检索结果-南通市图书馆

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

基于虚拟仪器的图像采集处理及仪器控制

光学技术 2006年第z1期32卷 422-424页

作者：周秀荣尚凯文崔小虹邢冀川北京理工大学光电工程系北京100081

针对激光测距机三光轴平行度调校,提出了由CCD摄像机摄取激光光斑图像,然后用图像采集与处理方法计算白光十字线中心与光斑中心偏差的方法,并对选用的图像处理算法进行了论述。此外,采用可变固定衰减片方法测量激光测距机接收系统的灵... 详细信息

针对激光测距机三光轴平行度调校,提出了由CCD摄像机摄取激光光斑图像,然后用图像采集与处理方法计算白光十字线中心与光斑中心偏差的方法,并对选用的图像处理算法进行了论述。此外,采用可变固定衰减片方法测量激光测距机接收系统的灵敏度。以LabVIEW为软件平台,开发出检测激光光轴中心及控制衰减器的虚拟仪器系统。该系统具有直观形象,使用方便,可移植性强等优点。

关键词：虚拟仪器 LabVIEW 图像采集数字图像处理仪器控制

Tedlar复合材料表面飞秒激光刻蚀铝薄膜技术研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

中国激光 2021年第10期48卷 166-175页

作者：尚凯文吴敢刘孝丽杨建平王瑞兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室甘肃兰州730000 榆林学院能源工程学院陕西榆林719000

研究不同的工艺参数对Tedlar复合材料-铝薄膜(厚度为2μm)表面形貌的影响,理论优化得到合理的工艺参数。研究结果表明,单位时间内极多数量飞秒激光脉冲的积累作用,使得铝膜表面的作用区域温度在极短时间内快速升高并超过铝的熔点和气化... 详细信息

研究不同的工艺参数对Tedlar复合材料-铝薄膜(厚度为2μm)表面形貌的影响,理论优化得到合理的工艺参数。研究结果表明,单位时间内极多数量飞秒激光脉冲的积累作用,使得铝膜表面的作用区域温度在极短时间内快速升高并超过铝的熔点和气化温度,表面铝膜最终被刻蚀去除;当激光功率增大到5.5 W时,界面处温度达到了513.19 K,超过了基底Tedlar材料的最高使用温度,并在基底材料表面烧蚀产生点坑;当扫描速度从350 mm/s增大至600 mm/s时,出现的间断点尺寸从1.2μm增大到2.7μm,造成激光刻蚀加工尺寸误差高于10μm;在激光输出功率为4.0 W、光斑直径为40μm和扫描速率为500 mm/s的工艺条件下,铝膜图形激光刻蚀后尺寸精度及相对位置精度均优于10μm,满足技术要求。

关键词：激光光学 Tedlar复合材料飞秒激光刻蚀工艺参数铝膜仿真分析

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

纳米金刚石薄膜紫外探测器研究

真空科学与技术学报 2009年第S1期29卷 16-20页

作者：王兰喜陈学康王云飞郭晚土吴敢曹生珠尚凯文兰州物理研究所表面工程国防科技重点实验室甘肃兰州730000

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作了共平面MSM结构的紫外探测器。电荷-深能级瞬态谱(Q-DLTS)测试表明,纳米金刚石薄膜的带隙中引入了一个能... 详细信息

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作了共平面MSM结构的紫外探测器。电荷-深能级瞬态谱(Q-DLTS)测试表明,纳米金刚石薄膜的带隙中引入了一个能级,能级激活能E_a=0.134eV,俘获截面σ_s=2.81×10^(-22)cm^2,能级密度N_I～10^(12)cm^(-2)。利用脉冲氙灯作为光源对器件的紫外探测性能进行了测试,器件在10V偏压下的脉冲光电流峰值可达9μA,光电流的响应时间为ms量级。分析得出,纳米金刚石薄膜中存在的这个浅能级,由于其低的激活能和小的俘获截面起到非平衡载流子的陷阱作用,导致紫外探测器具有较慢的响应速度和较高的光电流。

关键词：纳米金刚石薄膜紫外探测器粗糙度深能级电荷-深能级瞬态谱

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

(100)面金刚石薄膜沉积的工艺参数研究

(100)面金刚石薄膜沉积的工艺参数研究

化学气相沉积金刚石薄膜的紫外脉冲准分子激光抛光

中国真空学会2008年学术年会

作者：尚凯文吴敢郭晚土王兰喜航天五院兰州510所

本文研究了不同工艺参数对金刚石薄膜(100)织构生长的影响。以 H和 CH的混合气体为气源,用微薄等离子体设备,在硅片上生长具有(100)面金刚石薄膜。分别采用了扫描电子显微镜(SEM)、Raman 光谱、X 射线衍射仪等对金刚石膜的表面形貌、质... 详细信息

