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CVD工艺中气体流型的研究

功能材料 2004年第Z1期35卷 2792-2794,1799页

作者：汪飞琴苏小平鲁泥藕北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088 北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088 北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与制备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室... 详细信息

化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与制备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化,分析流型对沉积过程的影响.

关键词：化学气相沉积体材料稳定性均匀性流型

热等静压(HIP)对CVDZnS光学性能的影响

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稀有金属 2003年第6期27卷 706-708页

作者：付利刚苏小平余怀之霍承松宋睿丰石红春鲁泥藕北京有色金属研究总院红外材料研究所北京100088

对化学气相沉积 (CVD)ZnS经热等静压 (HIP)处理前后在光学透过率等方面的改变进行了比较分析。针对温度、原生样品厚度等因素对样品性能的影响做了详细阐述。实验表明 ,热等静压对原生CVDZnS光学性能有促进作用 ,随处理温度的升高 ,透... 详细信息

对化学气相沉积 (CVD)ZnS经热等静压 (HIP)处理前后在光学透过率等方面的改变进行了比较分析。针对温度、原生样品厚度等因素对样品性能的影响做了详细阐述。实验表明 ,热等静压对原生CVDZnS光学性能有促进作用 ,随处理温度的升高 ,透过率在 10 10～ 10 5 0℃之间出现峰值 ;原生样品厚度的影响不容忽视 ,导热均匀的薄样品晶粒均匀且尺寸较大 ,光学及力学性能要好于厚样品。

关键词：化学气相沉积ZnS(CVD) 热等静压(HIP) 透过率

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大功率激光窗口ZnSe的制备原理及方法

功能材料 2004年第Z1期35卷 246-248页

作者：鲁泥藕余怀之霍承松汪飞琴石红春北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088 北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088 北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088 北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088 北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

比较了四种适用于作CO2激光器窗口的材料,Ge、KCl、GaAs和ZnSe,指出ZnSe是大功率激光器最理想的窗口材料,并列举了3种ZnSe的制备原理及方法,阐述了CVD方法制备多晶ZnSe的过程.

关键词：窗口材料透过率 ZnSe 化学气相沉积

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CVD方法制备ZnSe系统中尾气的处理

稀有金属 2005年第5期29卷 738-741页

作者：石红春朱时珍鲁泥藕霍承松赵永田杨海北京理工大学材料科学与工程学院北京100081 北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

CVDZnSe是目前光学性能最好的红外光学材料之一。但在制备CVDZnSe时,尾气中未反应完全的剧毒硒化氢气体,对操作人员及环境的危害很大。采用逆流填料塔来吸收CVD方法制备ZnSe系统中的剧毒尾气硒化氢。为加快传质速率,提高吸收率,选用NaO... 详细信息

CVDZnSe是目前光学性能最好的红外光学材料之一。但在制备CVDZnSe时,尾气中未反应完全的剧毒硒化氢气体,对操作人员及环境的危害很大。采用逆流填料塔来吸收CVD方法制备ZnSe系统中的剧毒尾气硒化氢。为加快传质速率,提高吸收率,选用NaOH溶液作吸收液;利用H2Se气体与此溶液反应,降低气体在水溶液中的浓度,加大传质推动力;选择了具有高效分离因子的填料以减小塔身的高度和直径。并且对循环吸收液进行氧化,双重过滤等处理。最后用型号为TX-FMD的H2Se检测仪测量处理后的尾气中H2Se气体的含量,达到排放要求。

关键词： H2Se气体逆流填料塔化学吸收传质

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CVD工艺中气体流型的研究

CVD工艺中气体流型的研究

第五届中国功能材料及其应用学术会议

作者：汪飞琴苏小平鲁泥藕北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司

化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与114备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室... 详细信息

化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与114备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化,分析流型对沉积过程的影响.

关键词：化学气相沉积体材料稳定性均匀性流型

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大功率激光窗口ZnSe的制备原理及方法

大功率激光窗口ZnSe的制备原理及方法

热等静压(HIP)过程对CVD ZnS显微结构的影响

第五届中国功能材料及其应用学术会议

作者：鲁泥藕余怀之霍承松汪飞琴石红春北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司

关键词：窗口材料透过率 ZnSe 化学气相沉积

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热等静压(HIP)过程对CVD ZnS显微结构的影响

第四届中国功能材料及其应用学术会议

作者：宋睿丰余怀之霍承松黄万才鲁泥藕北京有色金属研究总院红外材料研究所

本文通过测量热等静压(HIP)前后CVD ZnS的光学透过率,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVD ZnS 和经热等静压(HIP)处理后的CVD ZnS 的显微结构和晶体结构进行了分析。根据热等静压(HIP)处理前后CVD ZnS 光学透过率和材... 详细信息

本文通过测量热等静压(HIP)前后CVD ZnS的光学透过率,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVD ZnS 和经热等静压(HIP)处理后的CVD ZnS 的显微结构和晶体结构进行了分析。根据热等静压(HIP)处理前后CVD ZnS 光学透过率和材料内部显微结构的不同,分析了热等静压过程提高CVD ZnS 光学性能的原因。

关键词： CVDZnS 热等静压透过率

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大口径多光谱ZnS头罩的研制

红外与激光工程 2008年第4期37卷 719-722页

作者：霍承松杨海付利刚石红春鲁泥藕赵永田魏乃光孙加滢余怀之苏小平北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

多光谱ZnS是一种综合性能优异的红外光学材料,在长波红外及多波段红外探测成像系统中被广泛应用。化学气相沉积和热等静压后处理是制备多光谱ZnS材料的关键技术。介绍了化学气相沉积工艺和热等静压处理工艺制备多光谱ZnS的工艺原理及沉... 详细信息

多光谱ZnS是一种综合性能优异的红外光学材料,在长波红外及多波段红外探测成像系统中被广泛应用。化学气相沉积和热等静压后处理是制备多光谱ZnS材料的关键技术。介绍了化学气相沉积工艺和热等静压处理工艺制备多光谱ZnS的工艺原理及沉积大口径头罩的结构设计;报道了研制成功的270mm大口径多光谱ZnS头罩。经测试分析,头罩的全波段透过率均已接近理论水平、吸收系数≤0.01cm-1、折射指数均匀性达到2.2×10-5、硬度160kg/mm2、抗弯强度70MPa、断裂韧性1.0MPa·m1/2。与美国Rohm&Haas公司的多光谱ZnS产品相比,该头罩的主要性能指标与其处于同一水平。

关键词：多光谱ZnS 大口径头罩

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CVD复制技术制备ZnS头罩

红外与激光工程 2007年第Z2期36卷 133-135页

作者：鲁泥藕霍承松付利刚石红春孙加滢杨海北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

为减轻生产、加工难度和减少材料浪费,提出了CVD复制技术制备ZnS头罩的方法。着重阐述了衬底和CVD过程对复制ZnS头罩的影响,并列举了复制ZnS头罩时衬底材料的要求。

关键词： CVD复制 ZnS头罩衬底过程