检索结果-南通市图书馆

用于多波长激光损伤测试仪的滤光片设计与制备

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

用于多波长激光损伤测试仪的滤光片设计与制备

作者：杭良毅西安工业大学

学位级别：硕士

应用于大功率、高能量激光系统中的薄膜元件是整个光学系统中重要而又易损的薄弱环节,光学薄膜一旦遭到激光损伤,不但会使成像质量降低,严重时还会导致整个光学系统无法工作。然而,目前薄膜的激光损伤阈值(laser-induced damage thresho... 详细信息

应用于大功率、高能量激光系统中的薄膜元件是整个光学系统中重要而又易损的薄弱环节,光学薄膜一旦遭到激光损伤,不但会使成像质量降低,严重时还会导致整个光学系统无法工作。然而,目前薄膜的激光损伤阈值(laser-induced damage threshold,LIDT)仍缺乏有效的检测手段和方法,对薄膜激光损伤评判及损伤阂值测试仪的研究显得非常重要。本文基于以上背景,为了满足多波长共光路激光损伤测试仪的要求,需要解决测试仪中滤光片的设计和制备问题。本文研究了单层膜的抗激光损伤能力和制备工艺,对膜料进行了甄别选取;对滤光片的膜系和电场强场进行了优化,采用电子束热蒸发技术制备了滤光片;探究了后续处理工艺对滤光片激光损伤阈值的影响。研究过程获得的主要结论如下：1.采用电子束热蒸发技术制备了单层钛酸镧(LaTiO3)薄膜。研究结果表明：高折射率材料LaTiO3具有稳定的光学性能与较高的激光损伤阈值;对LaTiO3薄膜的制备工艺进行了优化,当沉积温度175℃、工作真空度2.0×10-2Pa、蒸发束流120mA(电子能量8KeV)时,得到的LaTiO3薄膜的激光损伤阈值为16.9J/cm2 (1064nm,10ns),比常规公共艺下TiO2、Ta2O5和HfO2单层膜的激光损伤阈值分别高46.19%、18.18%、28.42%。2.采用电子束热蒸发技术制备了单层氧化硅(SiO2)薄膜。研究结果表明：低折射率材料Si02具备较好的物理化学性能和较高的激光损伤阈值;在热蒸发过程中,当其他制备工艺相同时,充氧比不充氧情况下制备的Si02单层膜的激光损伤阈值高出15.38%;得到了优化后的制备工艺：沉积温度175℃、工作真空度1.5×10-2Pa、蒸发束流30mA(电子能量8KeV),此时Si02单层膜激光损伤阈值为24.1J/cm2 (1064nm,10ns)。3.采用TFCalc软件设计了滤光片膜系,选用LaTiO3和Si02作为高低折射率材料,得到优化后的膜系为G|(HL)10H0.5L|A。在光学镀膜机上进行了上述膜系的制备,并对其光谱特性和激光损伤阈值进行了测试,测试结果表明,样品单面镀膜后的透射率T532nm=94.76%, T1064nm=0.81%,激光损伤阈值为11.7J/cm2。4.对制备好的多层膜进行了激光辐照和电子束辐照处理,研究发现：当辐照激光能量为多层膜阈值的80%时,辐照后多层膜的激光损伤阈值提高效果最明显,较原值提高22.2%。当辐照能量为80%,采用不同辐照次数实验时,发现辐照3次后多层膜激光损伤阈值提高最显著,较原值提高12.6%;而采用电子束辐照样片,多层膜的激光损伤阈值反而会下降。

关键词：薄膜 LaTiO3 SiO2 后续处理激光损伤阈值(LIDT)

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

LaTiO_3薄膜的光学及激光损伤特性

真空科学与技术学报 2015年第9期35卷 1124-1129页

作者：徐均琪杭良毅苏俊宏程耀进西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710021 微光夜视技术重点实验室西安710065

研究了工艺条件（沉积温度、真空度、蒸发束流）对LaTiO3薄膜光学和激光损伤特性的影响。采用椭偏法测量了薄膜的光学常数,分析了不同工艺条件下制备薄膜的折射率和消光系数,得出工艺参数与薄膜光学性能的相互关系。研究结果表明,当沉... 详细信息