本文研究了不同工艺参数对金刚石薄膜(100)织构生长的影响。以 H和 CH的混合气体为气源,用微薄等离子体设备,在硅片上生长具有(100)面金刚石薄膜。分别采用了扫描电子显微镜(SEM)、Raman 光谱、X 射线衍射仪等对金刚石膜的表面形貌、质量等进行具体分析。结果表明在适当的工艺参数下可以生长出具有低缺陷、表面平整致密,高质量的(100)面金刚石薄膜。

关键词：微波等离子体金刚石薄膜(100)晶面

来源： cnki会议评论

在线全文

cnki会议

学校读者我要写书评

暂无评论

化学气相沉积金刚石薄膜的紫外脉冲准分子激光抛光

中国真空学会2012学术年会

作者：王兰喜陈学康吴敢曹生珠尚凯文兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室

目前,在硅、石英等异质基底上利用化学气相沉积方法制备的金刚石薄膜多呈现出以(111)取向为主的多晶结构,晶粒粗大,而且金刚石薄膜的粗糙度可从几微米到几十微米,限制了金刚石薄膜在电子学、光学、热学及摩擦学上的应用。因此,抛光技术...

目前,在硅、石英等异质基底上利用化学气相沉积方法制备的金刚石薄膜多呈现出以(111)取向为主的多晶结构,晶粒粗大,而且金刚石薄膜的粗糙度可从几微米到几十微米,限制了金刚石薄膜在电子学、光学、热学及摩擦学上的应用。因此,抛光技术成为金刚石膜实用化的一项关键技术。目前的热化学抛光法、化学机械抛光法等接触式抛光方法存在易使金刚石膜受损并可能引入其它缺陷和杂质等缺点,限制了其应用范围。相比而言,激光抛光法属于非接触式抛光方法,能进行局部定点抛光和大面积扫描抛光,对样品形状无特别要求,具有高抛光速率的优点。为获得优良的抛光结果,激光抛光金刚石膜对参数的精确控制提出了较高的要求。本文采用波长为248nm的KrF脉冲准分子激光对厚度为250μm、均方根粗糙度为3.314μm的自支撑金刚石薄膜表面进行了抛光研究。研究了不同激光能量和不同的样品倾斜角度对金刚石薄膜表面抛光性能的影响。结果表明,在相同的样品倾斜角度和激光脉冲数条件下,金刚石薄膜表面粗糙度随激光能量的增加而降低,说明了抛光速率随激光能量的增加而增加。激光抛光金刚石过程中,金刚石是通过刻蚀、石墨化及烧蚀的机理被去除的,因此随着激光能量的升高,金刚石能够吸收更多的能量向石墨转化并被刻蚀除去。当固定激光能量和激光脉冲数而调节样品倾斜角度时发现,金刚石薄膜表面粗糙度随样品倾角增加先降低后升高。分析得出可能由于样品倾斜角度增加使得激光焦点在金刚石薄膜上的投影面积减小,相当于增加了激光能量密度,因此抛光速率变大,继续增加倾斜角度使得激光能量密度急剧增大,结果在金刚石薄膜表面形成较大的凹坑,反而使得金刚石的粗糙度增大。除此之外,金刚石薄膜抛光前后的拉曼谱线表明紫外脉冲准分子激光能有效去除金刚石薄膜中的非晶碳,这为提高金刚石薄膜质量提供了参考。

关键词：

来源： cnki会议评论

在线全文

cnki会议

学校读者我要写书评

暂无评论

TC4表面激光渗氮研究

真空与低温 2015年第3期21卷 173-176,180页

作者：王一龙俞伟元尚凯文兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室兰州730050 兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室兰州730000

以TC4合金为基材,利用连续激光器对表面激光渗氮,生成了金黄色的氮化层。用SEM,EDS,XRD对试样渗氮层的微观组织结构、元素分布以及物质组成进行了分析,结果表明生成了氮化钛的缺位式固溶体。表层由氮化层、热影响区及母材组成。渗氮层... 详细信息

以TC4合金为基材,利用连续激光器对表面激光渗氮,生成了金黄色的氮化层。用SEM,EDS,XRD对试样渗氮层的微观组织结构、元素分布以及物质组成进行了分析,结果表明生成了氮化钛的缺位式固溶体。表层由氮化层、热影响区及母材组成。渗氮层与基材之间处于完全冶金结合状态,结合力大,不易剥落。利用显微硬度仪对渗氮层进行硬度分析,表层硬度提高了4倍以上,显微硬度≥1000HV0.3的厚度超过100μm。

