(100)面金刚石薄膜沉积的工艺参数研究
作者单位：航天五院兰州510所
会议名称：《中国真空学会2008年学术年会》
会议日期：2008年
学科分类：07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学]
关 键 词：微波等离子体 金刚石薄膜(100)晶面
摘 要：本文研究了不同工艺参数对金刚石薄膜(100)织构生长的影响。以 H和 CH的混合气体为气源,用微薄等离子体设备,在硅片上生长具有(100)面金刚石薄膜。分别采用了扫描电子显微镜(SEM)、Raman 光谱、X 射线衍射仪等对金刚石膜的表面形貌、质量等进行具体分析。结果表明在适当的工艺参数下可以生长出具有低缺陷、表面平整致密,高质量的(100)面金刚石薄膜。