研究了工艺条件（沉积温度、真空度、蒸发束流）对LaTiO3薄膜光学和激光损伤特性的影响。采用椭偏法测量了薄膜的光学常数,分析了不同工艺条件下制备薄膜的折射率和消光系数,得出工艺参数与薄膜光学性能的相互关系。研究结果表明,当沉积温度从室温（未加热）升高到220℃,所制备薄膜的折射率从1.9334增大到1.9644（d光）。当真空度从6.5×10-3（未充O2）降低到2.0×10-2Pa时,薄膜的折射率从1.9726下降到1.9268。随着束流从75增加到140 m A,薄膜的折射率从1.9337到1.9548略微有所增加。在所研究的工艺参数范围内,薄膜的折射率基本稳定,消光系数均小于1.74×10-3,尤其当沉积速率低于0.44 nm/s时,所制备薄膜的消光系数优于10-6。LaTiO3薄膜的激光损伤形貌随制备工艺而不同,其激光损伤阈值约为16.2~18.8 J/cm2（1064 nm,10 ns）。

关键词：薄膜 LaTiO3 折射率激光损伤阈值

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

PECVD技术制备光学薄膜的研究进展

激光与光电子学进展 2020年第13期57卷 37-48页

作者：杭良毅刘卫国杭凌侠周顺西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室陕西西安710021

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在制备高激光损伤阈值的激光薄膜和渐变折射率结构的光学薄膜方面有独特的优点。通过大量的工艺研究,人们掌握了调控光学薄膜材料折射率和降低消光系数的方法。目前已知薄膜的最低折射率为1.16±0.0... 详细信息

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在制备高激光损伤阈值的激光薄膜和渐变折射率结构的光学薄膜方面有独特的优点。通过大量的工艺研究,人们掌握了调控光学薄膜材料折射率和降低消光系数的方法。目前已知薄膜的最低折射率为1.16±0.01(632.8 nm波长处),有效拓展了薄膜材料的折射率范围。当薄膜的消光系数小于10-3时,薄膜折射率的可变范围为1.33~2.06,基本满足光学薄膜设计和制造的需求,且获得了大量中间折射率的制备工艺,基本满足光学薄膜设计和制造的需求。此外,薄膜制备工艺的稳定性和重复性也通过实验得到了验证。目前,PECVD技术已被用于制备多层光学薄膜,如减反膜、高反膜、Rugate滤光片、陷波滤光片,薄膜的光谱特性及抗激光损伤特性明显优于传统光学薄膜。特别是在渐变折射率薄膜的制造领域,PECVD技术有广阔的工程应用前景。

关键词：光学薄膜等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 折射率消光系数

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

钛酸镧薄膜的制备及工艺优化

应用光学 2015年第6期36卷 948-954页

作者：杭良毅徐均琪程耀进苏俊宏西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室陕西西安710032 微光夜视技术重点实验室陕西西安710065

为了获得制备钛酸镧(LaTiO3)薄膜的最优工艺条件,采用电子束热蒸发技术在K9基底上制备了单层LaTiO3激光薄膜。研究了不同工艺条件对LaTiO3薄膜激光损伤特性的影响。研究结果表明,对LaTiO3薄膜激光损伤阈值(laser-induced damage thresho... 详细信息

为了获得制备钛酸镧(LaTiO3)薄膜的最优工艺条件,采用电子束热蒸发技术在K9基底上制备了单层LaTiO3激光薄膜。研究了不同工艺条件对LaTiO3薄膜激光损伤特性的影响。研究结果表明,对LaTiO3薄膜激光损伤阈值(laser-induced damage threshold,LIDT)影响最大的工艺条件是沉积温度,其次是工作真空度,最后是蒸发束流。获得了制备单层LaTiO3激光薄膜的最优工艺条件:沉积温度175℃、工作真空度2.0×10-2 Pa、蒸发束流120mA(8keV);证明了最优工艺下制备的LaTiO3薄膜具有良好的激光损伤特性、稳定性以及重复性,所制备LaTiO3薄膜的激光损伤阈值为16.9J/cm2(1 064nm,10ns)。

