检索结果-南通市图书馆

胍基锆酰胺配合物与四氯化碳的反应生成氯化锆胍基衍生物

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无机化学学报 2020年第6期36卷 1157-1162页

作者： Bhavna Sharma 薛子陵田纳西大学化学系诺克斯维尔市37996美国

四氯化碳与Zr(NMe2)2[iPr NC(NMe2)NiPr]2(1)反应先生成中间体Zr Cl(NMe2)2[iPr NC(NMe2)NiPr]2(2),然后生成Zr Cl2[iPr NC(NMe2)NiPr]2(3)。该反应可能是自由基反应。另外,配合物2可由Zr Cl(NMe2)3与二异丙基碳二亚胺i Pr-N=C=N-iPr反... 详细信息

关键词：锆氯酰胺配合物

钨卡宾化合物与水的不寻常反应——含氧配体三聚体的合成、表征和晶体结构(英文)

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中国科学：化学 2012年第1期42卷 93-94页

作者： DOUGAN Brenda A 薛子陵美国田纳西大学化学系

烷基卡宾化合物W(CH2CMe3)3(/CSiMe3)(1)与水在四氢呋喃(THF)中,或者与重水在苯-d6中的反应分别生成两个新的含氧配体的三聚物W3O3(μ=O)3(CH2CMe3)6(THF)3(2)和[W3O3(μ=O)3(CH2CMe3)6(D2-O)3]·2benzene-d6(3·2benzene-d6).这两个产物中每个钨原子均含两个烷基配体,与以前报道过的从类似的烷基卡宾化合物W(CH2CMe3)3(/CCMe3)与水反应所生成的二聚物W2O2(μ-O)(CH2CMe3)6有很大不同.化合物1与重水在四氢呋喃的反应中,观测到一个不稳定的中间体W2O2(μ-O)(CD2SiMe3)2(CH2CMe3)4(4-d4).对1与水或者与重水在THF-d8中的反应生成4及4-d4进行了动力学研究,在298(1)K,动力学同位素效应(KIE)为3.46(3),显示1的消失是一个速率决定步骤.

关键词：烷基卡宾化合物水含氧配合物动力学同位素效应

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极化中子衍射及在电子自旋密度研究中的应用

中国科学（B辑） 2009年第12期39卷 1569-1582页

作者： Brenda A. Dougan 薛子陵 Department of Chemistry The University of TennesseeKnoxville Tennessee 37996-1600 USA

极化中子衍射方法常用于研究含未配对电子化合物中电子自旋密度的分布.分子中电子自旋密度分布从一个独特的角度反映化合物的磁性质.本文介绍极化中子衍射方法的背景知识和基本原理.包括中子源、中子和X射线衍射、极化中子衍射,以及一... 详细信息

极化中子衍射方法常用于研究含未配对电子化合物中电子自旋密度的分布.分子中电子自旋密度分布从一个独特的角度反映化合物的磁性质.本文介绍极化中子衍射方法的背景知识和基本原理.包括中子源、中子和X射线衍射、极化中子衍射,以及一些常用的实验数据处理方法.选用几个实例总结了用极化中子衍射方法得到的电子自旋密度分布在无机和有机化学中的应用.通过单分子磁体[Fe8O2(OH)12(tacn)6]8+和氰基桥联化合物K2[Mn(H2O)2]3[Mo(CN)7]2·6H2O,说明如何用该方法研究金属原子间的磁相互作用;并通过Ru(acac)3这个只含一个未配对电子的化合物来说明如何获得化合物中金属和配体上小的自旋密度;最后介绍了该方法在nitronyl nitroxide自由基研究中的应用.

关键词：极化中子衍射电子自旋(或未配对电子)密度顺磁反铁磁磁结构因子

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过渡金属催化的氢氨烷基化反应

无机化学学报 2014年第1期30卷 53-61页

作者：何天强郑雪静蔡琥薛子陵南昌大学化学系南昌330031 美国田纳西大学化学系诺克斯维尔田纳西37996

烯烃的氢氨烷基化反应作为一种原子高效反应在过去十多年中受到广泛的关注,它通过一步反应把烷基氨上N的α位的C-H加成到不饱和C-C上形成新的氨分子,反应没有副产物。本文综合介绍金属催化的氢氨烷基化反应近年来的研究进展,并对其机理... 详细信息

烯烃的氢氨烷基化反应作为一种原子高效反应在过去十多年中受到广泛的关注,它通过一步反应把烷基氨上N的α位的C-H加成到不饱和C-C上形成新的氨分子,反应没有副产物。本文综合介绍金属催化的氢氨烷基化反应近年来的研究进展,并对其机理的研究作出概括。

关键词：氢氨烷基化反应胺烯烃金属催化反应

聚(吡唑)硼酸基-氨基钽化合物的合成、表征及和氧气的反应性

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中国科学（B辑） 2009年第10期39卷 1145-1152页

作者：陈树建 Glenn P.A.YAP 薛子陵 Department of Chemistry The University of Tennessee Department of Chemistry & Biochemistry The University of Delaware

TaCl(NMe2)4(1)与Tp*K[Tp*=三(3,5-二甲基吡唑)硼化氢]的反应给出两个产物:第一个产物是Tp*Ta(NMe2)4(2),其中Tp*配体的一个N原子跟钽配位成键;第二种产物是[Tp*Ta(NMe2)4]·2Tp*K(3),其中[Tp*Ta(NMe2)4](2a)的Tp*配体的三个N原子跟钽配位成键.过量的化合物1加入化合物3中并没有跟其中的Tp*K反应.化合物2与氧气的进一步反应给出产物Tp*BH(NMe2)(4).通过类似的方法,化合物1与TpK[Tp=三(吡唑)硼化氢]的反应产出化合物TpTa(NMe2)4(5).研究了化合物3和5与氧气的反应.用核磁共振,元素分析和单晶X射线衍射对化合物2,4,和5进行了表征.

