检索结果-南通市图书馆

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

武汉大学加速器-透射电镜联机系统

核技术 2007年第9期30卷 777-780页

作者：宋搏郭立平黎明刘传胜叶明生付德君范湘军武汉大学物理学院加速器实验室武汉430072

本文介绍我国第一台加速器-电镜联机装置,该装置由一台2×1.7MV串列加速器、一台国产200kV离子注入机和一台日立H800型透射电子显微镜组成,并通过联机传输系统实现联机。目前离子束已进入电镜样品室,达到原位观测的要求。

关键词：加速器离子注入机电子显微镜联机原位

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

离化团簇束法制备c轴取向的ZnO薄膜

武汉大学学报（理学版） 2007年第3期53卷 333-336页

作者：杨种田柯贤文刘传胜郭立平付德君武汉大学物理科学与技术学院湖北武汉430072

为了探索低温可调控ZnO薄膜沉积技术,提出了一种新的ZnO薄膜制备方法,即离化团簇束(ICB)法,并自行设计研制了应用该方法制备ZnO薄膜的专门装置.采用超音速喷嘴获得高速锌原子团簇束,用Hall等离子体源产生氧离子束离化锌原子团簇,获得了... 详细信息

为了探索低温可调控ZnO薄膜沉积技术,提出了一种新的ZnO薄膜制备方法,即离化团簇束(ICB)法,并自行设计研制了应用该方法制备ZnO薄膜的专门装置.采用超音速喷嘴获得高速锌原子团簇束,用Hall等离子体源产生氧离子束离化锌原子团簇,获得了较高的离化率.在沉积过程中,可以通过调节衬底偏压、氩氧比、衬底加热温度等参数,来控制成膜的质量;应用这个装置成功地在硅衬底上制备的ZnO薄膜,经XRD和EDS检测,薄膜的c轴取向一致,Zn、O原子百分比接近于1∶1,成膜质量好.

关键词：离化团簇束技术 Hall离子源 ZnO薄膜

Influences of Bias Voltage and Target Current on Structure,Microhardness and Friction Coefficient of Multilayered TiAlN/CrN Coatings Synthesized by Cathodic Arc Plasma Deposition

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Plasma Science and Technology 2013年第6期15卷 582-585页

作者：阴明利田灿鑫王泽松付德君 College of Science Xi'an Technological University School of Physical Science and Technology and Key Laboratory of Artificial Nano-and Micro-materials of Ministry of Education Wuhan University

Multilayered TiAlN/CrN coatings have been synthesized on stainless steel substrates by cathodic arc plasma deposition using TiAl and Cr *** of the bias voltage,cathode current ratio ITiAl/ICr,and deposition pressure on the hardness and friction coefficient of the coatings were *** measurement revealed existence of two cubic phases,face-centercubic （Cr,Al）N and（Ti,Al）N,in the coatings deposited under various bias voltages except for the coating deposited at -400 V,which is *** hardness of the coatings was strongly dependent on the Itial/Icr ratio and deposition pressure,and reached a maximum of 33 GPa at an ITiAI/ICr ratio of 1.0 and a pressure of 1.0 *** incorporation of the element chromium can reduce the density of pinholes in the coatings and assist the optimization of deposition conditions for high quality TiAlN/CrN coatings.

关键词： TiAlN/CrN cathodic arc plasma hardness friction coefficient

离子源辅助电弧离子镀制备MoSx自润滑涂层

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

粉末冶金材料科学与工程 2018年第2期23卷 186-191页

作者：李助军刘怡飞田灿鑫杨兵付德君苏峰华广州铁路职业技术学院机械与电子学院广州510430 武汉大学加速器实验室武汉430072 华南理工大学机械与汽车工程学院广州510641

以Ar为输送气体,H_2S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si(100)和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H_2S流量对MoSx自润滑涂层结构及性能的影响,为电弧离子镀技术制备MoSx自润滑涂层积累... 详细信息

以Ar为输送气体,H_2S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si(100)和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H_2S流量对MoSx自润滑涂层结构及性能的影响,为电弧离子镀技术制备MoSx自润滑涂层积累实验数据。结果表明,H_2S流量对MoSx自润滑涂层的晶体结构、硬度及摩擦因数具有明显影响。随H_2S流量升高,MoSx自润滑涂层中Mo晶粒尺寸逐渐减小,没有明显的硫化物结晶相,MoSx涂层硬度逐渐减小,摩擦因数也逐渐减小,且均小于0.35(对磨材料硬质合金)。H_2S可以作为S源通过中空阴极离子源离化作用为MoSx自润滑涂层的制备提供S元素;电弧离子镀制备出的MoSx自润滑涂层为金属Mo纳米晶粒与非晶MoS、MoS_2组成的纳米复合结构。

关键词：自润滑涂层中空阴极弧光离子源电弧离子镀 MoSx涂层力学性能

Structural and Raman Analysis of Antimony-Implanted ZnMnO Films

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Plasma Science and Technology 2010年第1期12卷 92-94页

作者：柯贤文单福凯王广甫刘传胜付德君 Accelerator Laboratory Department of Physics and Department of Printing and PackagingWuhan University Growing Base for State Key Laboratory Qingdao University Key Laboratory of Beam Technology and Material Modification of Ministry of Education Beijing Normal University

Antimony ions were implanted into ZnMnO films grown on silicon （Si） by radio- frequency magnetron sputtering. The implanted samples were treated by rapid thermal annealing and investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray diffraction and Raman scattering. In the wurtzite of ZnMnO, both manganese （Mn） and stibium （Sb） substituted the lattice position of zinc （Zn）. The ZnMnO films were characterized by Raman scattering at 522 cm-1, attributed to a local vibration of Mn. After implantation with Sb ions, two new peaks 681 cm^-1 and 823 cm^-1 were observed in the ZnMnO films, as a result of ion-induced damage to the lattice.

