统的成像速度。

关键词： X射线准直器 Au光栅电子束光刻大深宽比金电镀

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X射线衍射光学部件的制备及其光学性能表征

光学精密工程 2017年第11期25卷 2779-2795页

作者：陈宜方复旦大学信息科学与工程学院专项集成线路与系统国家重点实验室上海200433

综述了国内外在纳米加工X射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展。介绍了作者团队过去三年在这方面做的工作。针对衍射透镜关键技术,研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺;结合金电镀,提出了纳米尺度波带片的制造技术,并将... 详细信息

综述了国内外在纳米加工X射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展。介绍了作者团队过去三年在这方面做的工作。针对衍射透镜关键技术,研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺;结合金电镀,提出了纳米尺度波带片的制造技术,并将该工艺成功扩展于分辨率板(Siemens star)和集成光栅型会聚透镜的研制。运用蒙特卡罗模拟和显影动力学,探索了电子束光刻技术所能够实现的最大高宽比以及造成这种限制的物理根源;成功研制了50~100nm的波带片透镜(其中,100nm波带片高宽比为16∶1)、50~300nm的分辨率测试板(其中,300nm测试板高宽比为10∶1)和200nm的会聚透镜(高宽比为10∶1)。对所研制的光学部件在同步辐射光源进行了实验表征。结果表明,100nm波带片聚焦斑尺寸为234nm,测试板和会聚透镜的光学特性与国外同样光学部件到达同等水平;会聚透镜辐照的均匀性为99%。最后,总结了近几年我国X射线衍射透镜的发展进度,指出了衍射光学部件光学性能发展的最大瓶颈是分辨率与衍射效率相互制约,提出了提高光学部件衍射效率的具体途径,给出了我国X射线衍射透镜技术的未来发展路线图。

关键词： X射线衍射光学部件波带片电子束光刻纳米加工会聚透镜分辨率板同步辐射光源

1～3μm HgCdTe光伏型列阵探测器的研制

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红外与毫米波学报 1992年第3期11卷 223-226页

作者：陈泉森陈宜方曹竟骁刘激鸣中国科学院上海技术物理研究所上海200083

报道了用于红外高分辨率扫描仪的1～3μmHgCdTe光伏型列阵探测器的研制和性能.

关键词：红外探测器离子注入扫描仪

连续性静脉-静脉血液滤过治疗老年人多器官功能不全综合征74例疗效观察

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中华老年医学杂志 2008年第2期27卷 125-126页

作者：陈建国陈宜方严静王虹牟利军朱琮浙江医院肾内科杭州市310013

连续性静脉一静脉血液滤过（CVVH）能维持血液动力学稳定，有效清除炎症介质和纠正免疫紊乱，已成为抢救危急重症患者的重要手段。我们于2001年9月至2005年9月应用CVVH治疗74例老年多器官功能不全综合征（MODSE）患者，取得较好疗效，... 详细信息

连续性静脉一静脉血液滤过（CVVH）能维持血液动力学稳定，有效清除炎症介质和纠正免疫紊乱，已成为抢救危急重症患者的重要手段。我们于2001年9月至2005年9月应用CVVH治疗74例老年多器官功能不全综合征（MODSE）患者，取得较好疗效，现报道如下。

关键词：连续性静脉-静脉血液滤过治疗老年多器官功能不全综合征疗效观察老年人危急重症患者血液动力学免疫紊乱炎症介质

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高龄老年血液透析患者的生存分析

中华老年医学杂志 2020年第5期39卷 559-563页

作者：郑志贵何东元陈宜方陈建国浙江医院肾内科杭州310013

目的了解80岁及以上老年血液透析患者长期生存率及影响因素。方法回顾性分析2008年5月至2017年5月在我科确诊为终末期肾脏病并行血液透析超过3个月,始透年龄≥80岁的82例患者临床资料,Kaplan-Meier法分析患者的生存率,运用Log-rank检验... 详细信息