关键词：聚吡唑硼基钽氨基氧气

金属氧化物与现代微电子学——过渡金属前体化合物及转化为材料的化学过程（英文）

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无机化学学报 2017年第11期33卷 1947-1958页

作者： Tabitha M.Cook Adam C.Lamb 薛子陵田纳西大学化学系、美国诺克斯维尔市田纳西州137996

金属氧化物薄膜如HfO_2(被称为高k电介质)是现代微电子器件的关键组件,广泛用于计算机(平板电脑,笔记本电脑和台式机)、智能电话、智能电视、汽车和医疗设备中。具有大介电常数(k)的金属氧化物已经取代了介电常数小的SiO_2(k=3.9),从而... 详细信息

金属氧化物薄膜如HfO_2(被称为高k电介质)是现代微电子器件的关键组件,广泛用于计算机(平板电脑,笔记本电脑和台式机)、智能电话、智能电视、汽车和医疗设备中。具有大介电常数(k)的金属氧化物已经取代了介电常数小的SiO_2(k=3.9),从而使得微电子元件进一步小型化。过渡金属化合物在化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)中被广泛用作前体,通过与O2、H_2O或O_3的反应生成金属氧化物薄膜。微电子金属氧化物膜是纳米材料最广泛应用的一个领域。本文概观该领域的最新进展,包括我们对d0过渡金属配合物与O_2反应的研究。

关键词：金属氧化物栅极电介质材料薄膜微电子学化学气相沉积原子层沉积

含吡啶鎓阳离子的氮杂环卡宾Pd(Ⅱ)配合物的合成、结构及催化性能(英文)

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高等学校化学学报 2011年第3期32卷 538-544页

作者：许卫锋李一志陈学太薛子陵南京大学化学化工学院配位化学国家重点实验室南京210093 田纳西大学化学系诺克斯维尔37996-1600

合成了4个含吡啶鎓阳离子的氮杂环卡宾钯(Ⅱ)三碘配合物.通过核磁共振谱和元素分析对其进行了表征.同时利用X射线单晶衍射确定了其中2个配合物的晶体结构.研究结果表明,该系列配合物对Suzuki-Miyaura偶联具有催化活性.

关键词：氮杂环卡宾钯催化 Suzuki-Miyaura偶联

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无机物的光学和电化学传感器

中国科学（B辑） 2009年第11期39卷 1324-1335页

作者： Royce N. Dansby-Sparks 欧阳瑞镯薛子陵 Department of Chemistry The University of Tennessee

本文讨论将溶胶凝胶作为一种基质来发展独特的传感策略.溶胶凝胶为传感基质的制备和发展提供了无限空间,这种空间得益于基质物理性质的多样性,可以通过改变一些传感器已知的制备条件和合成技术来实现.我们在对传感需求的认真考虑和研究... 详细信息

本文讨论将溶胶凝胶作为一种基质来发展独特的传感策略.溶胶凝胶为传感基质的制备和发展提供了无限空间,这种空间得益于基质物理性质的多样性,可以通过改变一些传感器已知的制备条件和合成技术来实现.我们在对传感需求的认真考虑和研究的基础上,开发出了用于一些分析物的新的检测方法,同时发展了它们的应用.溶胶凝胶被用来监测浓强酸([H+]=1～11M),浓强碱([OH-]=1～10M)及采用双传感方法来测定混合溶剂/溶质系统.本文还讨论了使用配体嫁接的块状溶胶凝胶对金属离子进行光学测定.最后介绍了用电化学法和溶胶凝胶修饰的电极来测定六价铬的方法.

关键词：溶胶凝胶有机功能酸碱金属离子

d^0过渡金属化合物对氧气反应性:合成和反应机理研究

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中国科学（B辑） 2009年第11期39卷 1296-1307页

作者：陈树建张欣豪林振阳吴云东薛子陵 Department of Chemistry The University of TennesseeKnoxville 香港科技大学化学系

众所周知,过渡金属如卟啉中的铁与氧气的结合和反应对许多生物功能和催化氧化至关重要.在这些反应中,过渡金属一般含d价电子,并且金属被氧化往往是其中一个重要的反应步骤.近年来,氧气与d0过渡金属化合物如Hf(NR2)4(R=烷基)的反应被广... 详细信息

众所周知,过渡金属如卟啉中的铁与氧气的结合和反应对许多生物功能和催化氧化至关重要.在这些反应中,过渡金属一般含d价电子,并且金属被氧化往往是其中一个重要的反应步骤.近年来,氧气与d0过渡金属化合物如Hf(NR2)4(R=烷基)的反应被广泛用来制备金属氧化物薄膜以作为新型微电子器件中的栅(门)绝缘材料.这篇专题文章讨论我们近期对这些反应以及TiO2薄膜形成的研究.在许多氧气与dn过渡金属化合物的反应中,总是金属被氧化.然而,在d0过渡金属化合物如Hf(NMe2)4和Ta(NMe2)4(SiR3)与氧气的反应中通常是配体被氧化.如—NMe2和—SiR3配体分别形成了—ONMe2和—OSiR3配体.反应机理和理论方面的研究显示了微电子金属氧化物薄膜形成的途径.

关键词：氧气氨基化合物金属氧化物栅(门)绝缘材料理论研究