关键词：薄膜 LaTiO3 激光损伤工艺优化

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

利格列汀多晶型研究

高等学校化学学报 2024年第1期45卷 33-42页

作者：刘奇刘沫毅董思雨王学重何运良北京石油化工学院新材料与化工学院恩泽生物质精细化工北京市重点实验室北京102617 华润双鹤药业股份有限公司北京100124 北京石油化工学院信息工程学院北京102617

研究了利格列汀复杂的晶型现象及其晶格中的构象变化.通过培养利格列汀的单晶并进行X射线单晶衍射分析,首次得到了包括晶型A在内的3种晶体结构;结合文献已报道的2种晶体结构,分析了各晶体结构的特点及其晶格中的分子构象.研究结果表明,... 详细信息

研究了利格列汀复杂的晶型现象及其晶格中的构象变化.通过培养利格列汀的单晶并进行X射线单晶衍射分析,首次得到了包括晶型A在内的3种晶体结构;结合文献已报道的2种晶体结构,分析了各晶体结构的特点及其晶格中的分子构象.研究结果表明,5种晶体里存在晶型A和晶型F两种晶型,其中晶型F为准多晶型,可以包含多种溶剂,形成通道型溶剂合物,其晶格参数随包含的溶剂略有变化.晶型A的构象与晶型F的构象存在较高能垒,导致2种晶型难以互相转化.晶型F不同溶剂合物之间的分子构象并不完全相同,在粉末X射线衍射(PXRD)谱图上也有显著差异.最后,通过混悬转晶和热分析等方法研究了晶型之间的转化关系.

关键词：利格列汀多晶型构象通道型溶剂合物

沉积速率对H4膜光学带隙及激光损伤特性的影响

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

光电子．激光 2016年第10期27卷 1054-1059页

作者：徐均琪苏俊宏杭良毅基玛.格拉索夫西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710021 白俄罗斯国立信息与无线电电子大学

采用电子束热蒸发技术在石英基底上制备了H4薄膜,并对其光学和激光损伤特性进行了研究。根据透射率谱计算出薄膜的光学带隙发现,光学带隙随着沉积速率的降低而增大,其值大小在4.66～4.73eV。椭偏测试结果表明,当沉积速率从0.92nm/s、0.1... 详细信息

采用电子束热蒸发技术在石英基底上制备了H4薄膜,并对其光学和激光损伤特性进行了研究。根据透射率谱计算出薄膜的光学带隙发现,光学带隙随着沉积速率的降低而增大,其值大小在4.66～4.73eV。椭偏测试结果表明,当沉积速率从0.92nm/s、0.17nm/s、0.08nm/s降低到0.03nm/s时,薄膜折射率从1.955 2、1.919 8、1.901 8降低到1.895 4（1 064nm）。所有样品的消光系数量级均优于10-5,说明薄膜表现出极小的吸收。薄膜的激光损伤形貌和激光损伤阈值（LIDT）受沉积速率的影响不大,同一激光能量作用下,薄膜的损伤斑大小基本一致,但0.92nm/s时制备的薄膜,其损伤区与未损伤区存在相互交错现象。当沉积速率从0.03nm/s变化到0.92nm/s时,薄膜激光损伤阈值在16～17J/cm^2（1 064nm,10ns）之间。

关键词：薄膜 H4 光学带隙折射率激光损伤阈值(LIDT)

Effects of various substrate materials on structural and optical properties of amorphous silicon nitride thin films deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Chinese Optics Letters 2020年第8期18卷 81-86页

作者：杭良毅刘卫国徐均琪 Shaanxi Provincial Key Laboratory of Thin Films Technology and Optical Test Xi’an Technological UniversityXi’an 710021China

