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退火温度对锗薄膜光学性能和表面结构的影响

稀有金属材料与工程 2022年第1期51卷 18-23页

作者：李坤熊玉卿王虎高恒蛟何延春周晖兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室甘肃兰州730000

研究了退火温度对电子束蒸发制备的锗薄膜光学性能和表面结构的影响规律。在硅基底上制备了厚度约850 nm的Ge薄膜,分别在350、400、450和500℃下进行退火。通过红外光谱仪测试了薄膜的透射率变化,采用光谱反演法得到了薄膜折射率和消光... 详细信息

研究了退火温度对电子束蒸发制备的锗薄膜光学性能和表面结构的影响规律。在硅基底上制备了厚度约850 nm的Ge薄膜,分别在350、400、450和500℃下进行退火。通过红外光谱仪测试了薄膜的透射率变化,采用光谱反演法得到了薄膜折射率和消光系数的变化规律,使用X射线衍射和原子力显微镜测试了样品的结晶特性和表面形貌。结果表明,与退火前的薄膜各项参数相比,退火后薄膜的透射率升高,而折射率和消光系数下降。当退火温度从350℃升高到500℃,透射率和折射率均逐渐减小,而消光系数逐渐变大。在400℃以上进行退火处理的薄膜出现结晶现象,Ge(111)晶面为择优生长取向。随着退火温度的升高,晶粒尺寸变大,薄膜表面出现颗粒状物质,并且表面粗糙度升高。

关键词：退火锗薄膜光学性能表面结构

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二氧化钒粉末制备工艺研究的现状和发展趋势

钢铁钒钛 2003年第2期24卷 61-64页

作者：郭宁何延春邱家稳兰州物理研究所甘肃兰州730000

二氧化钒是一种热致变色材料,能够在70℃附近发生可逆半导体—金属相变,基于此特性,二氧化钒有广泛的用途。文章综述了国内外各种二氧化钒粉末制备工艺的主要技术,并在此基础上,指出了二氧化钒粉末制备工艺研究的发展趋势。

关键词：二氧化钒粉末 VO2薄膜

非金属空位对TiN_(x)电子结构及导电性能影响的第一性原理研究

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稀有金属材料与工程 2024年第11期53卷 3205-3210页

作者：赵蒙周晖何延春贵宾华汪科良兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室甘肃兰州730000

TiN涂层因良好的耐腐蚀、导电性能在金属双极板改性领域被广泛应用。TiN沉积过程中易受制备条件影响而形成非金属空位,进而影响涂层性能。因此,本研究利用第一性原理方法计算了含有不同非金属空位量的TiN_(x)体系的电子结构,展开了非金... 详细信息

TiN涂层因良好的耐腐蚀、导电性能在金属双极板改性领域被广泛应用。TiN沉积过程中易受制备条件影响而形成非金属空位,进而影响涂层性能。因此,本研究利用第一性原理方法计算了含有不同非金属空位量的TiN_(x)体系的电子结构,展开了非金属空位对各TiN_(x)体系的晶体结构、能带结构、态密度、自由电子相对浓度及电荷布居影响研究。分析结果表明,随着非金属空位的形成,各TiN_(x)体系稳定性逐渐下降,非金属空位形成能逐渐升高。经计算,各TiN_(x)体系的自由电子相对浓度大小排序如下:TiN_(0.25)>TiN>TiN_(0.5)>TiN_(0.75)。TiN_(x)体系的导电能力主要由Ti原子3d轨道状态的金属化、N原子2p轨道贡献的减少以及N原子缺失导致晶胞体积减小等3个因素共同影响。

关键词： TiN_(x) 非金属空位第一性原理电子结构导电性能

Temperature coefficient of the refractive index for PbTe film

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Chinese Optics Letters 2017年第4期15卷 73-75页

作者：徐嶺茂周晖何延春张凯锋武生虎熊玉卿 Science and Technology on Vacuum Technology and Physics Laboratory Lanzhou Institute of PhysicsLanzhou 730001China

Specimens of PbTe single film are deposited on Ge substrates by vacuum thermal *** the temperature range of 80–300 K,the transmittance of a PbTe film within 2–15μm is measured every 20 K by the Perkin Elmer Fourier transform infrared spectroscopy cryogenic testing ***,the relationship between the refractive index and wavelength within 7–12μm at different temperatures is received by the full spectrum inversion method *** can be seen that the relationship conforms to the Cauchy formula,which can be ***,the relationship between the refractive index of the PbTe film and the temperature/wavelength can be expressed as n（λ,T）=5.82840-0.00304T＋4.61458×10-6T2＋8.00280∕λ2＋0.21544∕λ4,which is obtained by the fitting method based on the Cauchy ***,the designed value obtained by the formula and the measured spectrum are compared to verify the accuracy of the formula.