关键词：钛合金激光渗氮渗氮层

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

镁合金防腐涂层微观形貌及残余应力研究

热喷涂技术 2015年第1期7卷 50-55页

作者：靳磊周国栋姜春竹周海滨尚凯文北京航空制造工程研究所高能束流加工技术重点实验室北京100024 兰州空间技术物理研究所兰州730000

采用等离子喷涂在镁合金表面制备Al2O3基防腐陶瓷涂层,并对涂层激光重熔和热处理,研究涂层的形貌和表面残余应力。研究表明:激光重熔涂层粗糙度降低、表面致密度大大提高。激光重熔降低Al2O3涂层残余应力幅度44.76%,热处理降低11.12%,... 详细信息

采用等离子喷涂在镁合金表面制备Al2O3基防腐陶瓷涂层,并对涂层激光重熔和热处理,研究涂层的形貌和表面残余应力。研究表明:激光重熔涂层粗糙度降低、表面致密度大大提高。激光重熔降低Al2O3涂层残余应力幅度44.76%,热处理降低11.12%,激光重熔效果较热处理更为良好。Al2O3、Al2O3-13%Ti O2和Al2O3-40%Ti O2三种等离子喷涂制备态涂层残余应力分别为363.57MPa、304MPa、-202.38MPa,Al2O3-40%Ti O2具有最好的残余应力属性,有利于涂层服役寿命的提高。

关键词： Al2O3及其复合涂层激光重熔热处理残余应力等离子喷涂

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

纳米金刚石薄膜紫外探测器研究

纳米金刚石薄膜紫外探测器研究

空间天线用金属薄膜/有机材料结构脉冲激光刻蚀界面特性研究

中国真空学会2008学术年会

作者：王兰喜陈学康王云飞郭晚土吴敢曹生珠尚凯文兰州物理研究所表面工程国防科技重点实验室

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,制备了高表面光洁度(其表面的高度标准偏差约为8.6nm)的纳米金刚石薄膜,在其表面上制作了共平面MSM结构的紫外探测器。电荷-深能级瞬态谱(Q-DLTS)测试表明,纳米金刚石薄膜的带隙中引入了一个能级,能级激活能E=0.134eV,俘获截面σ=2.81×10cm,能级密度N～10cm。利用脉冲氙灯作为光源对器件的紫外探测性能进行了测试,器件在10V偏压下的脉冲光电流峰值可达9μA,光电流的响应时间为ms量级。分析得出,纳米金刚石薄膜中存在的这个浅能级,由于其低的激活能和小的俘获截面起到非平衡载流子的陷阱作用,导致紫外探测器具有较慢的响应速度和较高的光电流。

关键词：纳米金刚石薄膜紫外探测器粗糙度深能级电荷-深能级瞬态谱

来源： cnki会议评论

在线全文

cnki会议

学校读者我要写书评

暂无评论

真空与低温 2024年第5期30卷 522-527页

作者：王瑞格桑顿珠魏广杨建平胡汉军尚凯文吴敢兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室兰州730000

为了研究脉冲激光刻蚀过程中金属薄膜/有机材料界面的特性变化,以典型的有机材料聚酰亚胺(PolyImide,PI)为基底,通过物理气相沉积在其表面制备了1μm厚的金属Cu薄膜,分别采用短脉冲(100 ns)和超短脉冲(290 fs)激光刻蚀去除部分金属薄膜... 详细信息

为了研究脉冲激光刻蚀过程中金属薄膜/有机材料界面的特性变化,以典型的有机材料聚酰亚胺(PolyImide,PI)为基底,通过物理气相沉积在其表面制备了1μm厚的金属Cu薄膜,分别采用短脉冲(100 ns)和超短脉冲(290 fs)激光刻蚀去除部分金属薄膜,然后借助XPS、SEM等对刻蚀后的界面进行了表征分析,测试了样品高频段(4~18 GHz)的介电性能以及太阳光谱(200~2 000 nm)的透射性能。结果表明,纳秒和飞秒激光作用后,Cu/PI这种热物性相差很大的材料体系的界面特征存在共性和差异。共性体现在两种激光刻蚀后的介电常数和损耗因子值比刻蚀前均有小幅提升,这是由刻蚀过程中金属薄膜气化反向沉积的颗粒及界面处PI碳化在新表面上形成了一层很薄的介质薄膜引起的。差异性体现在界面微观形貌上,由于飞秒和纳秒激光的作用机制不同,飞秒激光刻蚀后界面浅表层形成了微孔洞结构,导致在500~2 000 nm可见/近红外波段透射率下降60%左右,而纳秒激光刻蚀后透射率没有明显变化。

关键词： Cu/PI薄膜激光刻蚀介电性能界面特性