The plasma-enhanced chemical vapor deposition(PECVD)technique is well suited for fabricating optical filters with continuously variable refractive index profiles;however,it is not clear how the optical and structural properties of thin films differ when deposited on different ***,silicon nitride films were deposited on silicon,fused silica,and glass substrates by PECVD,using silane and ammonia,to investigate the effects of the substrate used on the optical properties and structures of the *** of the deposited films were ***,the types and amounts of Si-centered tetrahedral Si–SivN4-v bonds formed were based upon the substrates used;Si–N4 bonds with higher elemental nitrogen content were formed on Si substrates,which lead to obtaining higher refractive indices,and the Si–SiN3 bonds were mainly formed on glass and fused silica *** refractive indices of the films formed on the different substrates had a maximum difference of0.05(at 550 nm),the refractive index of SiNx films formed on silicon substrates was 1.83,and the refractive indices of films formed on glass were very close to those formed on fused *** deposition rates of these SiNx films are similar,and the extinction coefficients of all the films were lower than 10-4.

关键词： thin films plasma-enhanced chemical vapor deposition optical properties structural properties substrate materials

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

基于隐式偏好的多目标推荐算法研究

小型微型计算机系统 2024年第4期45卷 830-837页

作者：陈宏王丽萍翁杭立祝俊毅郭海东浙江工业大学教育科学与技术学院杭州310014 浙江工业大学管理学院杭州310014 浙江工业大学计算机科学与技术学院杭州310014

推荐的准确性(accuracy)和多样性(diversity)是推荐算法研究的二个重要指标,能够最大程度地满足用户的喜好.然而,基于准确性的推荐将导致推荐结果过于聚焦集中在某类特征上,使得多样性降低,导致用户选择的广度不足而整体效果不佳.针对... 详细信息

推荐的准确性(accuracy)和多样性(diversity)是推荐算法研究的二个重要指标,能够最大程度地满足用户的喜好.然而,基于准确性的推荐将导致推荐结果过于聚焦集中在某类特征上,使得多样性降低,导致用户选择的广度不足而整体效果不佳.针对推荐算法的两个指标之间的平衡以满足用户的需求,本文采用最大预测评分和最大内部相似度差异的两目标模型,选取极值点和膝点为隐式偏好,利用隐式偏好改进推荐方案搜索优化策略,提出了一种基于隐式偏好的多目标推荐算法.该算法利用切比雪夫距离在迭代过程中对偏好点动态标定,以引导个体收敛于隐式偏好区域,得到具有不同偏好的推荐方案.在Movielens和Netflix数据集上实验结果表明,与Item-based协同过滤推荐算法相比,该算法的推荐结果在确保准确率性能情况下多样性平均提升了38%和33.4%,新颖度平均提升了58.6%和125.4%,降低了多目标推荐算法的复杂度,有效解决了实际应用问题.

关键词：推荐算法准确性多样性多目标优化隐式偏好切比雪夫距离

基于行为的多差速机器人强化学习任务监管器设计

同方期刊数据库博看期刊评论

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

机器人 2024年第4期46卷 397-413,424页

作者：张祯毅黄捷福州大学电气工程与自动化学院福建福州350108 福州大学5G+工业互联网研究院福建福州350108

针对多差速机器人系统提出了一种基于试错学习的多智能体强化学习任务监管器。此方法解决了基于行为的多智能体系统总是依赖人的智能设计切换规则以决策行为优先级的问题。首先,在零空间行为控制框架下引入了差速模型代替质点模型,首次... 详细信息

针对多差速机器人系统提出了一种基于试错学习的多智能体强化学习任务监管器。此方法解决了基于行为的多智能体系统总是依赖人的智能设计切换规则以决策行为优先级的问题。首先,在零空间行为控制框架下引入了差速模型代替质点模型,首次推导了具有非完整约束的零空间行为控制范式,从而提升了系统对最小极值状态的鲁棒性。然后,首次将行为优先级切换问题建模为协作式马尔可夫博弈问题,学习了一个最优的联合策略以动态且智能地决策行为优先级,不仅避免了人工设计切换规则,而且降低了在线计算和存储负担。仿真结果显示,所提出多智能体强化学习任务监管器具有优越的行为优先级切换性能。在AgileX Limo系列多差速机器人系统上的成功应用,验证了该任务监管器的实用性。

关键词：差速机器人行为控制强化学习任务监管器智能决策

同方期刊数据库