关键词： PbTe refractive fitting evaporation transmittance fitted verify Elmer Cauchy inversion

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石墨烯导热纸研究进展

材料导报 2023年第3期37卷 139-147页

作者：王兰喜何延春王虎吴春华李林兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室兰州730000

由于依靠声子进行热传导的特性,石墨烯具有异乎寻常的高热导率。理论和实验研究均已证明,单层石墨烯的热导率可达5000 W·m^(-1)·K^(-1)以上,是目前已知热导率最高的一种材料。然而,单层石墨烯由于厚度薄、片径小等几何尺寸上的原因而... 详细信息

由于依靠声子进行热传导的特性,石墨烯具有异乎寻常的高热导率。理论和实验研究均已证明,单层石墨烯的热导率可达5000 W·m^(-1)·K^(-1)以上,是目前已知热导率最高的一种材料。然而,单层石墨烯由于厚度薄、片径小等几何尺寸上的原因而很难在宏观尺度上获得实际应用。得益于化学方法制备高质量石墨烯粉体的快速发展,将石墨烯粉体制备成柔性的高导热石墨烯纸是近几年的热点研究方向之一。虽然石墨烯纸的面内热导率已经能够达到1000 W·m^(-1)·K^(-1)以上,但与单层石墨烯的热导率仍存在较大的差距,且纵向热导率低。近几年,科研人员从大尺寸石墨烯粉体的采用、石墨烯纸微观结构的优化、还原处理方法的改进、石墨烯与其他物质混合等方面进行了研究,在提高石墨烯纸的热导率上取得了比较显著的效果。本文综述了有关石墨烯纸的研究进展,介绍了石墨烯纸的制备方法,并分析影响石墨烯纸热导率的因素,讨论增强石墨烯纸热导率的方法,总结了提高石墨烯纸热导率的研究思路和发展趋势,最后展望了石墨烯纸在热管理领域的应用。

关键词：石墨烯导热纸石墨烯纸制备方法热导率影响因素热管理应用

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氟化钇薄膜的低温红外光学性能

中国表面工程 2019年第4期32卷 151-155页

作者：徐嶺茂何延春郑军熊玉卿周晖王多书兰州空间技术物理研究所真空技术与物理国防科技重点实验室兰州730001

采用离子束辅助电子束蒸发方法在硒化锌基底上制备氟化钇(YF3)单层650 nm薄膜样品,基于其空间低温应用环境,利用液氮杜瓦及傅里叶变换红外光谱仪建立的薄膜材料变温光学测试系统,测试了薄膜样品在80~300 K温度条件下,在1~15μm波长范围... 详细信息

采用离子束辅助电子束蒸发方法在硒化锌基底上制备氟化钇(YF3)单层650 nm薄膜样品,基于其空间低温应用环境,利用液氮杜瓦及傅里叶变换红外光谱仪建立的薄膜材料变温光学测试系统,测试了薄膜样品在80~300 K温度条件下,在1~15μm波长范围的光谱透射率。基于该测试结果,利用全光谱反演拟合方法对YF3薄膜在低温下的折射率变化情况进行了研究。结果表明,YF3薄膜折射率均随波长增大而减小,且在不同温度下变化趋势基本相同。基于Cauchy色散公式得到了YF3薄膜在低温下的折射率与波长及温度的关系表达式,其折射率温度系数dn/dT约为6.95×10−4K−1,对在任一低温下YF3薄膜折射率快速计算提供了一个较好的方法。最后通过比较该公式得到的在300 K与80 K温度下的设计值与实际测量值的结果验证了该折射率计算表达式的准确性。

