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微电子学与计算机 1995年第5期12卷 1-4页

作者：汪师俊何莲萍李积和上海交通大学上海硅材料厂

本文研究了ＳｉＨ４—Ｏ２体系ＬＰＣＶＤＳｉＯ２的工艺及设备。为了得到厚度均匀性好的薄膜，改进了反应气体的进气方式和装片舟的结构，获得了每炉１００片、直径为１００ｍｍ的硅片的膜厚不均匀性≤士５％的结果。

关键词：二氧化硅薄膜工艺 LPCVD 半导体器件

低温下阻遏蛋白MogR对单增李斯特菌鞭毛形成的影响

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微生物学报 2024年第5期64卷 1506-1520页

作者：汪国俊邓霞栗绍文刘梅华中农业大学动物医学院湖北武汉430070

【目的】单核细胞增生李斯特菌(简称单增李斯特菌)(Listeria monocytogenes,Lm)是食源性病原菌,可以引发李斯特菌病(listeriosis)。Lm能在低温下生长,对冷藏食品的安全构成严重威胁,并对人类健康造成潜在的危害。Lm能低温生长与抑制鞭... 详细信息

【目的】单核细胞增生李斯特菌(简称单增李斯特菌)(Listeria monocytogenes,Lm)是食源性病原菌,可以引发李斯特菌病(listeriosis)。Lm能在低温下生长,对冷藏食品的安全构成严重威胁,并对人类健康造成潜在的危害。Lm能低温生长与抑制鞭毛基因表达以减少鞭毛的合成有关。MogR是Lm鞭毛基因转录的阻遏蛋白,在机体里或37℃环境下具有阻遏作用,Lm不产生鞭毛;然而,当Lm处于20-30℃时MogR无阻遏作用,Lm产生鞭毛。我们研究发现在4℃生长条件下Lm鞭毛合成减少,但具体的分子机制尚未明确。本文探究在4℃下Lm鞭毛合成少与MogR起阻遏作用的关系。【方法】以Lm ATCC 19115为亲本株,分别构建了MogR和鞭毛丝蛋白FlaA的缺失株ΔmogR和ΔflaA(作为无鞭毛对照株)及其回补株cΔmogR和cΔflaA,测定了菌株在4、28、37℃时的运动性、鞭毛产生情况和鞭毛基因表达量,并对所构建的菌株进行了4、28、37℃时生长曲线的测定。【结果】在4℃时,mogR缺失后,菌株运动性显著强于亲本株(P<0.01),鞭毛合成量显著多于亲本株(P<0.001),鞭毛基因转录水平显著高于亲本株(P<0.001);缺失株ΔmogR的生长能力显著弱于亲本株(P<0.05)。回补株cΔmogR的运动能力、鞭毛合成量和鞭毛基因转录水平与亲本株相比,无显著性差异。【结论】在4℃时,Lm鞭毛产量少与MogR对鞭毛基因起转录抑制作用有关,低温条件下Lm能生长繁殖与MogR对鞭毛基因表达的抑制作用有关。本研究结果为揭示Lm低温生长机制提供了新的信息。

关键词：单增李斯特菌 MogR 鞭毛低温生长

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光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅲ)光CVD氮化硅薄膜应用于提高器件可靠性

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微电子学与计算机 1993年第9期10卷 1-3页

作者：汪师俊蔡琪玉沈天慧上海交通大学高纯硅及硅烷国家重点实验室上海市200030

采用光化学气相淀积(光CVD)氮化硅薄膜进行器件的表面钝化,使整个器件提高了可靠性.

关键词：光化学气相淀积可靠性氮化硅

光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅰ)光化学气相淀积氧化硅的工艺研究

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微电子学与计算机 1993年第2期10卷 46-48页

作者：汪师俊蔡琪玉沈天慧上海交通大学

文章介绍制备光化学气相淀积氮化硅薄膜的原理、设备及实验结果。

关键词：气相淀积氮化硅薄膜

光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——Ⅱ光化学气相淀积氮化硅膜的性质

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微电子学与计算机 1993年第3期10卷 45-48页

作者：汪师俊蔡琪玉沈天慧上海交通大学高纯硅及硅烷国家重点实验室上海市200030

采用红外吸收光谱(IR)、俄歇能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)及气相色谱等方法对光化学气相淀积(光CVD)氮化硅薄膜进行了分析.

关键词：硅膜氮化硅薄膜工艺气相光化学 X射线光电子能谱(XPS) AES 淀积二次离子质谱 SIMS

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化学气相淀积在大规模集成电路中的应用

微处理机 1985年第1期9卷 44-49页

作者：汪师俊航天工业部骊山微电子公司

集成电路的制作工艺主要是薄膜工艺,是以半导体材料为衬底,在其上淀极多层不同的薄膜。用来作隔离介质膜、电容介质膜、掩蔽杂质扩散的阻挡膜、多层布线的绝缘膜、表面保护膜、互连线的导电膜等。形成薄膜的方式也是多种多样的。有化学... 详细信息

集成电路的制作工艺主要是薄膜工艺,是以半导体材料为衬底,在其上淀极多层不同的薄膜。用来作隔离介质膜、电容介质膜、掩蔽杂质扩散的阻挡膜、多层布线的绝缘膜、表面保护膜、互连线的导电膜等。形成薄膜的方式也是多种多样的。有化学气相淀积成膜、蒸发成膜、溅射成膜等。由于化学气相淀积工艺的不断改进,反应温度不断降低。

关键词： CVD 大规模集成电路多晶硅膜化学气相淀积反应温度淀积条件化学反应薄膜生长晶体生长无定形硅烷有机硅化合物

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国内外具身认知视角下的设计研究现状与进展

包装工程 2024年第12期45卷 91-104页

作者：何抒琪汪贤俊集美大学美术与设计学院福建厦门361021

目的对国内外基于具身认知的设计研究文献进行分析,以客观解读具身认知视角下的设计研究现状与进展,从而为设计实践提供前瞻性参考。方法以Web of Science核心合集数据库和知网CNKI数据库中具身认知视角下的设计相关文献为数据来源,通过... 详细信息

目的对国内外基于具身认知的设计研究文献进行分析,以客观解读具身认知视角下的设计研究现状与进展,从而为设计实践提供前瞻性参考。方法以Web of Science核心合集数据库和知网CNKI数据库中具身认知视角下的设计相关文献为数据来源,通过VOSviewer、CiteSpace工具对该研究的现状、研究热点、发展趋势等内容生成可视化知识图谱,结合相关参数进行综合分析。结论文献计量分析结果显示,国内外具身认知与设计研究结合的文献年发文量呈上升趋势,研究内容与计算机科学、工程学、心理学、教育学交叉。英国为最具贡献力的国家;清华大学美术学院、英国研究图书馆等分别为国内外最有影响力的研究机构。根据关键词聚类分析总结,将该研究分为三类,即概念方法类、技术支撑类和设计实践类。整体发展趋势呈现由理论研究向实践应用发展并逐步细化的态势。

关键词：具身认知设计文献计量 VOSviewer CiteSpace

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