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高效率光刻机系统设计

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电子工业专用设备 2019年第6期48卷 36-39页

作者：党景涛周庆奎李霖宫晨中国电子科技集团公司第四十五研究所

为满足芯片生产产能提升的需要,研制了一种高效率接触/接近式自动光刻机系统。通过关键零部件合理布局及局部高效动作设计提高了光刻机的生产效率,利用全周期动作时序图进行理论效率测算~160片/h(曝光时间为10 s),实验测试生产效率为一... 详细信息

为满足芯片生产产能提升的需要,研制了一种高效率接触/接近式自动光刻机系统。通过关键零部件合理布局及局部高效动作设计提高了光刻机的生产效率,利用全周期动作时序图进行理论效率测算~160片/h(曝光时间为10 s),实验测试生产效率为一次曝光280片/h,套刻效率为180片/h(曝光时间为10 s)。

关键词：光刻机系统设计生产效率

危害分析与关键控制点体系在鲜食苹果供应链中的应用研究

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食品研究与开发 2020年第18期41卷 131-134页

作者：齐彬周庆奎周建军闫师杰张爱琳刘翠翠天津农学院食品科学与生物工程学院天津300384 西青区精武镇农业发展服务中心天津300382 天津市建军果蔬种植专业合作社天津301708

该研究首次将危害分析与关键控制点(hazard analysis and critical control point,HACCP)体系基本原理用于鲜食苹果供应链安全管理过程,通过危害分析,确定4个关键控制点,包括种植过程、流通加工、贮藏运输及销售环节,并根据国家标准确... 详细信息

该研究首次将危害分析与关键控制点(hazard analysis and critical control point,HACCP)体系基本原理用于鲜食苹果供应链安全管理过程,通过危害分析,确定4个关键控制点,包括种植过程、流通加工、贮藏运输及销售环节,并根据国家标准确定符合性要求,最终构建鲜食苹果供应链HACCP安全管理体系,以最大限度保障鲜食苹果从农田到餐桌整个过程的安全性。

关键词：危害分析关键控制点鲜食苹果供应链危害分析与关键控制点计划

接触/接近式光刻UV-LED光源测试分析与工艺研究

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电子工业专用设备 2021年第1期50卷 1-4,33页

作者：陈威党景涛王河周庆奎庞超群中国电子科技集团公司第四十五研究所北京100176 杭州旻芯电子科技有限公司浙江杭州310000

通过对比混波UV-LED(Ultraviolet Light Emitting Diode)光源和单波UV-LED光源的性能和工艺实验,优化了混波UV-LED光源光刻工艺。光源性能主要对比了两种光源最大光照强度和光强均匀度,工艺实验选用不同光照强度15 mW/cm^(2)、20 mW/cm^... 详细信息

通过对比混波UV-LED(Ultraviolet Light Emitting Diode)光源和单波UV-LED光源的性能和工艺实验,优化了混波UV-LED光源光刻工艺。光源性能主要对比了两种光源最大光照强度和光强均匀度,工艺实验选用不同光照强度15 mW/cm^(2)、20 mW/cm^(2),不同曝光时间3 s和5 s,样片显影后通过光学显微镜观察样片线条形貌。结果表明:混波UV-LED光源相比单波UV-LED光源最大光照强度下降,从47.2 mW/cm^(2)降至32.8 mW/cm^(2),光强均匀度从97%降至95%。混波UV-LED光源真空复印模式下最优曝光工艺为光强20 mW/cm^(2),曝光时间3 s。

关键词：光刻机 UV-LED光源光刻工艺