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检索条件"作者=郑英奎"
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CMOS兼容的Si基GaN准垂直结构肖特基势垒二极管
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半导体技术 2022年 第3期47卷 179-183页
作者: 陈延博 杨兵 康玄武 郑英奎 张静 吴昊 刘新宇 北方工业大学信息学院 北京100144 中国科学院微电子研究所 北京100029
在Si基GaN上制备了与CMOS工艺兼容的高性能准垂直结构肖特基势垒二极管(SBD)。探索了在GaN体材料上基于Ti/Al/Ti/TiN结构的无金欧姆接触工艺,在650℃的N_(2)氛围退火60 s实现了较好的欧姆接触性能。通过采用电感耦合等离子体(ICP)干法... 详细信息
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全球新疆域的治理挑战与中国路径
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社会主义研究 2024年 第3期 136-144页
作者: 郑英 上海国际问题研究院海洋与极地研究中心
深海、极地、外空、网络和数字空间、人工智能等全球新疆域蕴藏着人类生存与发展所需的重要资源和战略空间,已经成为各国争取发展资源、拓展发展空间、谋求发展优势的新领域。随着科技快速发展以及国际形势变迁,新疆域面临治理需求上升... 详细信息
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AlGaN/AlN/GaN高电子迁移率器件的电容电压特性的经验拟合
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物理学报 2011年 第4期60卷 542-546页
作者: 王鑫华 赵妙 刘新宇 蒲颜 郑英奎 魏珂 中国科学院微电子研究所 微电子器件与集成技术重点实验室北京100029
利用蓝宝石衬底的AlGaN/AlN/GaN高电子迁移率器件(HEMT)的电容电压(C-V)特性,对电子费米能级与二维电子气面密度的经验关系进行表征,其结果对器件电荷控制模型的建立,跨导及电容表达式的简化有重要意义.文章创新性地提出参数α用于表征... 详细信息
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认罪认罚“程序从宽”的理论反思
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政法论坛 2024年 第4期 39-51页
作者: 郑英 浙江工商大学法学院
“实体从宽”立足于宽严相济的刑事政策,承载着具有人文关怀的司法宽容精神,为认罪认罚“从宽”应有之义。但“程序从宽”中的强制措施从宽不仅在正当性上存疑,在可行性上也存有较大障碍。而诉讼程序从快从简的从宽则面临二重悖论,... 详细信息
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A flat gain GaN MMIC power amplifier for X band application
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Journal of Semiconductors 2014年 第12期35卷 74-78页
作者: 戈勤 刘新宇 郑英奎 叶川 Nanjing Electronic Devices Institute Institute of Microelectronics Chinese Academy of Sciences
A flat gain two-stage MMIC power amplifier with a 2.8 GHz bandwidth is successfully developed for X band frequency application based on a fully integrated micro-strip Al GaN/GaN HEMT technology on a semiinsulating Si ... 详细信息
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A revised approach to Schottky parameter extraction for GaN HEMT
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Journal of Semiconductors 2010年 第7期31卷 32-35页
作者: 王鑫华 赵妙 刘新宇 郑英奎 魏珂 Key Laboratory of Microelectronics Device & Integrated Technology Institute of MicroelectronicsChinese Academy of Sciences
We carry out a thermal storage research on GaN HEMT at 350℃for 48 h,and a recess phenomenon is observed in the low voltage section of Schottky forward characteristics.The decrease of 2DEG density will be responsible ... 详细信息
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检验GaN基外延材料质量的简易方法
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半导体技术 2008年 第S1期33卷 109-111,122页
作者: 李诚瞻 魏珂 郑英奎 刘果果 庞磊 刘新宇 中国科学院微电子研究所 北京100029
研究了GaN基外延材料对Al GaN/GaN HEMT电流崩塌效应影响,基于背对背肖特基I-V特性的对称性与Al GaN/GaN HEMT电流崩塌效应的对应关系,提出了一种检验GaN基外延材料的简便方法。实验观察到,背对背肖特基结I-V特性对称性好的外延材料,所... 详细信息
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岳麓所见
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创作 2017年 第2期 54-55页
作者: 郑英奎 长沙市青竹湖湘一外国语学校
国庆来了,假期来了,一群一群人也来了。这个国庆,我本是准备宅在家中的,可我见这几天有些雨,天气凉爽,在雨天这朦朦胧胧的淡白色雨幕中,我突然想起一句'看万山红遍,层林尽染',脑海中不免联想起岳麓山上那红叶遍野的景象……还是去走走... 详细信息
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The physical process analysis of the capacitance-voltage characteristics of AlGaN/AlN/GaN high electron mobility transistors
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Chinese Physics B 2010年 第9期19卷 536-542页
作者: 王鑫华 赵妙 刘新宇 蒲颜 郑英奎 魏珂 Key Laboratory of Microelectronics Device&Integrated Technology Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences
This paper deduces the expression of the Schottky contact capacitance of AlGaN/A1N/GaN high electron mobility transistors (HEMTs), which will help to understand the electron depleting process. Some material paramete... 详细信息
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记忆中的温暖
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创作 2016年 第6期 30-31页
作者: 郑英奎 长沙市青竹湖湘一外国语学校
时光飞逝,有些事终将成为记忆。记忆,便是那已消逝了的风景,是美的,是温暖的。几个月前,我去一中学习,午餐就在一中附近的饭店解决。点了些饭菜,便坐在桌旁看书,以此小憩片时。服务员将饭菜端来,放好,就走了。我放下手中的书,开始畅享... 详细信息
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