关键词： Sb ion implantation ZnMnO structure Raman scattering

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

加速器—电镜联机系统

加速器—电镜联机系统

CrAlTiN及CrAlTiSiN纳米多层复合涂层的制备及力学性能

第三届全国加速器技术学术交流会

作者：郭立平付德君武汉大学加速器实验室

在武汉大学建立了我国第一台加速器—透射电镜联机装置,该装置由一台美国 GIC 公司2×1．7MV 串列加速器、一台国产200kV 离子注入机和一台日立 H800型透射电子显微镜组成,经自行设计的联机束流传输系统实现了联机。联机装置通过分散的...

在武汉大学建立了我国第一台加速器—透射电镜联机装置,该装置由一台美国 GIC 公司2×1．7MV 串列加速器、一台国产200kV 离子注入机和一台日立 H800型透射电子显微镜组成,经自行设计的联机束流传输系统实现了联机。联机装置通过分散的小分子泵机组抽气、长距离传输、巨型重物吸振和波纹管软连接等措施解决了加速器系统与电子显微镜之间的隔震问题。通过适当的离子光

关键词：

来源： cnki会议评论

在线全文

cnki会议

学校读者我要写书评

暂无评论

中国表面工程 2013年第1期26卷 20-26页

作者：付酮程闫少健田灿鑫杨兵黄志宏付德君武汉大学物理科学与技术学院武汉430072 武汉大学动力与机械学院武汉430072

以金属Cr和AlTi合金为靶材料,在沉积过程中引入SiH4气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CrAlTiN和CrAlTiSiN硬质涂层。通过X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)分析涂层的组织和形貌,结果表明:衬底偏压... 详细信息

以金属Cr和AlTi合金为靶材料,在沉积过程中引入SiH4气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CrAlTiN和CrAlTiSiN硬质涂层。通过X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)分析涂层的组织和形貌,结果表明:衬底偏压和反应气体流量对膜层的力学性能有较大影响,在优化条件下得到CrAlTiN涂层的硬度为29GPa。且CrAlTiSiN涂层为CrSiN和AlTiSiN组成的纳米多层复合涂层,随着SiH4流量的增加,薄膜中的硅含量明显增加,在优化条件下,涂层的显微硬度达到37GPa,摩擦因数为0.58。刀具涂层检测试验表明,涂覆CrAlTiN涂层的铣刀使用寿命可提高3倍,而CrAlTiSiN涂层较CrAlTiN涂层还会进一步提高刀具使用寿命。

关键词：多弧离子镀 CrAlTiSiN 纳米多层膜显微硬度摩擦因数

Design and experimental testing of a gas cluster ion accelerator

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Chinese Physics C 2017年第8期41卷 143-146页

作者：曾晓梅 Vasiliy Pelenovich 刘传胜付德君 Key Laboratory of Artificial Micro-and Nano-Materials of Ministry of Education and Hubei Nuclear Solid Physics Key Laboratory School of Physics and TechnologyWuhan UniversityWuhan 430072China

A gas cluster ion beam（GCIB） system with cluster energy up to 12 keV has been designed. To facilitate pumping of the nozzle chamber and increased pressure of the gas source up to 10 atm, pulse mode was used for the gas feeding. Argon was employed as the working gas. To separate monomers from clusters, both electromagnet and retarding electrode were utilized. A maximal pulsed cluster current of 90 nA has been achieved. The shape of pulsed ion beam currents has been analyzed in detail at different applied magnetic and retarding electric fields.

关键词： gas cluster ion beam flow visualization cluster mass separation retarding electrode

Instrumentation and application of the ion beam analysis line of the in situ ion beam system

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Nuclear Science and Techniques 2015年第1期26卷 19-24页

作者：黄志宏张早娣王泽松王浪平付德君 Accelerator Laboratory Key Laboratory of Artificial Micro- and Nano-Materials of Ministry of Education of ChinaSchool of Physics and Technology Wuhan University State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining Harbin Institute of Technology

An ion beam analysis system was established on a 1.7 MV tandem accelerator, enabling Rutherford backscattering(RBS), elastic recoil detection(ERD), nuclear reaction analysis(NRA) and channeling measurements. The system was tested by performing qualitative and quantitative analysis of Si, Ni/Si, Bi Fe O3:La/Si,Mo C/Mo/Si and Ti BN/Si samples. RBS of a Bi Fe O3:La film was used as system calibration. Tested by ion beam channeling, a Si(100) is of good crystallinity(χmin= 3.01%). For thin film samples, the measured thickness agrees well with simulation results by SIMNRA. In particular, composition of a Mo C/Mo/Si and Ti BN film samples were analyzed by RBS and non-Rutherford elastic backscattering.

关键词：离子束系统应用程序 Si(100) 分析线原位仪器弹性反冲探测 BiFeO3