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纳米压印工艺制作DFB激光器的可靠性研究

光学学报 2014年第2期34卷 48-54页

作者：赵建宜陈鑫周宁曹明德黄晓东刘文华中科技大学光学与电子信息学院光电国家实验室湖北武汉430074 光迅科技股份有限公司湖北武汉430074 中国科学技术大学先进技术研究院安徽合肥230026

利用光荧光谱及X射线双晶衍射研究了纳米压印工艺对半导体外延材料的影响。利用纳米压印工艺制作了1.55μm通信用分布反馈(DFB)半导体激光器,并对制作的器件进行了老化寿命试验。实验结果表明,采用软模版压印并不会劣化半导体外延材料... 详细信息

利用光荧光谱及X射线双晶衍射研究了纳米压印工艺对半导体外延材料的影响。利用纳米压印工艺制作了1.55μm通信用分布反馈(DFB)半导体激光器,并对制作的器件进行了老化寿命试验。实验结果表明,采用软模版压印并不会劣化半导体外延材料的特性。制作的半导体激光器预期寿命与普通双光束曝光法制得的器件预期相当,表明纳米压印工艺制作半导体激光器是可靠的。

关键词：集成光学纳米压印半导体激光器单片光子集成电路

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宽可调谐双微环耦合半导体激光器的模拟研究

光学学报 2012年第2期32卷 178-182页

作者：赵建宜刘文黄晓东周宁华中科技大学光电国家实验室(筹) 湖北武汉430074 光迅科技股份有限公司湖北武汉430074

为了对宽可调谐微环耦合半导体激光器进行理论研究,提出了一种新型半导体激光器动态理论模型对其动态特性进行仿真分析。激光器的有源区采用传统的时域行波法进行模拟,由于调谐带宽大于40nm,需要考虑增益谱线型,而无源区则先利用频域模... 详细信息

为了对宽可调谐微环耦合半导体激光器进行理论研究,提出了一种新型半导体激光器动态理论模型对其动态特性进行仿真分析。激光器的有源区采用传统的时域行波法进行模拟,由于调谐带宽大于40nm,需要考虑增益谱线型,而无源区则先利用频域模型计算其频谱特性,再利用有限冲击响应数字滤波器转化到时域与有源区进行连接。通过仿真分析得出,微环的耦合系数对激光器的大信号调制具有十分重要的影响。低耦合系数可以获得极窄的线宽但是激光器大信号直接调制能力也会随之急剧劣化。仿真结果还显示出该类型激光器可以进行高速大范围波长调谐。

关键词：激光器动态波长切换微环时域行波法大信号调制

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用多层掩模去除纳米压印工艺中的残胶

光学精密工程 2013年第6期21卷 1434-1439页

作者：陈鑫赵建宜王智浩王磊周宁刘文华中科技大学光电子科学与工程学院武汉光电国家实验室新一代光纤通信技术和网络国家重点实验室武汉光迅科技股份有限公司

纳米压印工艺中的压印胶在固化后会发生聚合物的铰链,生成高分子聚合物,很难被一般有机溶剂清除,从而影响器件的性能。为有效去除压印残胶,提出一种利用多层掩模去除残胶的方法。该方法首先在基片和压印胶之间沉积一层50nm的二氧化硅作... 详细信息

纳米压印工艺中的压印胶在固化后会发生聚合物的铰链,生成高分子聚合物,很难被一般有机溶剂清除,从而影响器件的性能。为有效去除压印残胶,提出一种利用多层掩模去除残胶的方法。该方法首先在基片和压印胶之间沉积一层50nm的二氧化硅作为硬掩模;接着用纳米压印工艺将光栅图形转移到压印胶上,再用干法刻蚀将光栅图形转移到基片上;最后,放入BOE(buffered oxide etchant)中漂洗数秒以去除残胶。文中总结了刻蚀底胶时间对光栅占空比的影响,对比了经过多层掩模去残胶和传统去残胶的方法处理后的光栅形貌。电镜图片结果显示,采用本文方法经过漂洗的光栅表面残胶去除干净,形貌良好,其周期约为240nm,深度约为82nm。实验表明,多层掩模去残胶的方法不仅能够有效地去除刻蚀残胶,同时能够避免光栅形貌的损坏。

关键词：纳米压印技术分布反馈激光器残胶多层掩模软模板

基于纳米压印技术分布反馈激光器阵列的ONU光源研究

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光学学报 2014年第11期34卷 182-187页

作者：陈鑫赵建宜周宁曹明德黄晓东刘文华中科技大学光学与电子信息学院武汉光电国家实验室湖北武汉430074 光迅科技股份有限公司湖北武汉430074 中国科学技术大学先进技术研究院安徽合肥230026

