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多晶硅吸杂效能的研究
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固体电子学研究与进展 1995年 第3期15卷 293-298页
作者： 闵靖 陈一 宗祥福 李积和 姚保纲 陈青松 周志美 复旦大学材料科学研究所 上海硅材料厂
用透射电镜（ＴＥＭ）、扫描电镜（ＳＥＭ）和光学显微镜研究了淀积在单晶衬底上的多晶硅层的吸杂能力。研究显示多晶硅还存在两种吸杂的效能：一是能增强内吸杂；二是即使多晶硅在工艺流程中耗尽，在衬底中产生的层错和位错会继续起着... 详细信息
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当前国内外硅材料工业的发展趋势
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上海有色金属 1999年 第2期20卷 88-95页
作者： 姚保纲 上海硅材料厂
本文拟就当前国内外硅材料的市场情况及技术发展作一简介，以期使从事与关心硅材料工业的各界不为当前暂时困难受阻，而是看到我们的进步与差距。
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8寸硅片的时代开始
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国际冶金动态 1993年 第5期 31-32,F003页
作者： 姚保纲
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用萃取剂Kelex100提取镓
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国际冶金动态 1989年 第6期 4-5页
作者： 姚保纲
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硅外延S坑缺陷的研究
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固体电子学研究与进展 1999年 第2期19卷 221-225页
作者： 闵靖 邹子英 陈一 姚保纲 李积和 上海市计量测试技术研究院 上海微电子分析测试重点实验室 复旦大学材料科学研究所 上海硅材料厂
用扫描电镜、透射电镜和二次离子质谱研究了硅外延片中的Ｓ坑缺陷。在Ｓ坑缺陷中观察到一种线度比通常Ｓ坑更大的浅底坑缺陷。研究表明Ｓ坑缺陷分布在３～４μｍ深的外延表面层中，其结构为位错缠结及带有杂质沉淀的缺陷团。Ｓ坑缺陷起... 详细信息
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刷洗对硅单晶抛光片表面质量的影响
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上海有色金属 1998年 第3期19卷 106-109页
作者： 唐雪林 顾凯峰 姚保纲 上海硅材料厂 上海201617
本文研究了用SVG-18DWC双面擦片机刷洗经RCA工艺清洗后的硅单晶抛光片表面。结果表明：经SVG-18DWC双面擦片机刷洗后，抛光片的表面颗粒有明显的减少，经WISCR－80测试Φ100mm的抛光片，表面大于0.3μm的颗粒总数小于10个／片，而抛光... 详细信息
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增强吸杂的研究
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半导体杂志 1995年 第3期20卷 1-4,18页
作者： 闵靖 陈一 宗祥福 李积和 姚保纲 陈青松 周志美 复旦大学材料科学研究所 上海硅材料厂
研究了增强吸杂技术，它利用淀积在硅片背面的多晶硅的晶格无序和晶粒间界而起杂质吸除作用，同时它又能增强硅中的内吸杂。本文介绍利用ＬＰＣＶＤ淀积多晶硅制备吸杂硅片的工艺。并通过ＯＳ法，ＭＯＳ产生寿命和二次离子质谱（ＳＩＭ... 详细信息
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耐磨损的镍—硼涂层
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上海金属.有色分册 1987年 第2期 34-34页
作者： 姚保纲
Enthone公司采用Enplate NI-427工艺,用化学方法将一半光亮、平整,不含铊的镍—硼涂层沉积在例如碳钢、合金钢、铜合金、铝合金、不锈钢、钛合金、塑料、陶瓷和玻璃等衬底材料上。建议的沉积厚度高达0.01毫米。据报告,该涂层能抗磨损。... 详细信息
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感应等离子弧试验初获进展
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上海有色金属 1980年 第3期 1-1页
作者： 姚保纲
等离子技术的开发应用,为高温化工过程提供了一个有力的手段。为探索新的多晶硅生产工艺,上海半导体材料厂正进行感应等离子弧用于还原多晶硅的探讨。第一步工作着手进行氩核氢鞘型感应等离子弧的试验,采用组合式油冷石英灯距,国产 GP10... 详细信息
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单通道用的自焊接涂层
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上海金属 1987年 第2期 57-57页
作者： 姚保纲
Bondbronze是一种铜—铝合金涂层。这种涂层是用电弧喷涂在退火或淬火的碳钢、淬火的合金钢、不锈钢、铸铁等上面,以抗腐蚀和磨损。据说它在清洁的、未喷砂或喷过砂的表面上的结合强度比利用镍一铝粉放热反应混合剂所得到的结合强度要好。
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