检索结果-南通市图书馆

MBE同质外延生长Sn掺杂β-Ga2O3（010）薄膜的电子输运性质研究

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

人工晶体学报 2025年

作者：张子琦杨珍妮况思良魏盛龙徐文静陈端阳齐红基张洪良厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室杭州光学精密机械研究所中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室

本文研究了利用分子束外延技术生长的非故意掺杂（UID）和锡掺杂的β-Ga2O3同质外延薄膜的电子输运性质。薄膜载流子浓度范围为3.2×1016至2.9×1019cm-3，载流子浓度为3.2×1016cm-3的非故意掺杂薄膜显示出优异的室温迁移率，为125 cm2... 详细信息

本文研究了利用分子束外延技术生长的非故意掺杂（UID）和锡掺杂的β-Ga2O3同质外延薄膜的电子输运性质。薄膜载流子浓度范围为3.2×1016至2.9×1019cm-3，载流子浓度为3.2×1016cm-3的非故意掺杂薄膜显示出优异的室温迁移率，为125 cm2·V-1·s-1，在80 K时的峰值迁移率为875 cm2·V-1·s-1，达到了当前MBE生长的Ga2O3薄膜的先进水平。利用温度相关霍尔测试表征同质外延薄膜的电子输运性质，计算得到锡掺杂剂的激活能为76.2 meV。通过散射模型的拟合计算，分析了这一系列同质外延薄膜的电子散射性质，在低温到高温过程中，来自本征缺陷的电离杂质散射及晶体中阴阳离子库仑力的极性光学声子（POP）散射限制了迁移率的增长。

关键词： β-Ga O 外延薄膜掺杂激活能迁移率输运性质

激光多灰度图像标刻中自适应纹理模板及图像矫正算法的研究

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

中国激光 2004年第4期31卷 452-456页

作者：黄立华刘晓东齐红基华中科技大学激光技术与工程研究院湖北武汉430074 中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800

多灰度图像的激光标刻是目前激光标刻中研究最为活跃的内容之一 ,但目前多灰度标刻的软件主要存在标刻后图像不逼真、缺乏层次感且对失真图像矫正效果不理想等缺点 ,在利用 5× 5固定模板实现图像多灰度标刻的基础上 ,考虑到图像中相邻... 详细信息

多灰度图像的激光标刻是目前激光标刻中研究最为活跃的内容之一 ,但目前多灰度标刻的软件主要存在标刻后图像不逼真、缺乏层次感且对失真图像矫正效果不理想等缺点 ,在利用 5× 5固定模板实现图像多灰度标刻的基础上 ,考虑到图像中相邻像素点的灰度关系 ,对除边缘像素点外的每个像素点在 3× 3窗口范围内进行差分运算 ,提取该像素点在局域内的纹理特征 ,并据此来选择模板实现多灰度图像标刻。另外 ,利用拉格朗日二次抛物线插值法对输出图像的位置坐标进行矫正 ,矫正公式中x方向和y方向的最大畸变量分别为 80和 90 ,基本上能消除双振镜扫描引起输出图像几何畸变的影响。标刻的图像能很好地表现原图像的信息 ,且实现算法简单 ,图像质量得到了明显改善。

关键词：激光技术激光标刻自适应纹理模板畸变矫正双振镜扫描

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

高功率激光器光学元件镀膜前后评价参数探讨

中国激光 2010年第2期37卷 572-576页

作者：胡达飞邵淑英方明齐红基易葵中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料科学与技术重点实验室上海201800 中国科学院研究生院北京100049

利用ZYGO MarkⅢ-GPI干涉仪对120 mm×88 mm元件镀膜前后进行了面形测量,获得了峰谷值(PV)和均方根梯度(GRMS),并对镀膜前后的PV,GRMS值进行了比较,发现镀膜后PV,GRMS值分别有所增加,同时对两者进行了线性拟合,结果表明两者在一定程度... 详细信息