关键词：光学薄膜氟化钇薄膜折射率系数低温光学性能

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对提高间歇扭结式糖果裹包机包糖速度的探讨

轻工机械 1987年第2期 17-22页

作者：何延春郑州轻工业学院

目前我国生产的间歇扭结式糖果裹包机,其类型有150,180,350-Ⅰ等,即包装速度依次为150粒/分,180粒/分,350粒/分等,而实际包装速度是90粒/分,160粒/分280粒/分,均达不到设计要求。间歇扭结式糖包机是主轴转一转,就包出一粒糖。一般说,提... 详细信息

目前我国生产的间歇扭结式糖果裹包机,其类型有150,180,350-Ⅰ等,即包装速度依次为150粒/分,180粒/分,350粒/分等,而实际包装速度是90粒/分,160粒/分280粒/分,均达不到设计要求。间歇扭结式糖包机是主轴转一转,就包出一粒糖。一般说,提高主轴转速就可以提高包糖速度,但是转速提高了,槽轮机构就出现了较严重的撞击,理糖速度也显得跟不上去。笔者针对这两个问题进行分析探讨,并提出相应有效的解决办法。

关键词：拨盘定位弧凹弧拨销裹包机槽轮机构间歇运动机构糖果食品

工艺参数对硫化锌薄膜光学性能和结晶特性的影响

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同方期刊数据库

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表面技术 2021年第6期50卷 184-192页

作者：李坤熊玉卿王虎何延春王兰喜周超周晖兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室兰州730000

目的研究离子源偏压和沉积温度的变化对硫化锌薄膜光学性能和结晶性能的影响规律。方法采用电子束蒸发技术,在K9玻璃基片上制备了硫化锌薄膜。采用分光光度计测试了薄膜的光学性能,利用光谱反演法得出薄膜的折射率和消光系数随波长的变... 详细信息

目的研究离子源偏压和沉积温度的变化对硫化锌薄膜光学性能和结晶性能的影响规律。方法采用电子束蒸发技术,在K9玻璃基片上制备了硫化锌薄膜。采用分光光度计测试了薄膜的光学性能,利用光谱反演法得出薄膜的折射率和消光系数随波长的变化规律。采用X射线衍射法测试薄膜的结晶状态。结果随着离子源偏压的增加,薄膜折射率逐渐减小,但变化幅度不大,当离子源偏压为160 V时,1000 nm波长处的薄膜折射率达到最小值2.210。开启加热之后,薄膜折射率显著提高,且随着沉积温度的升高,薄膜折射率逐渐增大,沉积温度为210℃时,1000 nm波长处薄膜折射率达到最大值2.312。两种工艺参数下制备的薄膜,其消光系数均很小。单纯的离子源辅助沉积时,薄膜生长择优取向是(220)晶向,而基底加热状态下沉积的薄膜生长择优取向是(111)晶向。随着离子源偏压增加,薄膜(220)峰的衍射强度降低。沉积温度越高,薄膜(111)峰的衍射强度越大。结论硫化锌薄膜的光学特性对沉积温度的变化更为敏感,离子源偏压和沉积温度的改变均能显著影响硫化锌薄膜的结晶状态。

关键词：电子束蒸发硫化锌薄膜偏压温度折射率结晶

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DC磁控溅射沉积WO_3电致变色薄膜

材料导报（纳米与新材料专辑） 2008年第1期22卷 318-320页

作者：何延春吴春华邱家稳兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室兰州730000

采用直流磁控反应溅射工艺制备了WO_3薄膜,在初始状态和注入Li离子后的平均透射率分别为83%和6%,变化接近77%,表明该WO_3薄膜样品具有很好的电致变色性能。根据薄膜的透射率和反射率分别计算了WO_3薄膜的光学带隙:非晶WO_3薄膜的带隙为3... 详细信息

采用直流磁控反应溅射工艺制备了WO_3薄膜,在初始状态和注入Li离子后的平均透射率分别为83%和6%,变化接近77%,表明该WO_3薄膜样品具有很好的电致变色性能。根据薄膜的透射率和反射率分别计算了WO_3薄膜的光学带隙:非晶WO_3薄膜的带隙为3.31eV,多晶WO_3薄膜的带隙为3.22eV。

关键词： DC磁控溅射 WO3 电致变色薄膜光学带隙