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检索条件"作者=叶式中"
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半导体材料及其应用
半导体材料及其应用
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作者: 叶式中
来源: 南通市图书馆图书 评论
半导体材料及其应用  第1版
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1986年
作者: 叶式中 杨树人 康昌鹤
本书主要介绍半导体材料与器件的关系,特别对传感元件所使用的半导体材料作了较详细的介绍。
来源: 汇雅图书(南通市图书馆... 评论
用固溶强化模型计算InP中等价电子杂质对位错的钉扎力
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Journal of Semiconductors 1988年 第2期 150-155页
作者: 叶式中 杨保华 中国科学院半导体研究所 中国科学院半导体研究所 北京
本文根据固溶强化模型,考虑了等价电子杂质在InP单晶中的溶解度以及掺入杂质与基质原子之间共价半径之差引起的弹性失配.计算了这些杂质在InP 中对位错的钉扎力可达10;~10;达因/厘米;,从而很好地解释了等价电子杂质降低位错密度的作用.
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
化合物半导体功能材料
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功能材料 1986年 第5期 273-277页
作者: 康昌鹤 叶式中 副研究员 吉林大学电子科学系 科学院半导体研究所 室主任
一、前言随着工业和技术的发展,世界各国都重视材料科学的研究工作。目前对高功能性高分子材料、精细陶瓷材料、新金属材料、半导体功能材料以及各种复合材料进行积极的研究工作。下表示出日本对这几种材料的研究经费投资情况。
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
在锑化镓中掺入等电子杂质的研究
在锑化镓中掺入等电子杂质的研究
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首届中国功能材料及其应用学术会议
作者: 焦景华 余辉 叶式中 中国科学院半导体研究所
1引言锑化镓单晶材料是继砷化镓、磷化铟之后的重要光电器件衬底材料。它可以用于制做超长波激光器和探测器,激光波长可以在1.7到4.3μm范围内改变,与氟化物光纤相配合可以大幅度增加无中继光通讯的距离。另外,锑化镓和砷化镓相配合可...
来源: cnki会议 评论
半导体材料的新发展
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半导体情报 1992年 第6期29卷 1-5页
作者: 林兰英 叶式中 中国科学院半导体研究所 北京100083
近来,半导体科学主要的发展方向是制作高完整性和大面积杂质均匀的衬底材料和超薄外廷材料,并研究它们的特殊性能。本文主要对半导体材料的发展作一简单评述。
来源: 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
掺碲GaSb单晶材料电学性质的研究
掺碲GaSb单晶材料电学性质的研究
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首届中国功能材料及其应用学术会议
作者: 余辉 焦景华 叶式中 中国科学院半导体研究所
1前言GaSb单晶是光电器件的重要衬底材料,制做器件所需的载流子浓度一般在1×10、~3×10cm的范围内。N型GaSb是以Te作掺杂剂,由于Te的引入会使GaSb材料的电学特性发生变化。我们进行了变温霍尔测量,得出迁移率与温度、霍尔系数与温度...
来源: cnki会议 评论
掺铟低位错密度的半绝缘砷化镓
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Journal of Semiconductors 1987年 第2期 204-206+227页
作者: 林兰英 叶式中 何宏家 曹福年 中国科学院半导体研究所
掺等电子杂质铟生长了低位错密度的半绝缘砷化镓晶体.晶体中位错腐蚀坑密度达到约10;/cm;数量.晶体中没有观察到铟的微沉淀物.
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
等电子杂质Sb对InP中缺陷的影响
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Journal of Semiconductors 1990年 第4期11卷 253-257页
作者: 叶式中 杨保华 徐岭 中国科学院半导体研究所
用光致发光和正电子湮没技术研究了掺Sb InP单晶的“本征缺陷”。发现元素Sb的掺入导致磷空位(V_p)或者是V_p与杂质络合物的光致发光峰消失。用正电子湮没技术的测量也表明掺Sb的InP晶体中单空位浓度有所降低,两种方法测量的结果对应得... 详细信息
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大截面低位错水平法GaAs单晶研制
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稀有金属 1988年 第1期 36-39页
作者: 李庆辉 王继荣 何宏家 叶式中 中国科学院半导体研究所 营口市辽河电子材料厂
本文在水平生长 GaAs 单晶中首次应用了等电子掺杂技术,在制备大截面晶体进一步降低位错密度方面取得了显著效果。研制的 HB-12型单晶(100)片面积达到12cm~2,位错密度<500cm-2,研制的 HB-18型单晶(100)片面积达18cm~2,位错密度<5000cm-2。
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论