目的了解80岁及以上老年血液透析患者长期生存率及影响因素。方法回顾性分析2008年5月至2017年5月在我科确诊为终末期肾脏病并行血液透析超过3个月,始透年龄≥80岁的82例患者临床资料,Kaplan-Meier法分析患者的生存率,运用Log-rank检验比较≥80岁高龄血液透析患者和76例80岁以下的血液透析患者的生存率,Cox回归模型分析影响高龄血液透析患者预后的影响因素。结果82例80岁及以上老年血液透析患者中位生存时间为34个月,6、12、24和36个月的生存率分别为90.0%、73.6%、60.8%和49.4%,主要死亡原因前3位依次为心血管事件、感染性休克、恶性肿瘤;80岁以下维持性血液透析患者中位生存时间为52个月,6、12、24和36个月的生存率分别为94.7%、85.5%、72.4%和65.8%;经Log-rank检验结果显示,80岁及以上高龄血液透析患者的生存率低于80岁以下患者(χ^2=5.284,P=0.022)。多因素Cox回归分析结果显示,合并糖尿病是影响80岁及以上高龄血液透析患者生存的独立危险因素(HR=3.470,95%CI:1.364~8.827,P=0.009),而体质指数(BMI)(HR=0.806,95%CI:0.706~0.921,P=0.001)和人血白蛋白水平(HR=0.861,95%CI:0.789~0.938,P=0.001)为80岁及以上高龄血液透析患者生存的独立保护性因素。结论80岁及以上高龄血液透析患者的生存率低于80岁以下患者,主要死亡原因为心血管事件、感染性休克和恶性肿瘤,影响高龄血液透析患者生存的主要危险因素为合并糖尿病、BMI偏低和白蛋白水平偏低。

关键词：肾透析预后

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上海光源极紫外光刻胶检测平台

应用化学 2021年第9期38卷 1168-1174页

作者：赵俊杨树敏薛超凡吴衍青陈宜方邰仁忠复旦大学信息科学与工程学院上海200433 中国科学院上海高等研究院上海光源上海201204

极紫外光刻技术作为下一代光刻技术,被行业赋予了拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻胶是极紫外光刻技术的核心子技术之一,其分辨率、粗糙度、灵敏度以及放气情况等指标的检测是开展极紫外光刻胶研发的必要条件和实现极紫外光刻胶配方优化... 详细信息

极紫外光刻技术作为下一代光刻技术,被行业赋予了拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻胶是极紫外光刻技术的核心子技术之一,其分辨率、粗糙度、灵敏度以及放气情况等指标的检测是开展极紫外光刻胶研发的必要条件和实现极紫外光刻胶配方优化的重要环节。基于同步辐射的极紫外干涉光刻技术是目前最适合开展的一种用于极紫外光刻胶性能检测的方法。上海光源根据相关的研发需求,已建立了一个基于该方法的极紫外光刻胶检测平台。通过不断改善装置的稳定性,发展自主的分束光栅掩膜制作技术,以及不断摸索和优化相应的干涉曝光工艺,目前检测平台的曝光分辨率测试水平已能达到20 nm以下,基本满足极紫外光刻7 nm工艺节点的相应要求。

关键词：极紫外光刻胶检测干涉光刻

ZnS-HgCdTe钝化膜表面及界面的研究

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红外与毫米波学报 1987年第2期 125-130页

作者：严申生陈宜方司承才上海测试技术研究所中国科学院上海技术物理研究所

对ZnS薄膜进行了深入的研究,发现HgCdTe表面经抛光、腐蚀及钝化处理后,ZnS-HgCdTe界面过渡区内缺Cd、Hg,而在HgCdTe表面预先阳极氧化一层氧化膜能改善过渡区状况。在俄歇电子能谱(AES)和X射线电子能谱(XPS)的测量过程中对元素的灵敏度... 详细信息