利用纳米压印工艺及对接生长工艺制作了基于分布反馈(DFB)激光器阵列的适用于波分复用光无源网络(WDM-PON)光网络单元(ONU)的低成本光源芯片。器件使用单片集成多模干涉器进行合波输出。测试结果显示,器件平均阈值小于10mA,边模抑制比大... 详细信息

利用纳米压印工艺及对接生长工艺制作了基于分布反馈(DFB)激光器阵列的适用于波分复用光无源网络(WDM-PON)光网络单元(ONU)的低成本光源芯片。器件使用单片集成多模干涉器进行合波输出。测试结果显示,器件平均阈值小于10mA,边模抑制比大于40dB,波长调谐范围大于10nm,出光功率大于0.2mW。

关键词：光学制造纳米压印半导体激光器单片光子集成

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文物古建筑主要消防安全风险及管理对策探讨

今日消防 2020年第7期5卷 89-90页

作者：赵建宜故宫博物院

做好文物古建筑消防安全管理,确保文物古建消防安全,是文物保护传承的根基,对研究古代文化遗产具有重要意义。本文首先对古建筑火灾特点及存在的消防安全风险进行分析,根据火灾、风险特点,提出消防安全管理的应对对策。

关键词：古建消防安全管理对策

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工会必须认真研究服务对象的基本需求

工运研究 2013年第14期 30-31,F0004页

作者：赵建宜海南省地质局工会

工会组织的基本服务对象是党政、职工和企事业单位。理论和实践充分证明：研究好工会服务对象的基本需求，是坚持中国特色社会主义工会发展道路的必然要求，也是做好我局工会工作的根本前提。

关键词：工会组织服务对象中国特色社会主义企事业单位工会工作

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基于二维多模干涉效应的N×N光开关模型

光子学报 2011年第12期40卷 1789-1792页

作者：叶新威马卫东黄晓东赵建宜光纤通信技术和网络国家重点实验室武汉光迅科技股份有限公司武汉430074

报道了由两个N×N三维多模干涉耦合器和一段阵列相移波导组成的三维光开关.首先利用导模传输法分析了三维多模干涉耦合器的一般成像原理,并推导出了其成像位置以及相位矩阵.在此基础上,通过场传输矩阵法建立了光开关的传输方程.利用该... 详细信息

报道了由两个N×N三维多模干涉耦合器和一段阵列相移波导组成的三维光开关.首先利用导模传输法分析了三维多模干涉耦合器的一般成像原理,并推导出了其成像位置以及相位矩阵.在此基础上,通过场传输矩阵法建立了光开关的传输方程.利用该传输方程计算得到了光开关工作时,阵列相移波导的相位条件,并通过三维有限差分光束传输法进行仿真验证,给出了光开关工作时的插损、串扰指标,以及光开关输出功率随相移波导相位变化的关系.

关键词：三维多模干涉耦合器光开关三维有限差分光束传输法

Fabrication of low threshold current monolithic DFB laser with an MMI combiner

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Chinese Optics Letters 2014年第11期12卷 99-102页

作者：赵建宜陈鑫周宁黄晓东刘文 Wuhan National Laboratory for Optoelectronics School of Optical and Electronic InformationHuazhong University of Science and Technology Accelink Technologies Company Ltd Institute of Advanced Technology University of Science and Technology of China

We fabricate low threshold current monolithic distributed feedback（DFB） laser with a multi-mode interface（MMI） combiner using butt-joint metal-organic chemical vapor deposition technology with different waveguide structures. Multi-layer mask self-aligned photolithography technology is used to form different waveguides in active and passive regions, respectively. The result shows that the laser threshold current is lower than 10 m A, with 50 d B side-mode suppression ratio.

关键词： Distributed feedback lasers Metallorganic chemical vapor deposition Organic chemicals Organometallics Photolithography Waveguides

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半导体激光器在超高速光网络中的应用

网络电信 2013年第5期15卷 58-60页

作者：赵建宜刘文

光通信的快速发展对光电子器件提出了更高的要求。基于超高速光传输网络、光以太网及接入网对通信用半导体激光器的性能要求，结合中国光电了器件具体情况，对半导体激光器的性能、研究状态及应用进行了探讨。

关键词：超高速光网络半导体激光器线宽可调谐直接调制