利用ZYGO MarkⅢ-GPI干涉仪对120 mm×88 mm元件镀膜前后进行了面形测量,获得了峰谷值(PV)和均方根梯度(GRMS),并对镀膜前后的PV,GRMS值进行了比较,发现镀膜后PV,GRMS值分别有所增加,同时对两者进行了线性拟合,结果表明两者在一定程度上存在着线性关系,并从理论上进行了模拟论证。同时对个别样品进行了功率谱密度(PSD)分析,发现镀膜后PSD曲线较镀膜前有所升高,这与基片的抛光程度以及镀膜过程有着密切联系。

关键词：表面光学表面形貌峰谷值均方根均方根梯度功率谱密度

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

非理想参数下193nm光学薄膜的设计

中国激光 2004年第4期31卷 477-481页

作者：袁景梅易葵齐红基范正修邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心上海201800

193nm光学薄膜是 10 0nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明 ,要镀制出反射率大于98 5 %的高反膜 ,必须将高折... 详细信息

193nm光学薄膜是 10 0nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明 ,要镀制出反射率大于98 5 %的高反膜 ,必须将高折射率材料的消光系数k控制在 0 0 0 34以内 ,同时膜层表面的粗糙度σ控制在 1nm以内。膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响 ,要减少膜层水吸收的影响 ,就必须提高薄膜的致密度 ,采用离子成膜技术 ,或者改变膜层的使用环境。在考虑相关因素的前提下 ,设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜。

关键词：薄膜技术 193nm光学薄膜光刻机消光系数水吸收表面粗糙度

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

倾斜沉积“雕塑”薄膜结构参数优化分析

光学学报 2010年第1期30卷 287-293页

作者：齐红基王晴云肖秀娣易葵贺洪波范正修中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 上海大恒光学精密机械有限公司上海201800

基于双轴双折射薄膜模型,利用在不同入射角度下薄膜对两种偏振态光波透射光谱,同时获得"雕塑"薄膜主轴折射率N1,N2,N3和薄膜厚度d及柱状角β等参数。基于倾斜沉积技术,利用电子束反应蒸发方法制备了氧化钽"雕塑"薄膜。借助于模拟退火算... 详细信息

基于双轴双折射薄膜模型,利用在不同入射角度下薄膜对两种偏振态光波透射光谱,同时获得"雕塑"薄膜主轴折射率N1,N2,N3和薄膜厚度d及柱状角β等参数。基于倾斜沉积技术,利用电子束反应蒸发方法制备了氧化钽"雕塑"薄膜。借助于模拟退火算法,对入射角度为0,20°,30°,45°和60°时两种偏振态光波的透射光谱进行拟合,确定了氧化钽"雕塑"薄膜的结构参数,并与场发射扫描电镜测量的薄膜结构进行了比较。结果表明,利用透射光谱曲线可以较为准确地获得"雕塑"薄膜的结构参数。

关键词：薄膜结构参数提取倾斜沉积技术模拟退火算法 “雕塑”薄膜

自掺杂二氧化钛薄膜的结构、光谱和光催化性能（英文）

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

稀有金属材料与工程 2019年第12期48卷 3841-3845页

作者：靳亚雪王斌齐红基朱茂东中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室上海201800 中国科学院大学北京100049

采用电子束蒸发系统制备氧化钛薄膜并分别在氢气和空气中退火,在氢气中退火的样品由于其稳定性强,能在空气中保持淡黄色将近一年。对氧化钛薄膜的结构,形貌,光谱和光催化性能进行详细讨论。结果表明,在氢气中退火的薄膜比在空气中退火... 详细信息

采用电子束蒸发系统制备氧化钛薄膜并分别在氢气和空气中退火,在氢气中退火的样品由于其稳定性强,能在空气中保持淡黄色将近一年。对氧化钛薄膜的结构,形貌,光谱和光催化性能进行详细讨论。结果表明,在氢气中退火的薄膜比在空气中退火的薄膜具有更好的光催化性能,氢气中退火的样品通过Ti3+掺杂能很好地调控电子结构从而提高光催化效率。Ti3+的存在缩小了带隙。

