DC磁控溅射沉积WO_3电致变色薄膜
WO_3 Electrochromic Thin Film Deposited by DC Magnetron Sputtering作者机构:兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室兰州730000
出 版 物:《材料导报(纳米与新材料专辑)》 (MATERIALS REVIEW)
年 卷 期:2008年第22卷第1期
页 面:318-320页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:表面工程技术国家级重点实验室基金项目(9140C5403010704)
摘 要:采用直流磁控反应溅射工艺制备了WO_3薄膜,在初始状态和注入Li离子后的平均透射率分别为83%和6%,变化接近77%,表明该WO_3薄膜样品具有很好的电致变色性能。根据薄膜的透射率和反射率分别计算了WO_3薄膜的光学带隙:非晶WO_3薄膜的带隙为3.31eV,多晶WO_3薄膜的带隙为3.22eV。