对ZnS薄膜进行了深入的研究,发现HgCdTe表面经抛光、腐蚀及钝化处理后,ZnS-HgCdTe界面过渡区内缺Cd、Hg,而在HgCdTe表面预先阳极氧化一层氧化膜能改善过渡区状况。在俄歇电子能谱(AES)和X射线电子能谱(XPS)的测量过程中对元素的灵敏度因子进行修正,使两者结果趋于一致。

关键词： ZnS-HgCdTe Hg 灵敏度因子钝化膜光学薄膜界面过渡区阳极氧化 XPS AES 择优溅射

黄芪甲苷对高糖刺激下的足细胞黏附功能的保护作用及机制

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同方期刊数据库

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中华肾脏病杂志 2009年第3期25卷 227-232页

作者：陈建国桂定坤牟利军陈宜方黄建华刘毅浙江医院肾内科杭州310013 复旦大学附属华山医院中西医结合研究所

目的研究黄芪甲苷对体外培养的足细胞黏附功能的保护作用及机制。方法条件性永生的小鼠足细胞分为正常糖组、高糖组、甘露醇高渗对照组及高糖＋黄芪甲苷组（AS-Ⅳ），分别用荧光定量法和物理离心法观察不同剂量（10、50、100mg／L）及... 详细信息

目的研究黄芪甲苷对体外培养的足细胞黏附功能的保护作用及机制。方法条件性永生的小鼠足细胞分为正常糖组、高糖组、甘露醇高渗对照组及高糖＋黄芪甲苷组（AS-Ⅳ），分别用荧光定量法和物理离心法观察不同剂量（10、50、100mg／L）及不同作用时间（3、6、12、24h）的AS-Ⅳ对足细胞黏附功能的影响。实时定量PCR法及Western印迹法分别检测足细胞α3β1整合素mRNA和蛋白表达。结果与正常糖对照组比较，高糖组足细胞与基底膜蛋白复合物（BMC）间的黏附功能显著下降（P〈0．05），而AS-Ⅳ能明显改善高糖刺激下的足细胞黏附功能（P〈0．05），且呈剂量和时间依赖关系。此外，高糖组足细胞α3β1整合素mRNA及蛋白表达水平均显著低于正常糖组（P〈0．05），而AS-Ⅳ能呈剂量和时间依赖性上调高糖刺激下的足细胞α3β1整合素mRNA及蛋白表达。结论AS-Ⅳ对体外培养的高糖刺激下的足细胞黏附功能有明显保护作用，其机制可能与AS-Ⅳ上调α3β1整合素mRNA及蛋白表达水平有关。

关键词：黄芪苷糖尿病肾病足细胞整合素α3β1 高糖细胞黏附

Fast patterning and dry-etch of SiN_x for high resolution nanoimprint templates

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Journal of Semiconductors 2009年第6期30卷 138-141页

作者：疏珍万景陆冰睿谢申奇陈宜方屈新萍刘冉 State Key Laboratory of ASIC and System Department of Microelectronics Fudan University Micro and Nanotechnology Centre Rutherford Appleton Laboratory Chilton Didcot Oxon OX11 0QX UK

We developed a simplified nanofabrication process for imprint templates by fast speed electron beam lithography（EBL） and a dry etch technique on a SiNx substrate,intended for large area manufacturing.To this end,the highly sensitive chemically amplified resist（CAR）,NEB-22,with negative tone was used.The EBL process first defines the template pattern in NEB-22,which is then directly used as an etching mask in the subsequent reactive ion etching（RIE） on the SiNx to form the desired templates.The properties of both e-beam lithography and dry etch of NEB-22 were carefully studied,indicating significant advantages of this process with some drawbacks compared to when Cr was used as an etching mask.Nevertheless,our results open up a good opportunity to fabricate high resolution imprint templates with the prospect of wafer scale manufacturing.

关键词： SiNx templates nanoimprint NEB-22 electron bean lithography reactive ion etch