关键词：自掺杂二氧化钛薄膜材料特征光催化性能

反应电子束蒸发HfO2薄膜的结构、光学、化学和抗激光损伤特性

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

中国激光 2020年第4期47卷 162-168页

作者：余振张伟丽朱瑞齐红基中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室上海201800 中国科学院大学材料与光电研究中心北京100049 中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室上海201800

采用反应电子束蒸发技术在不同氧分压下制备了HfO2薄膜,并采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、椭圆偏振仪、X射线光电子能谱仪、1064 nm弱吸收测试仪、1064 nm激光1-on-1损伤测试系统等,对HfO2薄膜的结构、光学性能、化学组分、吸收性能... 详细信息

采用反应电子束蒸发技术在不同氧分压下制备了HfO2薄膜,并采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、椭圆偏振仪、X射线光电子能谱仪、1064 nm弱吸收测试仪、1064 nm激光1-on-1损伤测试系统等,对HfO2薄膜的结构、光学性能、化学组分、吸收性能、抗激光损伤特性和损伤形貌等进行了表征和分析。当沉积温度为200℃时,所制备的HfO2薄膜为单斜多晶结构,晶粒尺寸约为10 nm。随着氧分压升高,薄膜的氧化程度随之增大,由化学计量比缺陷主导的薄膜1064 nm弱吸收系数变小,同时薄膜结构变得疏松,折射率随之降低。深入研究后发现,在采用反应电子束蒸发技术制备HfO2薄膜时,提高氧分压有助于抑制膜内纳米吸收缺陷和基底亚表面裂纹,提高HfO2薄膜抗1064 nm激光损伤阈值,对制备出基于HfO2薄膜的高性能光学元器件具有重要的参考价值。

关键词：薄膜反应蒸发氧分压抗激光损伤特性

Kuramoto-Sivashinsky与Karda-Parisi-Zhang模型中生长界面分形特性研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

物理学报 2003年第11期52卷 2743-2749页

作者：齐红基黄立华邵建达范正修中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800

在 (2 +1)维情况下 ,利用数值模拟研究了Kuramoto Sivashinsky (K S)与Karda Parisi Zhang (KPZ)模型所决定的非平衡态界面生长演化过程 .结果表明 ,KPZ与K S模型都表现出明显的时间和空间标度特性 .相对于KPZ模型而言 ,K S模型所对应... 详细信息

在 (2 +1)维情况下 ,利用数值模拟研究了Kuramoto Sivashinsky (K S)与Karda Parisi Zhang (KPZ)模型所决定的非平衡态界面生长演化过程 .结果表明 ,KPZ与K S模型都表现出明显的时间和空间标度特性 .相对于KPZ模型而言 ,K S模型所对应的表面具有更明显的颗粒特征 ,当生长时间较长时 ,生长界面呈现蜂窝状结构 .通过数值相关分析得到了生长界面的粗糙度指数、生长指数和动态标度指数等参数 .从两种模型对应的表面形貌特征和表面参数来看 ,在 (2 +1)维情况下 ,KPZ与K S模型所决定的表面具有完全不同的动态标度行为 ,属于不同的两类物理模型 .

关键词： Kuramoto-Sivashinsky模型 Karda-Parisi-Zhang模型数值模拟生长界面分形特性统计参数生长指数粗糙度指数

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

相移Rugate薄膜空间滤波器的设计

中国激光 2014年第10期41卷 170-175页

作者：章瑛易葵齐红基邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 中国科学院大学北京100049

介绍了相移Rugate薄膜空间滤波器的基本结构和原理,设计了相移Rugate薄膜滤波器,根据实际制备的条件进行了误差分析,给出了制备技术需要达到的精度和所需要的薄膜材料的消光系数,计算了相应的损耗,并分析了空间滤波器内部的电场分布。

关键词：薄膜相移空间滤波器消光系数